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研究生: 羅偉唐
Lo, Wei-Tang
論文名稱: 三氯氧磷退火處理原子層沉積二氧化矽於碳化矽金氧半場效電晶體之可靠度研究
Study on the Reliability of POCl3 Annealed ALD SiO2 for 4H-SiC MOSFETs
指導教授: 黃智方
Huang, Chih-Fang
口試委員: 魏拯華
李坤彥
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 電機資訊學院 - 電子工程研究所
Institute of Electronics Engineering
論文出版年: 2014
畢業學年度: 102
語文別: 中文
論文頁數: 57
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