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研究生: 吳政緯
Wu Cheng-Wei
論文名稱: 鐠鈣錳氧薄膜於電阻式記憶體之研究
Study on (Pr,Ca)MnO3 Thin Films for Nonvolatile Resistance Random Access Memory Application
指導教授: 吳泰伯
Wu Tai-Bor
口試委員:
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 工學院 - 材料科學工程學系
Materials Science and Engineering
論文出版年: 2007
畢業學年度: 95
語文別: 中文
論文頁數: 91
中文關鍵詞: 記憶體電阻鐠鈣錳氧鎳酸鑭
外文關鍵詞: memory, resistance, PrCaMnO3, LaNiO3
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  • 電阻式記憶體是屬於電壓驅動,且操作電壓小、具有超高密度潛力、讀/寫速度快、結構簡單化、可多位元記憶、耐久性佳、記憶元件面積縮小及非破壞性讀取等優點,並且擁有低成本的競爭力,缺點是目前電阻轉換機制仍舊不明確,因此對於材料的掌握度不足,但其發展潛力深受市場矚目,現已成為業界不少公司的研究重點。
    本論文的方向主要集中在探討鐠鈣錳氧(PCMO)薄膜厚度與鐠鈣錳氧薄膜性質對電阻轉換效應(Resistance Switching Effect, Rhigh/RLow )的影響性。並藉由熱處理,希望能進一步改善電阻轉換效應,從中並試圖了解電阻轉換效應的工作機制來源。
    改變鐠鈣錳氧薄膜厚度對於電阻轉換效率並無顯著幫助;然而,施以適當的熱處理時,電阻轉換效應能夠明顯提升。研究最後發現電阻轉換效應的產生,推測與鐠鈣錳氧薄膜之Mn+4/Mn+3比值有關。


    目 錄 I 第一章 緒論 1 第二章 文獻回顧 4 2-1 記憶體 4 2-1.1 傳統非揮發性記憶體 4 2-1.2 新型非揮發性記憶體 5 2-2 電阻式記憶體 11 2-2.1 三元氧化物型電阻式記憶體 11 2-2.2 二元氧化物型電阻式記憶體 14 2-2.3 有機物型電阻式記憶體 15 2-3 非揮發性電阻式記憶體之優點 16 2-3.1 操作偏壓 (Operation Voltage) 16 2-3.2 電阻轉換效應 (Resistance Ratio,RHigh/RLow) 16 2-3.3 寫入、抹除時間 (Write/Erase Time) 17 2-3.4 元件縮小化 (Device Scaling) 17 2-3.5 耐久力 (Endurance) 17 2-3.6 記憶保持時間 (Retention) 18 2-4 鐠鈣錳氧型電阻式記憶體之電阻轉換機制 18 2-4.1 Charge accumulation at interface 18 2-4.2 Charge-trap in small domains 19 2-4.3 Creation of crystalline defect 20 第三章 實驗流程 36 3-1基板之準備 36 3-2 鎳酸鑭(LNO)下電極薄膜之製備 36 3-3 鐠鈣錳氧(PCMO)電阻層之製備 37 3-4 鎳酸鑭(LNO)上電極薄膜之製備 37 3-5 爐管熱處裡 37 3-6 薄膜量測分析 38 3-6.1 薄膜厚度量測 38 3-6.2 薄膜成分量測 38 3-6.3 薄膜結晶性分析 38 3-7 薄膜電性分析量測 39 第四章 結果與討論 43 4-1 薄膜微結構分析 43 4-1.1 薄膜厚度量測-場發射掃描式電子顯微鏡 43 4-1.2 薄膜結晶性分析-X光繞射 43 4-2 薄膜成分分析 45 4-2.1 能量分散系統 45 4-2.2 感應偶合電漿質譜儀 45 4-3 不同鍍膜時間對於電阻層之電性影響 46 4-3.1 薄膜微結構分析-X光繞射 46 4-3.2 電性量測分析 47 4-3.2.1 電壓與電流、電阻之關係 47 4-3.2.2 外加偏壓與改寫後電阻值之關係 50 4-3.3 結論 52 4-4 氧氣氛下,不同退火溫度對於電阻層之電性影響 54 4-4.1 薄膜微結構分析 61 4-4.1.1 薄膜成份分析-X光射線輻射光電子分光學 54 4-4.1.2 薄膜結晶性分析-X光繞射 62 4-4.2 電性量測分析 55 4-4.2.1 電壓與電流之關係 55 4-4.2.2 外加偏壓與改寫後電阻值之關係 58 4-4.3 有無熱處理對試片的起始電阻值之影響 59 4-4.4 有無熱處理對試片的轉換偏壓之影響 60 4-4.5 有無熱處理對試片的電阻轉換效應之影響 61 4-4.6 結論 63 第五章 結論 86 參考文獻 88

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