研究生: |
徐僑駿 |
---|---|
論文名稱: |
一、利用銥金屬錯合物在化學氣相沉積法製備二氧化銥一維奈米柱. 二、非水溶液相熱裂解法製備銥金屬奈米粒子 |
指導教授: | 季昀 |
口試委員: | |
學位類別: |
碩士 Master |
系所名稱: |
理學院 - 化學系 Department of Chemistry |
論文出版年: | 2005 |
畢業學年度: | 93 |
語文別: | 中文 |
論文頁數: | 99 |
中文關鍵詞: | 化學氣相沉積法 、二氧化銥 、一維奈米柱 、銥金屬 、奈米粒子 、熱裂解 |
外文關鍵詞: | IrO2, nanorods, nonoparticles, CVD, Ir |
相關次數: | 點閱:2 下載:0 |
分享至: |
查詢本校圖書館目錄 查詢臺灣博碩士論文知識加值系統 勘誤回報 |
本篇論文第一部分為合成高揮發性Ir有機金屬錯合物,作為化學氣相沉積的前驅物,探討高揮發性前驅物在合成IrO2奈米柱的性質與表現。我們將這些前驅物以冷壁式反應器在Si、LNO以及LTO晶片進行沉積,發現IrO2在三種晶片上皆有不同的形貌表現,並且對沉積結果進行掃描式電子顯微鏡、穿透式電子顯微鏡以及粉末繞射儀進行分析與鑑定,並在文中討論其結果。
第二部分為在非水溶液熱裂解法來製備Ir金屬奈米粒子,利用化學氣相沉積法前驅物的概念,在一個可以當溶液、還原劑以及保護劑的有機物(hexadecylamine)環境中,加熱到高溫,然後使Ir有機金屬前驅物高溫還原得到Ir金屬奈米粒子。並且針對這些粒子進行高解析度穿透式電子顯微鏡和粉末繞射儀進行分析,並在本篇論文討論其結果。
第一部份
1. S. Iijima, Nature 1991, 56, 354.
2. K. Hiruma, M. Yazawa, T. Katsuyama, K. Ogawa, K. Haraguchi
M. Koguchi, H. Kakibayashi, J. Appl. Phys. 1995, 2, 447.
3. G.S. Cheng, L.D. Zhang, S.H. Chen, Y. Li, L. Li, X.G. Zhu, Y. Zhu,
G.T. Fei, Y.Q. Mao, J. Mater. Res. 2000, 77, 347.
4. Y. Li, G. W. Meng, L. D. Zhang, F. Phillipp, Appl. Phys. Lett.
2000, 76, 2011.
5. J. Hu, T. W. Odom, C. M. Lieber, Acc.Chem. Res. 1999, 32,
435.
6. C. U. Pinnow, I. Kasko, C. Dehm, B. Jobst, M. Seibt, U. Geyer, J.
Vac. Sci. Technol. B 2001, 19, 1857
7. a) A. Osaka, T. Takatsuna, Y. Miura, J. Non-Cryst. Solids. 1994,
178, 313. b)G. Chen, X. Chen, P. L. Yue, J. Phys. Chem. 2002,
106, 4364.
8. a) T. Nakamura, Y. Nakao, A. Kamisawa, H. Takasu, Appl. Phys.
Lett. 1994, 65, 1552. b) Y. J. Song, H. H. Kim, S. Y. Lee, D. J.
Jung, B. J. Koo, J. K. Lee, Y. S. Park, H. J. Cho, S. O. Park, K.
Kim, Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 451.
9. B. R. Chalamala, Y. Wei, R. H. Reuss, S. Aggarwal, B. E.
Gnade, R. Ramesh, J. M. Bernhard, E. D. Sosa, D. E. Golden,
Appl, Phys, Lett. 1999, 74, 1394.
78
10. S. F. Cogan, T. D. Planate, R. S. McFadden, R. D. Rush, Sol.
Enery. Mater. 1987, 16, 371.
11. J. C. Lue, S. Chao, Jpn. J. Appl. Phys. Part 1 1997, 36, 2292
12. S. Tankiewicz, B. Morten, M. Prudenziati, L. J. Golonka, Sens.
Actuat. A 2001, 95, 39.
13. a) P. C. Liao, W. S. Ho, Y. S. Huang, K. K. Tiong, J. Master. Res.
1998, 12, 1318. b) R. H. Horng, D. S. Wuu, L. H. Wu, M. K. Lee,
Thin Solid Firm 2000, 373, 231.
14. a) M. A. El Khakani, M. Chaker, E. Gat, Appl. Phys. Lett. 1996,
69, 2027. b) A. M. Serventi, M. A. El Khakani, R. G.
Saint-Jacques, D. G. Rickerby, J. Master. Res. 2001, 16, 2336.
15. a) R. J. Puddephatt, Polyhedron. 1994, 13, 1233. b) F. Maury,
Chem. Vap. Deposition 1996, 2, 113.
16. a)蘇青森, 真空技術精華, 東華書局, 2004. b)呂登復, 實用真空
技術, 國興出版社, 1996.
17. C. Xu, T. H. Baum, Chem. Master. 1998, 10, 2329.
18. R. S. Chen, H. M. Chang, Y. S. Huang, D. S. Tsai, S.
Chattopadyay, K. H. Chen, J. Cryst. Growth 2004, 271, 105
19. R. S. Chen, Y. S. Huang, D. S. Tsai, S. Chattopadyay, C. T. Wu,
Z. H. Lan, K. H. Chen, Chem. Mater. 2004, 16, 2457.
20. R. S. Chen, Y. S. Chen, Y. S. Huang, Y. L. Chen, Y, Chi, C. S.
Liu, K. K. Tiong, A. J. Carty. Chem. Vapor. Deposition 2003, 9,
301.
21. R. S. Chen, Y. S. Huang, Y. M. Liang, D. S. Tsai, Y, Chi, J. J. Kai,
J. Mater. Chem. 2003, 13, 2525.
79
22. R. S. Chen, H. M. Chang, Y. S. Huang, D. S. Tsai, K. C. Chiu,
Nanotechnology 2005, 16, 93.
第二部份
1. T. Nakatsuji, Applied catalysis B : Environmental 2000, 25, 163.
2. M. D. Bruyu, S. Coman, R. Bota, V. I. Parvulescu, P. A. Jacobs,
Angew. Chem. Int. Ed. Engl.2003, 42, 5333.
3. I. Lisiecki, M. P. Pileni, J. Am. Chem. Soc. 1993, 115, 3887.
4. S. Ayyappan, R. S. Gopalan, G. N. Subbanna, C. N. R. Rao, J.
Mater. Res. 1997, 92, 199.
5. H. H. Huang, X. P. Ni, G. H. Loy, C. H. Chew, K. L. Tan, F. C. Loh,
J. F. Deng, G. Q. Yu, Langmuir 1996, 12, 909.
6. S. S. Joshi, S. F. Patil, V. Iyer, S. Mahumuni, Nansotruct. Mater.
1998, 10, 1135.
7. K. Okitsu, H. Bandow, Y. Maeda, Chem. Mater. 1996, 8, 315.
8. a) E. Janata, Radiat. Chem. 1996, 47, 29. b) T. Sosebee, M.
Giersing, A. Holzwarth, P. Mulvaney, Ber. Bunsenges. Phys.
Chem. 1995, 99, 40.