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研究生: 楊 容
論文名稱: 基於三正丁基與三乙烯基架構的六錫光阻材料設計與其在E-beam微影中的應用探討
Design of a Hexatin-Based Photoresist with Tri-n-butyl and Tri-vinyl Framework for E-beam Lithography Applications
指導教授: 劉瑞雄
Liu, Rai-Shung
口試委員: 吳典霖
Wu, Tien-Lin
許博淵
Shew, Bor-Yuan
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 理學院 - 化學系化學組
化學系化學組(eng)
論文出版年: 2025
畢業學年度: 113
語文別: 英文
論文頁數: 122
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  • 無法下載圖示 全文公開日期 2030/08/11 (校內網路)
    全文公開日期 2030/08/11 (校外網路)
    全文公開日期 2030/08/11 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)
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