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| 研究生： |
陳忠樂 Chen, Chung Ler |
|---|---|
| 論文名稱： |
於微影製程中CD控制之穩健設計應用(以TMSC為例) Application of Robust Design to the Control of Critical Dimension in Window Photolithography of IC Manufacturing (TSMC Case) |
| 指導教授： |
黎正中
Li, Chang Chung |
| 口試委員: | |
| 學位類別： |
碩士 Master |
| 系所名稱： |
工學院 - 工業工程與工程管理學系 Department of Industrial Engineering and Engineering Management |
| 畢業學年度： | 83 |
| 語文別： | 中文 |
| 中文關鍵詞： | 微影製程、穩健設計、線寬微距控制 |
| 外文關鍵詞： | window photolithography;robust design;critical dimension control |
| 相關次數： | 點閱：90 下載：0 |
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微影製程(Window Photolithography)是產生IC佈局的製造過程，在整個
微影製程中容易發生擺盪效應(Swing Effect),近接效應(Proximity
Effect)及機能窗(Process Window)等三個問題，這三個問題嚴重地影響
光阻影像的線寬與結構剖面，因而造成了線寬微距控制(CD Control
Critical Dimension Control ,)的偏誤,使得IC晶片品質不良。因此,為
了改善微影製程的條件,我們應用了田口玄一博士所倡導的穩健設計方法
(Robust Design) 來使整個微影製程達到穩健性,透過穩健設計來求取最
佳的可控制因子水準組合,使微影製程的機能特性對於雜音的敏感程度降
至最低,以改善影響線寬微距控制的三個問題。穩健設計方法與其他統計
實驗設計方法最大的不同在於 其運用內側直交表(可控直交表)(Inner
Array) 與外側直交表 (誤差直交表)(Outer Array)來進行實驗及利用S/N
比作實驗分析，同時直交表實驗法提供了一個低成本高效益分析實驗因子
效果之方法，而S/N比則是製程變異的衡量
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