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研究生: 許嘉倫
Chia-Lung Hsu
論文名稱: 低壓化學氣相沈積法配合快速熱處理對閘極氮氧化層電特性之影響
Electrical Properties of Gate N/O layer formed by LPCVD with N2O RTP
指導教授: 王 天 戈 博士
Tien-Ko Wang
張廖貴術 博士
Kuei-Shu Chang-Liao
口試委員:
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 原子科學院 - 工程與系統科學系
Department of Engineering and System Science
論文出版年: 2002
畢業學年度: 90
語文別: 中文
論文頁數: 103
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