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| 研究生： |
楊凱鈞 Yang, Kai-Chun. |
|---|---|
| 論文名稱： |
應用真空退火與電漿處理於閘界面層以改善鍺n/p型鰭式電晶體電特性之研究 Improved Electrical Characteristics in Ge n/p-FinFET with Vacuum Annealing and Plasma Treatments on Gate Interfacial Layer |
| 指導教授： |
張廖貴術
Chang-Liao, Kuei-Shu |
| 口試委員: |
趙天生
Chao, Tien-Sheng 李耀仁 Lee, Yao-Jen |
| 學位類別： |
碩士 Master |
| 系所名稱： |
原子科學院 - 工程與系統科學系 Department of Engineering and System Science |
| 論文出版年： | 2022 |
| 畢業學年度： | 110 |
| 語文別： | 中文 |
| 論文頁數： | 152 |
| 相關次數： | 點閱：1 下載：0 |
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全文公開日期 2027/07/25 (校內網路)全文公開日期 2027/07/25 (校外網路)