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| 研究生： |
譚竣元 Tan, Chun-Yuan |
|---|---|
| 論文名稱： |
閘堆疊處理與鍺縮合對鰭式電晶體與矽鍺金氧半電晶體之電特性影響研究 Effects of Gate Stack Treatments and Ge Condensation on Electrical Characteristics in FinFET and SiGe MOSFET |
| 指導教授： |
張廖貴術
Chang-Liao, Kuei-Shu |
| 口試委員: |
趙天生
Chao, Tien-Sheng 羅廣禮 Luo, Guang-Li |
| 學位類別： |
碩士 Master |
| 系所名稱： |
原子科學院 - 工程與系統科學系 Department of Engineering and System Science |
| 論文出版年： | 2022 |
| 畢業學年度： | 110 |
| 語文別： | 中文 |
| 論文頁數： | 125 |
| 相關次數： | 點閱：2 下載：0 |
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全文公開日期 2027/07/25 (校內網路)全文公開日期 2027/07/25 (校外網路)