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研究生: 陳威仁
Chen, Wei-Ren
論文名稱: 富金屬界面層與合金閘介電層和真空退火與低溫氧化對鍺n型金氧半電晶體之影響研究
Effects of Metal Rich Interface Layer/Alloy Gate Dielectric and Vacuum Annealing/Low Temperature Oxidation on Ge nMOSFET
指導教授: 張廖貴術
Chang-Liao, Kuei-Shu
口試委員: 趙天生
Chao, Tien-Sheng
李耀仁
Lee, Yao-Jen
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 原子科學院 - 工程與系統科學系
Department of Engineering and System Science
論文出版年: 2024
畢業學年度: 112
語文別: 中文
論文頁數: 138
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  • 無法下載圖示 全文公開日期 2029/01/27 (校內網路)
    全文公開日期 2029/01/27 (校外網路)

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