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| 研究生： |
洪維辰 Hung, Wei-Chen |
|---|---|
| 論文名稱： |
退火輔助電漿處理與閘堆疊工程對互補式金氧半元件電特性之影響研究 Effect of Annealing Assisted Plasma Treatment and Gate Stack Engineering on Electrical Characteristics of CMOS Devices |
| 指導教授： |
張廖貴術
Chang-Liao, Kuei-Shu |
| 口試委員: |
趙天生
Zhao, Tian-Sheng 羅廣禮 Luo, Guang-Li |
| 學位類別： |
碩士 Master |
| 系所名稱： |
原子科學院 - 工程與系統科學系 Department of Engineering and System Science |
| 論文出版年： | 2025 |
| 畢業學年度： | 113 |
| 語文別： | 中文 |
| 論文頁數： | 125 |
| 相關次數： | 點閱：4 下載：0 |
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全文公開日期 2030/01/20 (校內網路)全文公開日期 2030/01/20 (校外網路)