新型鋅與鎘金屬錯合物的合成及其在化學氣相沈積的應用研究

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研究生：	張永昌
論文名稱：	新型鋅與鎘金屬錯合物的合成及其在化學氣相沈積的應用研究
指導教授：	季昀
口試委員:
學位類別：	碩士 Master
系所名稱：	理學院 - 化學系 Department of Chemistry
論文出版年：	2004
畢業學年度：	93
語文別：	中文
論文頁數：	86
中文關鍵詞：	氧化鋅、氧化鎘、化學氣相沉積
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本篇論文為研究新型鋅與鎘金屬錯合物的合成、性質探討與其在化學氣相沈積的應用。我們合成六氟戊二酮亞胺類化合物1六氟醇胺類化合物2，將此二種化合物製成鹽類與氯化鋅氯化鎘反應，可得到具揮發性且在室溫環境下穩定的錯合物3、4、5、6，這些錯合物的性質將再本論文中一一討論。
我們將這些錯合物作為化學氣相沈積的前驅物，以熱壁式反應器在矽基板(Si(100))上沈積氧化鋅或氧化鎘的薄膜，所有薄膜皆由化學能譜儀、掃描式電子顯微鏡和粉末繞射儀進行分析與鑑定，並在本論文中討論其結果。

第一章、序論﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒ 1
第一節、氧化鋅與氧化鎘的特性與應用﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒ 1
第一部分：氧化鋅﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒ 1
第二部分：氧化鎘﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒ 1
第二節、化學氣相沈積﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒ 3
第三節、文獻回顧﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒ 8
第一部分：氧化鋅﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒ 8
第二部分：氧化鎘﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒11
第四節、本文目的﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒14
第二章、實驗部分﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒15
第一節、一般敘述﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒15
一、藥品﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒15
二、分析工具﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒15
1.核磁共振光譜﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒15
2.質譜分析﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒16
3.元素組成分析﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒16
4.X-ray 單晶繞射﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒16
5.熱重量分析/差示熱分析儀 ﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒17
6.場發射槍掃描式電子顯微鏡﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒17
7.電子能譜儀 (ESCA)﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒18
8.X-ray 粉末繞射﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒18
第二節、實驗步驟﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒20
一、配位基的合成﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒20
β-ketoimine CF3C(OH)=CCH(CF3)=NCH2CH2NMe2 (1)化合物的合成﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒20
Amino alcohol (CF3)2C(OH)CH2NHCH2CH2NMe2 (2)化合物的合成﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒22
二、鋅金屬錯合物的合成﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒24
Zn(CF3C(OH)=CCH(CF3)=NCH2CH2NMe2)2 (3)的合成﹒﹒﹒﹒24
Zn((CF3)2C(OH)CH2NHCH2CH2NMe2)2 (4)的合成﹒﹒﹒﹒﹒﹒25
三、鎘金屬錯合物的合成﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒28
Cd(CF3C(OH)=CCH(CF3)=NCH2CH2NMe2)2 (5)的合成﹒﹒﹒﹒28
Cd((CF3)2C(OH)CH2NHCH2CH2NMe2)2 (6)的合成﹒﹒﹒﹒﹒﹒30
第三節、化學氣相沈積製備氧化鋅或氧化鎘薄膜﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒32
一、晶圓的清洗﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒32
二、玻璃的清洗﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒33
三、化學氣相沈積鍍製氧化鋅或氧化鎘薄膜﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒34
第三章、結果與討論﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒36
第一節、鎘金屬錯合物的結構性探討﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒36
一、Cd(CF3C(OH)=CCH(CF3)=NCH2CH2NMe2)2 (5)結構性討論﹒﹒36
二、Cd((CF3)2C(OH)CH2NHCH2CH2NMe2)2 (6)結構性討論﹒﹒﹒﹒41
第二節、鋅與鎘錯合物物理性探討﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒46
一、錯合物鋅3、4性質的探討﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒46
二、錯合物鎘5、6性質探討﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒49
第三節、氧化鋅與氧化鎘薄膜的探討﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒52
一、氧化鋅薄膜的探討﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒55
二、氧化鎘薄膜的探討﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒68
第四章、結論﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒82
第五章、參考文獻﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒83

<圖目錄>
圖(一)、化學氣相沈積反應﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒ 4
圖(二)、四種可能發生沈積反應的位置﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒ 5
圖(三)、熱壁式化學氣相沈積示意圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒ 6
圖(四)、冷壁式化學氣相沈積示意圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒ 6
圖(五)、本實驗所使用之熱壁式化學氣相沉積反應器示意簡圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒35
圖(六)、化合物 (5) 的ORTEP 圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒40
圖(七)、化合物 (6) 的ORTEP 圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒45
圖(八)、化合物 (3) 的TG/DTA圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒47
圖(九)、化合物 (4) 的TG/DTA圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒48
圖(十)、化合物 (3)、(4) 的TG比較圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒48
圖(十一)、化合物 (5) 的TG/DTA圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒50
圖(十二)、化合物 (6) 的TG/DTA圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒50
圖(十三)、化合物 (5)、(6) 的TG比較圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒51
圖(十四)、薄膜編號3-a (350 ℃) ESCA光譜圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒57
圖(十五)、薄膜編號3-b (400 ℃) ESCA光譜圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒57
圖(十六)、薄膜編號3-c (450 ℃) ESCA光譜圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒58
圖(十七)、薄膜編號3-b (400 ℃) 30º側視 SEM 圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒58
圖(十八)、薄膜編號3-b (400 ℃)側視 SEM 圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒59
圖(十九)、薄膜編號3-a、3-b、3-c XRD比較圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒59
圖(二十)、薄膜編號4-a (350 ℃) ESCA光譜圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒62
圖(二十一)、薄膜編號4-b (400 ℃) ESCA光譜圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒62
圖(二十二)、薄膜編號4-c (450 ℃) ESCA光譜圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒63
圖(二十三)、薄膜編號4-a (350 ℃) 30º 側視 SEM圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒63
圖(二十四)、薄膜編號4-b (400 ℃) 正視SEM圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒64
圖(二十五)、薄膜編號4-b (400 ℃) 30º 側視 SEM圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒64
圖(二十六)、薄膜編號4-b (400 ℃) 側視SEM圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒65
圖(二十七)、薄膜編號4-c (450 ℃) 正視SEM圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒65
圖(二十八)、薄膜編號4-c (450 ℃)  30º側視SEM圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒66
圖(二十九)、薄膜編號4-c (450 ℃) 側視SEM圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒66
圖(三十)、薄膜編號4-a、4-b、4-c XRD比較圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒67
圖(三十一)、薄膜編號5-a (350 ℃) ESCA光譜圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒69
圖(三十二)、薄膜編號5-b (400 ℃) ESCA光譜圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒70
圖(三十三)、薄膜編號5-c (450 ℃) ESCA光譜圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒70
圖(三十四)、薄膜編號5-a、5-b、5-c XRD比較圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒71
圖(三十五)、薄膜編號6-a (300 ℃) ESCA光譜圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒74
圖(三十六)、薄膜編號6-b (350 ℃) ESCA光譜圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒74
圖(三十七)、薄膜編號6-c (400 ℃) ESCA光譜圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒75
圖(三十八)、薄膜編號6-a (300 ℃)正視 SEM 圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒75
圖(三十九)、薄膜編號6-a (300 ℃) 30º側視 SEM 圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒76
圖(四十)、薄膜編號6-a (300 ℃) 30º側視 SEM 圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒76
圖(四十一)、薄膜編號6-b (350 ℃)正視 SEM 圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒77
圖(四十二)、薄膜編號6-b (350 ℃) 30º側視 SEM 圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒77
圖(四十三)、薄膜編號6-b (350 ℃)側視 SEM 圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒78
圖(四十四)、薄膜編號6-c (400 ℃)正視 SEM 圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒78
圖(四十五)、薄膜編號6-c (400 ℃) 30º側視 SEM 圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒79
圖(四十六)、薄膜編號6-c (400 ℃)側視 SEM 圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒79
圖(四十七)、薄膜編號6-a、6-b、6-c XRD  比較圖﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒80

<表目錄>
表(一)、各種製備氧化鋅或氧化鎘薄膜方法﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒13
表(二)、化合物 (5) 選擇性的繞射數據﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒37
表(三)、化合物 (5) 選擇性鍵長數據 (Å)﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒38
表(四)、化合物 (5) 選擇性鍵角 ( º )﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒38
表(五)、化合物 (6) 選擇性的繞射數據﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒42
表(六)、化合物 (6) 選擇性鍵長數據 (Å)﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒43
表(七)、化合物 (6) 選擇性鍵角 ( º )﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒43
表(八)、氧化鋅與氧化鎘薄膜製備條件﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒54
表(九)、使用ESCA分析氧化鋅薄膜組成成分﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒56
表(十)、使用ESCA分析氧化鎘薄膜組成成分﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒﹒69

                                

參考文獻
1. J. F. Cordaro, Y. Shim, J. E. May, J. Appl. Phys. 1986, 60, 4186.
2. T. L. Yang, D. H. Zhang, J. Ma, H. L. Ma, Y. Chen, Thin Solid Film 1998, 326, 60.
3. J. C. Johnson, H. Yan, R. D. Schaller, P. B. Peterson, P. Yang, R. J. Saykally, Nano Lett. 2002, 2. 279.
4. K. L. Chopra, S. R. Das, Thin Film Solar Cells; Plenum: New York, 1983.
5. K. Bäderker, Ann. Phys. Lpz. 1907, 22, 749.
6. T. K. Lakshmanan, J. Electrochem. Soc. 1963, 110, 548.
7. Z. Ye, D. Ma, J. He, J. Huang, B. Zhao, X. Luo, Z. Xu, J. Crystal Growth 2003, 256, 78.
8. X. Li, T. A. Gessert, T. Coutts, Appl. Surf. Sci. 2004, 223, 138.
9. T. J. Coutts, D. L. Young, X. Li, MRS Bull. 2000, 25, 15.
10. R. D. Gould, A. K. Hassan, F. S. Mahmood, Int. J. Electron. 1994, 76, 901.
11. M. Ocampo, A. M. Fernandez, P. J. Sebastian, Semicond. Sci. Technol. 1993, 8, 750.
12. F. A. Benko, F. P. Koffyberg, Solid State Commun. 1986, 57, 901.
13. R. Kondo, H. Okhimura, Y. Kasai, Jpn. J. Appl. Phys. 1997, 10, 1475.
14. N. Yamazoe, Sens. Actcuator 1991, 5, 7.
15. J.-M. Ntep, M. Barbé, G. Cohen-Solal, F. Bailly, A. Lusson, R. Triboulet, J. Cryst. Growth 1998, 184/185, 1026.
16. A. J. C. Fiddes, K. Durose, A. W. Brinkman, J. Woods, P. D. Coates, A. J. Banister, J. Cryst. Growth 1996, 159, 210.
17. R. D. Vispute, V. Talyansky, S. Choopun, R. P. Sharma, T. Venkatesan, M. He, X. Tang, J. B. Halpern, M. G. Spencer, Y. X. Li, L. G. Salamanca-Riba, A. A. Iliadis, K. A. Jones, Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 348.
18. A. Yamada, B. Sang, M. Konagai, Appl. Surf. Sci. 1997, 112, 216.
19. Z. K. Tang, G. K. L. Yu, P. Wong, M. Kavasaki, A. Ohtomo, H. Koinuma, Y. Segawa, Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 3270.
20. Nyffenegger, R. M.; Craft, B.; Shaaban, M.; Gorer, S.; Erley, G.; Penner, R. M. Chem. Mater. 1998, 10, 1120.
21. H. Kashani, J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 1996, 7, 85.
22. A. P. Roth, D. F. Williams J. Appl. Phys. 1981, 52, 6685.
23. W. W. Wenas, A. Yamada, K. Takahashi, M. Yoshino, M. Konagai, J. Appl. Phys. 1991, 70, 7119.
24. S. Oda, H. Tokunaga, N. Kitajima, J. Hanna, I. Shimizu, H. Kokado Jpn. 1985, 24, 1607.
25. J. Hu, R. G. Gorden, J. Appl. Phys. 1992, 71, 880.
26. C. K. Lau, S. K. Tiku, K. M. Lakin, J. Electrochem. Soc. 1980, 127, 1843.
27. M Shimizu, A. Monma, T. Shiosaki, A. Lawabata, Y. Yamamoto, J. Cryst. Growth 1989, 94, 895.
28. S. K. Ghandi, R. J. Field, J. R. Shealy, Appl. Phys. Letters 1980, 37, 449.
29. F. T. J. Smith, Appl. Phys. Letters 1983, 43, 1108.
30. Y. Natsume, H. Sakata, T. Hirayama, H. Yanagida, J. Appl. Phys. 1992, 72, 4203.
31. T. Minami, H. Sonohara, S Takata, H. Sato, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 1994, 33, L743.
32. K. Kamata, J. Nishino, S. Ohshio, K. Maruyama, M. Ohtuki, J. Am. Ceram. Soc. 1994, 77, 505.
33. G. L. Mar, P. Y. Timbrell, R. N. Lamb, Chem. Mater. 1995, 7, 1890.
34. T. J. Coutts, D. L. Young, X. Wu, J. Vac. Sci. Technol. A 2000, 18, 2646.
35. J. R. Babcock, A. Wang, A. W. Metz, N. L. Edleman, M. V. Metz, M. A. Lane, C. R. Kannewurf, T. J. Marks, CVD, 2001, 7, 239.
36. A. Gulino, P. Dapporto, P. Rossi, I. Fragalà, Chem. Mater. 2002, 14, 1441.
37. E. F. Braibante, H. S. Braibante, A. Andricopulo, Synthesis 1994, 898.
38. montmorillonite中文名稱為蒙利石，是一種黏土，已膠質狀黏土(bentonite)及漂土(fullers earth)為主要成分。其大概分子式為R0.33+(Al, Mg)2Si4O10(OH)2．nH2O，R+包含一種或多種陽離子，如Na+、K+、Mg+、Ca+…等。而K10則是商標名。
39. Vogels Textbook of Practical Organic Chemistry Fourth Ed., Longman London, 1978, 291.
40. B. Croxtall, J. Fawcett, E. G. Hope, A. M. Stuart, Journal of Fluorine Chemistry 2003, 119, 65.
41. A. Gulino, F. Castelli, P. Dapporto, P. Rossi, I. Fragalà, Chem. Mater. 2000, 12, 548.
42. A. Gulino, F. Castelli, P. Dapporto, P. Rossi, I. Fragalà, Chem. Mater. 2002, 14, 704.
43. A. J. Petrella, H, Deng, N. K.Roberts, R. N. Lamb, Chem. Mater. 2002, 14, 4339.

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