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| 研究生： |
邱櫳平 Chiu, Lung-Ping |
|---|---|
| 論文名稱： |
介電層後處理閘堆疊對鰭式電晶體與鍺金氧半元件電特性之影響研究 Effects of Post Dielectric Treatment in Gate Stack on Electrical Characteristics of FinFET and Ge MOS Devices |
| 指導教授： |
張廖貴術
Chang Liao, Kuei-Shu |
| 口試委員: |
趙天生
Chao, Tien-Sheng 李耀仁 Li, Yao-Jen |
| 學位類別： |
碩士 Master |
| 系所名稱： |
原子科學院 - 工程與系統科學系 Department of Engineering and System Science |
| 論文出版年： | 2021 |
| 畢業學年度： | 109 |
| 語文別： | 中文 |
| 論文頁數： | 121 |
| 相關次數： | 點閱：2 下載：0 |
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全文公開日期 2026/08/15 (校內網路)全文公開日期 2026/08/15 (校外網路)