本研究是利用CFDRC電腦模擬軟體針對一大面積蝕刻電漿源作腔體內電漿參數分布的探討，並搭配蘭牟爾探針電漿量測所得到的實驗值作比對。由以上的分析方式，不僅幫助我們了解電漿中的物理特性，並可以輔助電漿機台的設計與發展。
研究的機台為一電感耦合式電漿源，與一般半導體電漿蝕刻機台不同的是腔體為一四方形六面體的幾何架構，這在以往的電漿機台的模擬是較不常見的，輸入功率頻率也非一般常見的40.68 MHz，最高功率可達5 kW，針對此機台的模擬方式以三維的模擬架構呈現。
CFDRC軟體為整合多種物理現象而開發完成的模擬軟體，針對電漿模擬問題，需要使用的模組為流體、熱轉換、磁、電漿、化學等模組。主要的模擬結果包括電漿密度、電子密度、電子溫度、功率散逸等空間分布，各方向的電場分布。
蘭牟爾探針是single probe的形式，探針結構為圓柱型，由於power的頻率為較高頻的40.68 MHz，所以在實驗量測時必須加裝濾波器以消除高頻雜訊耦合於探針產生誤差。

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