研究生: |
楊 容 |
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論文名稱: |
基於三正丁基與三乙烯基架構的六錫光阻材料設計與其在E-beam微影中的應用探討 Design of a Hexatin-Based Photoresist with Tri-n-butyl and Tri-vinyl Framework for E-beam Lithography Applications |
指導教授: |
劉瑞雄
Liu, Rai-Shung |
口試委員: |
吳典霖
Wu, Tien-Lin 許博淵 Shew, Bor-Yuan |
學位類別: |
碩士 Master |
系所名稱: |
理學院 - 化學系化學組 化學系化學組(eng) |
論文出版年: | 2025 |
畢業學年度: | 113 |
語文別: | 英文 |
論文頁數: | 122 |
相關次數: | 點閱:27 下載:0 |
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