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| 研究生： |
陳慶丞 Chen, Ching-Cheng |
|---|---|
| 論文名稱： |
氮氣流量與功率對中空陰極離子鍍著系統製備氮化鈦薄膜微結構和性質之影響 Effects of Nitrogen Flow Rate and Gun Power on the Microstructure and Properties of TiN Thin Film Deposited by HCD-IP Method |
| 指導教授： |
藍貫哲
Lan, Kuan-Che 黃嘉宏 Huang, Jia-Hong |
| 口試委員: |
呂福興
董曉明 |
| 學位類別： |
碩士 Master |
| 系所名稱： |
原子科學院 - 工程與系統科學系 Department of Engineering and System Science |
| 論文出版年： | 2024 |
| 畢業學年度： | 112 |
| 語文別： | 英文 |
| 論文頁數： | 85 |
| 相關次數： | 點閱：3 下載：0 |
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全文公開日期 2029/08/26 (校內網路)全文公開日期 2029/08/26 (校外網路)