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研究生： 陳君豪
Chun-Hao Chen
論文名稱： 射頻電漿與聚合物表面之作用
Effects of RF plasma on the surface of polymers
指導教授： 寇崇善
Chwung-Shan Kou
口試委員:
學位類別： 碩士
Master
系所名稱： 理學院 - 物理學系
Department of Physics
論文出版年： 2004
畢業學年度： 92
語文別： 中文
論文頁數： 47
中文關鍵詞： 電漿清潔 、中空陰極效應 、接觸角 、表面改質
外文關鍵詞： plasma cleaning, hollow cathode effect, contact angle, surface modification
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    • 本實驗為解決一般工業界中PCB板處理不均勻性的問題，因此發展了RF-HCD系統，藉中空陰極效應產生大面積且均勻之電漿，並利用氣流及擴散將電漿均勻且有效的帶至處理盒內，達成均勻且有效的處理效果。在效果方面，成功將PCB板之表面能量由原本的15 dynes/cm提升至65 dynes/cm;在均勻度方面，處理盒內PCB板之表面能量差異僅僅5 dynes/cm左右，均勻度相當良好。
    量測上，我們量測了處理盒內之電漿離子密度，以瞭解電漿的均勻度;利用OES量測電漿區內參與反應的氣體種類與其能階狀態;量測接觸角，以瞭解PCB板在處理前後表面能量的變化。

    目錄索引 第一章 緒論 1.1 電漿在工業界之應用/1 1.1.1 聚合物(polymer)的應用/1 1.1.2 電漿對聚合物之表面處理/1 1.2 研究方向與目的/2 第二章 實驗設備與操作流程 2.1 實驗設備介紹/4 2.2 射頻能量供應系統/6 2.2.1 電漿源設計/6 2.2.2 匹配線路(Matching network)/8 2.3 量測系統介紹/8 2.3.1 電漿離子密度量測：Langmuir probe量測/8 2.3.1.1 Langmuir probe之製作方法/9 2.3.1.2 Langmuir probe量測操作步驟/11 2.3.2 表面能量量測/11 2.3.3 原子光譜量測：光譜儀量測(OES)/13 第三章 實驗方法之原理 3.1 Langmuir probe之介紹/14 3.1.1 I-V特性曲線/16 3.1.1.1 I-V特性曲線分析/16 3.1.1.2 電漿參數計算/18 3.2 中空陰極放電(Hollow Cathode Discharge, HCD)/21 3.3 接觸角(Contact angle)之定義/24 3.4 電漿與聚合物表面之作用(plasma-surface interaction)/26 第四章 實驗結果與分析 4.1 電漿離子密度量測/28 4.1.1 RF-HCD系統之電漿離子密度量測/29 4.1.2 置入PCB對電漿離子密度之影響/32 4.2 PCB板之接觸角量測/34 4.2.1接觸角隨氣壓與處理時間之變化/34 4.2.2表面能量之均勻度分析/37 4.3 電漿系統之光譜量測/41 4.3.1 峰值強度與壓力之關係/42 4.3.2 氬氣加入對峰值強度之影響/42 第五章 結論 5.1 實驗結果摘要/46 5.2 RF-HCD系統之改良與發展/47 參考文獻

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