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研究生: 徐光毅
論文名稱: 高科技產業放流水中及流域水中離子成分分析及關連性評估
指導教授: 凌永健
口試委員:
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 理學院 - 化學系
Department of Chemistry
論文出版年: 2003
畢業學年度: 91
語文別: 中文
論文頁數: 126
中文關鍵詞: 放流水離子層析園區污水客雅溪隆恩圳
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  • 科學園區為台灣高科技的重鎮,高科技產業為台灣帶來了經濟,但是否也為環境帶來危機嗎?在眾多的環保議題中,科學工業園區環境保護白皮書(1998年版),指出園區附近居民認為園區應最優先處理的環境問題,依序為廢水、空氣污染、毒性物質、廢棄物及噪音。顯見居民最關切的還是水的問題。尤其是園區內工廠在製程中常會使用大量酸、鹼液,放流水中因此含有大量的陰、陽離子,處理後排放至自然河川時,除毒性氟離子外,氮鹽(包括亞硝酸根離子、硝酸根離子和銨離子)和磷鹽(包括磷酸根離子)雖然是植物生長的營養源,但過量時會使水中的藻類生長過快過多,造成生態衝擊,導致水質優氧化、溶氧降低、甚至魚類死亡。園區附近居民陳情多是因為嗅到異味或是看到水質明顯變化:如有大量魚隻死亡、水有異常顏色,事後追溯污染源往往不易達成。
    本研究應用離子層析方法分析園區內不同高科技產業(包括矽半導體業、光電業、生技業)污水處理廠和受體流域(客雅溪和隆恩圳)水中的7種陰離子及5種陽離子。各產業之水中離子濃度(mg/L)分佈為 平均值(最小值-最大值),污水處理廠排放口F-:5.45 (1.37-7.32)、CH3COO-:ND、Cl-:542 (131-692)、Br-:1.97 (0.05-4.27)、NO3-:21.2 (6.70-32.5)、PO43-:55.1 (15.6-98.4)、SO4 2-:341 (153-486)、Li+:ND、Na+:374 (107-519)、NH4+:42.1 (10.1-56.8)、Ca2+:118 (57.0-141)、Mg2+:12.3 (10.7-13.1)、半導體業F-:10.0 (6.94-14.0)、CH3COO-:ND、Cl-:1484 (143-4509)、Br-:8.91 (1.66-14.5)、NO3-:57.7 (5.73-190)、PO43-:64.0 (6.09-121)、SO4 2-:505 (139-1858)、Li+:ND、Na+:1345 (383-6475)、NH4+:42.9 (11.0-68.1)、Ca2+:118 (38.2-332)、Mg2+:14.6 (9.20-21.5)、光電業F-:1.12 (0.07-2.18)、CH3COO-:ND、Cl-:83 (9.62-151)、Br-:ND、NO3-:5.19 (0.22-14.9)、PO43-:7.60 (0.33-15.0)、SO4 2-:216 (41.0-457)、Li+:ND、Na+:117 (4.04-189)、NH4+:54.2 (0.08-112)、Ca2+:18.8 (0.99-37.0)、Mg2+:3.89 (0.26-9.10)、生技業F-:0.17 (0.07-0.32)、CH3COO-:0.97 (0.05-3.83)、 Cl-:65.7 (5.05-123)、Br-:0.07 (0.05-0.07)、NO3-:0.98 (0.05-1.56)、PO43-:12.2 (0.05-18.2)、SO4 2-:63.4 (53.5-66.9)、Li+:ND、Na+:53.9 (12.7-95.2)、NH4+:6.85 (0.15-13.6)、Ca2+:40.6 (37.3-43.9)、Mg2+:10.3 (9.35-11.2)。依結果進行統計分類可將排放口和半導體業及光電業區分開來,推估園區污水佔匯流入客雅溪後水中的離子濃度至少七成,客雅溪流域中的水樣、魚樣及底泥中的F-、Cl-、Br-具有正相關性,推估來自園區污水的影響,NO2-、NO3-,可能因受生物體的新陳代謝影響,沒有相關性。


    總目錄 頁次 摘要…………………………………………………………………… Ⅰ 總目錄………………………………………………………………… Ⅱ 表目錄………………………………………………………………… Ⅵ 圖目錄………………………………………………………………… Ⅷ 第一章 序論 1.1 前言……………………………………………………… 1 1.2 科學園區放流水中離子分析…………………………… 2 1.3 客雅溪及隆恩圳流域水中離子成分分析及關連性評估…………………………………………………………… 3 1.4 參考文獻…………………………………………………… 4 第二章 高科技產業放流水中離子成分分析 2.1 前言………………………………………………………… 6 2.1.1 科學工業園區污(雨)水下水道系統……………… 8 2.1.2 半導體製造業的廢水特性…………………………10 2.2 研究動機……………………………………………………13 2.3 研究方法……………………………………………………14 2.3.1 離子層析法…………………………………………14 2.3.2 多變量統計分析……………………………………16 2.3.2.1因子分析………………………………………17 2.3.2.2因子選取………………………………………17 2.3.2.3階層群集式分析………………………………18 2.4 材料、儀器設備及實驗方法……………………………… 19 2.4.1 藥品與試劑…………………………………………19 2.4.2 實驗設備……………………………………………19 2.4.3 實驗步驟……………………………………………20 2.4.3.1 標準溶液配置………………………………20 2.4.3.2 真實樣品分析方法…………………………20 2.5 結果與討論…………………………………………………21 2.5.1 分析條件……………………………………………21 2.5.2 檢量線的製備及偵測極限…………………………22 2.5.3 園區放流水分析結果………………………………22 2.5.4 廠內初步處理廢水分析結果………………………32 2.6 結論…………………………………………………………34 2.7 參考文獻……………………………………………………36 第三章 客雅溪及隆恩圳流域水中離子成分分析及 關連性評估 3.1 前言…………………………………………………………74 3.1.1 客雅溪………………………………………………74 3.1.2 隆恩圳………………………………………………75 3.1.3 底泥監測……………………………………………76 3.2 研究動機……………………………………………………78 3.3 材料、儀器設備及實驗方法………………………………79 3.3.1 藥品與試劑…………………………………………79 3.3.2 實驗設備……………………………………………79 3.3.3 實驗步驟……………………………………………80 3.3.3.1 水樣分析……………………………………80 3.3.3.2 底泥分析……………………………………80 3.3.3.2 底泥分析……………………………………81 3.4 結果與討論…………………………………………………82 3.4.1 萃取時間最佳化探討………………………………82 3.4.2 分析條件……………………………………………82 3.4.3 檢量線的製備及偵測極限…………………………83 3.4.4 客雅溪及隆恩圳流域水中離子分析結果…………84 3.4.5 客雅溪流域底泥和魚樣之離子分析結果…………93 3.5 結論…………………………………………………………95 3.6 參考文獻………………………………………………… .98

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