簡易檢索 / 詳目顯示

研究生: 劉哲宏
論文名稱: 混合產品批間控制-ANOVA方法
指導教授: 鄭西顯
口試委員:
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 工學院 - 化學工程學系
Department of Chemical Engineering
論文出版年: 2006
畢業學年度: 94
語文別: 中文
論文頁數: 47
中文關鍵詞: 批間控制
相關次數: 點閱:2下載:0
分享至:
查詢本校圖書館目錄 查詢臺灣博碩士論文知識加值系統 勘誤回報
  • 在現今之半導體製造業裡,對於元件的微小化,製造的尺寸也越來越小,因此,對於半導體製程控制之要求也越來越精準。對黃光製程來說來說,目前面臨的困境為產品少量多樣,影響製程穩定性的變數太多,導致在製程的控制上的不容易。
    在本文我們將利用變異數分析的原理建立模型,並用此模型來對付目前生產線上最常見的問題即產品少量多樣所造成的製程偏差,我們對工廠的數據進行分析動作,並利用此方法希望能夠對製程上的誤差進行修正的動作,以期能夠有效的修正製程偏差。


    表目錄 I 圖目錄 0 1.緒論 1 1.1簡介 1 1.2 文獻回顧 3 1.3 研究動機 5 2. 原理 7 2.1 變異數分析 7 2.1.1 概述 7 2.1.2 分析概念介紹與基本假設 8 2.1.3分析程式 10 2.2共變異數分析 14 2.2.1概述 14 2.2.2分析程式 15 2.3 Run to Run Control 19 2.3.1 RtR Control 的發展史 19 2.3.2 RtR控制法則與原理 21 3 理論推導 24 3.1 The least square estimator of the linear system 25 3.2 Run-to-Run Control 27 3.3 ANCOVA modeling of linear system 28 3.4 Batchwise Data Regression Problem 30 3.5 模擬例子 32 4.製程預測模型之建立及模擬結果 35 4.1 銅化學機械研磨(CMP) 35 4.2 黃光製程建模與控制(OVERLAY) 40 5. 結論 45 參考資料 46

    1. J. Moyne, Run-to-Run control in semiconductor manufacturing, CRC Press, Florida, 2001.

    2. E.D. Castillo, Statistical process adjustment for quality control, John-Wiley and Sons, New York, 2002.

    3. R. Telfeyan, J. Moyne, N. Chaudhry, J. Pugmire, S. Shellman, D. Boning, W. Moyne, A. Hurwitz, J. Taylor, A multi-level approach to the control of a chemical-mechanical planarization process, Journal of Vacuum Science and Technology A, pp. 1907-1913, 1996.

    4. T.F. Edgar, S.W. Butler, W.J. Campbell, C. Pfeiffer, C. Bode, S.B. Hwang, K.S. Balakrishnan, J. Hahn, Automatic control in microelectronics manufacturing: Practices, challenges, and possibilities, Automatics, vol.36 ,pp. 1567-1603, 2000

    5. E. Sachs, A. Hu, and A. Ingolfsson, Run by run process control:Combining SPC and feedback control, IEEE Trans. Semiconduct. Manufact., vol. 8, pp. 26-43, 1995

    6. A. Chen, R. S. Guo, Age-Based EWMA Controller and Its Application to CMP Process, IEEE Transactions On Semiconductor Manufacturing, vol. 14, no. 1, 2001.

    7. S.K. Firth, Just-In-Time Adaptive Disturbance Estimation for Run-To-Run Control in Semiconductor Processes, Ph.D. thesis, U. of Texas, Austin, 2002

    8. D.C. Montgomery, Design an Analysis of Experiments, 4th edition, John Wiley & Sons, New York, 1997.

    9. G.C. Runger and J.W. Fowler Run-to-Run Control Charts with Contrasts, Quality and Reliability Engineering International 14, pp. 261-272.,1998

    10. F. Edgar, S.K. Firth, C. Bode, V. Martinenz, Multi-product Run-to-Run control for high-mix fabs, AEC/APC Asia, Hsinchu, Taiwan, 2004

    11. Y. Zheng, Q.H. Lin, D. S. Wang, S.S. Jang and K. Hui, Stability and Performance Analysis of Mixed Product Run-To-Run Control, J. of Process Control, In Press, 2005

    12. D. Castillo, E., Hurwitz, A.M., Run-to-Run Process Control: Literature Review and Extensions, Journal of Quality Technology, vol. 29, no. 2, pp. 184-196, 1997

    13. 吳宗正,變異數分析-理論與應用,華態書局,台北,1999

    14. 呂金河,變異數分析,三民書局,台北,1994

    15. J.B. Keats, Statistical applications in process control, Marcel Dekker ,New York ,1996

    無法下載圖示 全文公開日期 本全文未授權公開 (校內網路)
    全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)

    QR CODE