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研究生: 陳淑惠
Chen, Shu Hui
論文名稱: 無電鍍鎳凸塊及鎳粉的無電鍍銅
Electroless Nickel Bumps and Electroless Copper Plating of Nickel powders
指導教授: 李定粵
Lee, Ting Yueh
口試委員:
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 工學院 - 化學工程學系
Department of Chemical Engineering
畢業學年度: 82
語文別: 中文
中文關鍵詞: 無電鍍鎳, 無電鍍銅
外文關鍵詞: electroless Nickel, electroless Copper
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  • 本研究範圍是先對矽晶片作好前處理, 再進行無電鍍鎳凸塊。凸塊之 以
    大小均勻、位置精確為主,故用高精度之正光阻劑,以影像轉移方 圖形

    並以均勻性佳之無電鍍鎳製成內應力小的凸塊,凸塊的高低與之厚度、鍍

    的時間長短、鍍液之控制有關。關於鎳粉的無電鍍銅。在鎳粉無電鍍一層

    薄薄的銅,目的是要利用鎳粉的磁性及薄層無電鍍銅的高導電率,將其攙

    入膠後,再將此導電膠敷在已凸塊化的晶粒上,利用磁場聚集導電膠內的

    金屬粉粒於凸塊處。當聚集的金屬粉粒愈多,則有助於提高導電膠之良率

    及導電能力。此聚集金屬粉技術可應用在表面黏著元件與印刷電路板間接

    合,而 COG技術可應用怕高讀犒q子產品如LCD 。單向導電膠的技術可製

    造高密度電路板,促進半導升級。


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