研究生: |
彭尉嘉 Peng, Wei Chia |
---|---|
論文名稱: |
電子傳輸材料對有機發光二極體之影響探討 Effect Study of Electron Transporting Materials on Organic Light Emitting Diodes |
指導教授: |
周卓煇
Jou, Jwo Huei |
口試委員: |
岑尚仁
陳建添 薛景中 |
學位類別: |
碩士 Master |
系所名稱: |
工學院 - 材料科學工程學系 Materials Science and Engineering |
論文出版年: | 2015 |
畢業學年度: | 103 |
語文別: | 中文 |
論文頁數: | 134 |
中文關鍵詞: | 有機發光二極體 、電子傳輸材料 |
相關次數: | 點閱:2 下載:0 |
分享至: |
查詢本校圖書館目錄 查詢臺灣博碩士論文知識加值系統 勘誤回報 |
有機發光二極體(Organic Light Emitting Diodes, OLEDs),在顯示技術已發展具一定規模,而照明技術仍有發展之潛力,特色為具有輕、薄、省電、操作電壓低等。在OLED元件有機層中,電子傳輸層是除了發光層外,最耗能的階層,其選用材料的性質亦會影響元件壽命,因此找尋與使用適當的電子傳輸層材料,為OLED元件如何達到節能及長壽命之關鍵。本研究以電子傳輸材料如何影響元件表現的角度,選用三種特性不同的電子傳輸材料,3,7-Di(1-phenyl-1H-benzo[d]imidazole-2-yl)-5,5-spirofluorenyl-5H-dibenzo[a,d]cyclohe-ptene (BIMS) 1,3-bis[3,5-di(pyridin-3-yl)phenyl]benzene(BmPyPb)以及9,10-bis(3-(pyridine-3-yl)phenyl)anthracene (DPyPA),在乾式製程元件中,比較其效率與壽命之不同。以綠光元件為例,發光層使用共主體結構,在亮度1,000 cd/m2下,能量效率依序為27.7、31.7、20.4 lm/W,而使用DPyPA的元件操作電壓相較其他兩者為低;壽命部分,換算成起始亮度為1,000 cd/m2下,使用BIMS的元件有1,188小時,為三者中最高。另外,在橘紅光元件中,發光層亦使用共主體結構,使用DPyPA的元件操作電壓仍為最低,而從綠光客體換到橘紅光客體,三重態能階差距的改變也讓BIMS與DPyPA在100 cd/m2下的效率差距減小。
Organic light emitting diodes (OLEDs) have great potential for flat panel displays and lighting applications. To make the resulting products more energy-saving, highly-efficient OLEDs are demanded. For all of the OLED thin flims, the electron transporting materials (ETM) consumes energys second only to the emissive layer. Consequently, selection of appropriate ETMs become one of the keys to develop high-efficient OLEDs. In this study, we compare efficiency and lifetimes of devices by dry process for using three respective ETMs, 3,7-Di(1-phenyl-1H-benzo[d]imidazole-2-yl)-5,5-spirofluorenyl-5H-dibenzo[a,d]cyclohe-ptene (BIMS).1,3-bis[3,5-di(pyridin-3-yl)phenyl]benzene (BmPyPb)、and 9,10-bis(3-(pyridine-3-yl)phenyl)anthracene (DPyPA) Taking the green device using co-host system at 1,000 cd/m2 for example, the power efficiency is 27.7、31.7、20.4 lm/W, sequentially. The green device with a single layer of BIMS has the least roll-off power efficiency, and highest lifetimes for 1,188 hrs among them while the one with DPyPA has lower operation voltage than the others. Further, the device using DPyPA as ETL still has lower operation voltage in orange-red devices, and the difference of triplet energy between Ir(ppy)3 and Ir(2-phq)3 makes the performance of BIMS and DPyPA different at 100 cd/m2.
[1]O. Prache, Displays 22, (2001) 49-56.
[2]J. Y. Lee, J. H. Kwon, H. K. Chung, Org. Electron. 4, (2003) 143-148.
[3]F. So, J. Kido, P. Burrows, Mrs Bulletin 33, (2008) 663-669.
[4]H. Lim, W. J. Cho, C. S. Ha, S. Ando, Y. K. Kim, C. H. Park, K. Lee, Adv. Mater. 14, (2002) 1275-1279.
[5]J. Lewis, S. Grego, B. Chalamala, E. Vick, D. Temple, Appl. Phys. Lett. 85, (2004) 3450-3452.
[6]J. H. Jou, M. F. Hsu, W. B. Wang, C. L. Chin, Y. C. Chung, C. T. Chen, J. J. Shyue, S. M. Shen, M. H. Wu, W. C. Chang, C. P. Liu, S. Z. Chen, H. Y. Chen, Chem. Mat. 21, (2009) 2565-2567.
[7]N. Koch, A. Elschner, J. Schwartz, A. Kahn, Appl. Phys. Lett. 82, (2003) 2281-2283.
[8]J. X. Tang, C. S. Lee, S. T. Lee, Y. B. Xu, Chem. Phys. Lett. 396, (2004) 92-96.
[9]A. Wan, J. Hwang, F. Amy, A. Kahn, Org. Electron. 6, (2005) 47-54.
[10]J. H. Jou, C. C. Chen, Y. C. Chung, M. T. Hsu, C. H. Wu, S. M. Shen, M. H. Wu, W. B. Wang, Y. C. Tsai, C. P. Wang, J. J. Shyue, Adv. Funct. Mater. 18, (2008) 121-126.
[11]J. H. Jou, M. F. Hsu, W. B. Wang, C. P. Liu, Z. C. Wong, J. J. Shyue, C. C. Chiang, Org. Electron. 9, (2008) 291-295.
[12]R. C. Kwong, S. Lamansky, M. E. Thompson, Adv. Mater. 12, (2000) 1134-1138.
[13]Z. Y. Xie, L. S. Hung, S. T. Lee, Appl. Phys. Lett. 79, (2001) 1048-1050.
[14]M. Ikai, S. Tokito, Y. Sakamoto, T. Suzuki, Y. Taga, Appl. Phys. Lett. 79, (2001) 156-158.
[15]F. Nuesch, D. Berner, E. Tutis, M. Schaer, C. Ma, X. Wang, B. Zhang, L. Zuppiroli, Adv. Funct. Mater. 15, (2005) 323-330.
[16]J. H. Jou, C. P. Wang, M. H. Wu, P. H. Chiang, H. W. Lin, H. C. Li, R. S. Liu, Org. Electron. 8, (2007) 29-36.
[17]J. H. Jou, C. J. Wang, Y. P. Lin, Y. C. Chung, P. H. Chiang, M. H. Wu, C. P. Wang, C. L. Lai, C. Chang, Appl. Phys. Lett. 92 (2008) 223504.
[18]A. Bernanose, M. Conet and P. Vouauzx, J. Chim. Phys. PCB., 50, 64-68 (1953)
[19]M. Pope, P. Magnante and H. P. Kallmann, J. Chem. Phys., 38, 2042-2043 (1963)
[20]W. Helfrich and W. G. Schneide, Phys. Rev. Lett., 14, 229-231 (1965)
[21]W. Helfrich and W. G. Schneide, J. Chem. Phys., 44, 2902-2909 (1966)
[22]P. S. Vincett, W. A. Barlow, R. A. Hann and G. G. Roberts, Thin Solid Films, 94, 171-183 (1982)
[23]R. H. Partridge, Polymer, 24, 733-738 (1983)
[24]C. W. Tang and S. A. Vanslyke, Appl. Phys. Lett., 51, 913-915 (1987)
[25]S. A. Vanslyke, C. W. Tang and L. C. Robert, US Patent., No. 4720432 (1988)
[26]C. W. Tang, S. A. Vanslyke and C. H. Chen, J. Appl. Phys., 65, 3610-3616 (1989)
[27]J. H. Burroughes, D. D. C. Bradley, A. R. Brown, R. N. Marks, K. Mackay, R. H. Friend, P. L. Burns, and A. B. Holmes, Nature, 347, 539-541 (1990)
[28]R. H. Friend, J. H. Burroughes, and D. D. Bradley, US. Patent, No. 5247190 (1993)
[29]C. Adachi, S. Tokito, T. Tsutsui and S. Saito, Jpn. J. Appl. Phys., 27, L713-L715 (1988)
[30]M. Era, C. Adachi, T. Tsutsui, and S. Saito, Chem. Phys. Lett., 178, 488-490 (1991)
[31]J. Kido, K. Honggawa, K. Okuyama and K. Nagai, Appl. Phys. Lett., 64, 815-817 (1994)
[32]J. Kido, M. Kimura and K. Nagai, Science, 267, 1332-1334 (1995)
[33]L. S. Hung, C. W. Tang and M. G. Mason, Appl. Phys. Lett., 70, 152-154 (1997)
[34]G. E. Jabbour, B. Kippelen, N. R. Armstrong and N. Peyghambarian, Appl. Phys. Lett., 73, 1185-1187 (1998)
[35]J. Kido and T. Mazukami, US. Patent, No. 6013384 (2000)
[36]M. A. Baldo, D. F. O'Brien, Y. You, A. Shoustikov, S. Sibley, M. E. Thompson and S. R. Forrest, Nature, 395, 151-154 (1998)
[37]C. Adachi, M. A. Baldo, M. E. Thompson and S. R. Forrest, J. Appl. Phys., 90, 5048-5051 (2001)
[38]J. Blochwitz, M. Pfeiffer, T. Fritz and K. Leo, Appl. Phys. Lett., 73, 729-731 (1998)
[39]J. Kido and T. Matsumoto, Appl. Phys. Lett., 73, 2866-2868 (1998)
[40]J. S. Huang, M. Pfeiffer, A. Warner, J. Blochwitz, K. Leo and S. Y. Liu, Appl. Phys. Lett., 80, 139-141 (2002)
[41]L. S. Liao, K. P. Klubek, C. W. Tang, Appl. Phys. Lett. 84, (2004) 167-169.
[42]Y. Shao and Y. Yang, Appl. Phys. Lett., 85, 073510 (2005)
[43]J. H. Jou, Y. S. Chiu, C. P. Wang, R. Y. Wang and C. Hu, Appl. Phys. Lett., 88, 193501 (2006)
[44]Y. Sun and S. R. Forrest, Nat. Photonics, 2, 483-487 (2008)
[45]S. Reineke, F. Lindner, G. Schwartz, N. Seidler, K. Walzer, B. Lussem and K. Leo, Nature, 459, 234-238 (2009)
[46]Z. B. Wang, M. G. Helander, J. Qiu, D. P. Puzzo, M. T. Greiner, Z. M. Hudson, S. Wang, Z. W. Liu and Z. H. Lu, Nat. Photonics, 5, 753-757 (2011)
[47]T. H. Han, Y. Lee, M. R. Choi, S. H. Woo, S. H. Bae, B. H. Hong, J. H. Ahn and T. W. Lee, Nat. Photonics, 6, 105-110 (2012)
[48]J. H. Jou, C. Y. Hsieh, J. R. Tseng, S. H. Peng, Y. C. Jou, J. H. Hong, S. M. Shen, M. C. Tang, P. C. Chen and C. H. Lin, Adv. Funct. Mater., 23, 2750-2757 (2013)
[49]H. Uoyama, K. Goushi, K. Shizu, H. Nomura and C. Adachi, Nature, 492, 234-238 (2012)
[50]A. Dodabalapur, Solid State Commun., 102, 259-267 (1997)
[51]W. D. Gill, J. Appl. Phys., 43, 5033-5040 (1972)
[52]U. Wolf, V. I. Arkhipov and H. Bassler, Phys. Rev. B, 59, 7507-7513 (1999)
[53]S. Barth, U. Wolf, H. Bassler, P. Muller, H. Riel, H. Vestweber, P. E. Seidler and W. Riess, Phys. Rev. B, 60, 8791-8797 (1999)
[54]M. A. Lampert and P. Mark, New York, Academic Press (1970)
[55]P. N. Murgatro, J. Phys. D: Appl. Phys., 3, 151-156 (1970)
[56]M. A. Baldo, D. F. O'Brien, Y. You, A. Shoustikov, S. Sibley, M. E. Thompson and S. R. Forrest, Nature, 395, 151-154 (1998)
[57]L. G. Thompson and S. E. Webber, J. Phys. Chem., 76, 221 (1972)
[58]T. Förster, Ann. Physik, 437, 55-75 (1948)
[59]L. Dexter, J. Chem. Phys., 21, 836-850 (1953)
[60]M. Klessonger and J. Michl, “Excited Stated and Photochemistry of Organic Molecules”, VCH Publishers, New York (1995)
[61]C. I. d. L. e. (CIE), Publication Report No. 15.2, Colorimetry (1986)
[62]S. A. VanSlyke, C. H. Chen and C. W. Tang, Appl. Phys. Lett., 69, 2106-2162 (1996)
[63]C. Féry, B. Racine, D. Vaufrey, H. Doyeux and S. Cinà, Appl. Phys. Lett., 87, 213502 (2005)
[64]P. Wellmann, M. Hofmann, O. Zeika, A. Werner, J. Birnstock, R. Meerheim, G. He, K. Walzer, M. Pfeiffer and K. Leo, J. Soc. Inf. Display, 13, 393-397 (2005)
[65]C. Féry, B. Racine, D. Vaufrey, H. Doyeux, S. Cinà, Appl. Phys. Lett. 87, (2005) 213502.
[66]P. Wellmann, M. Hofmann, O. Zeika, A. Werner, J. Birnstock, R. Meerheim, G. He, K. Walzer, M. Pfeiffer, K. Leo, J. Soc. Inf. Display 13, (2005) 393-397.
[67]V. Adamovich, P. A. Levermore, X. Xu, A. B.Dyatkin, Z. Elshenawy, M. S. Weaver, J. J. Brown, SPIE Newsroom. DOI: 10.1117/2.1201110.003846 (2011).
[68]J. Yang and J. Shen, J. Appl. Phys., 84, 2105-2111 (1998)
[69]Z. Liu, J. Pinto, J. Soares and E. Pereira, Synthetic Met., 122, 177-179 (2001)
[70]M. G. Mason, L. S. Hung, C. W. Tang, S. T. Lee, K. W. Wong and M. Wang, J. Appl. Phys., 86, 1688-1692 (1999)
[71]K. Sugiyama, H. Ishii, Y. Ouchi and K. Seki, J. Appl. Phys., 87, 295-298 (2000)
[72]S. A. VanSlyke, C. H. Chen and C. W. Tang, Appl. Phys. Lett., 69, 2160-2162 (1996)
[73]A. Elschner, F. Bruder, H. W. Heuer, F. Jonas, A. Karbach, S. Kirchmeyer and S. Thurm, Synthetic Met., 111, 139-143 (2000)
[74]N. Liu, M. M. Shi, Y. Z. Li, Y. W. Shi, G. Z. Ran, G. G. Qin, M. Wang, H. Z. Chen, J. Lumin. 131, (2011) 199-205.
[75]S. L. Tao, S. L. Lai, J. S. Yu, Y. D. Jiang, Y. C. Zhou, C. S. Lee, X. H. Zhang, S. T. Lee, J. Phys. Chem. C 113, (2009) 16792-16795.
[76]Y. Hamada, T. Sano, M. Fujita, T. Fujii, Y. Nishio, K. Shibata, Chem. Lett. 22, (1993) 905-906.
[77]E. H. Martin, J. Hirsch, Solid State Commun. 7, (1969) 783-786.
[78]G. Horowitz, Adv. Mater. 10, (1998) 365-377.
[79]A. Babel, S. A. Jenekhe, J. Am. Chem. Soc. 125, (2003) 13656-13657.
[80]J. M. Warman, A. M. Van de Craats, Mol. Cryst. Liq. Cryst. 396, (2003) 41-72.
[81]H. Antoniadis, M. A. Abkowitz, B. R. Hsieh, Appl. Phys. Lett. 65, (1994) 2030-2032.
[82]S. J. Su, Y. Takahashi, T. Chiba, T. Takeda and J. Kido, Adv Funct Mater, (2009), 19, 1260-1267.
[83]T. Wakimoto, Y. Fukuda, K. Nagayama, A. Yokoi, H. Nakada and M. Tsuchida, IEEE T. Electron Dev., 44, 1245-1248 (1997)
[84]C. Ganzorig, K. Suga and M. Fujihira, Mat. Sci. Eng. B-Solid, 85, 140-143 (2001)
[85]T. Brown, R. Friend, I. Millard, D. Lacey, T. Butler, J. Burroughes and F. Cacialli, J. Appl. Phys., 93, 6159-6172 (2003)
[86]L. S. Hung, Thin Solid Films, 363, 47-50 (2000)
[87]J. Kido, K. Hongawa, K. Okuyama, K. Nagai, Appl. Phys. Lett. 63, (1993) 2627-2629.
[88]P. E. Burrows, L. S. Sapochak, D. M. McCarty, S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett. 64, (1994) 2718-2720.
[89]B. J. Chen, X. W. Sun, Y. K. Li, Appl. Phys. Lett. 82, (2003) 3017-3019.
[90]J. D. Anderson, E. M. McDonald, P. A. Lee, M. L. Anderson, E. L. Ritchie, H. K. Hall, T. Hopkins, E. A. Mash, J. Wang, A. Padias, S. Thayumanavan, S. Barlow, S. R. Marder, G. E. Jabbour, S. Shaheen, B. Kippelen, N. Peyghambarian, R. M. Wightman, N. R. Armstrong, J. Am. Chem. Soc. 120, (1998) 9646-9655.
[91]R. G. Kepler, P. M. Beeson, S. J. Jacobs, R. A. Anderson, M. B. Sinclair, V. S. Valencia, P. A. Cahill, Appl. Phys. Lett. 66, (1995) 3618-3620.
[92]T. Y. Chu, Y. S. Wu, J. F. Chen, C. H. Chen, Chem. Phys. Lett. 404, (2005) 121-125.
[93]Q. S. Zhang, Q. G. Zhou, Y. X. Cheng, L. X. Wang, D. G. Ma, X. B. Jing, F. S. Wang, Adv. Mater. 16, (2004) 432-436.
[94]P. Chen, Q. Xue, W. F. Xie, Y. Duan, G. H. Xie, Y. Zhao, J. Y. Hou, S. Y. Liu, L. Y. Zhang, B. Li, Appl. Phys. Lett. 93, (2008) 153508.
[95]H. Hiroki, JP2004152641 (2004).
[96]N. Liu, M. M. Shi, Y. Z. Li, Y. W. Shi, G. Z. Ran, G. G. Qin, M. Wang, H. Z. Chen, J. Lumin. 131, (2011) 199-205.
[97]S. L. Tao, S. L. Lai, J. S. Yu, Y. D. Jiang, Y. C. Zhou, C. S. Lee, X. H. Zhang, S. T. Lee, J. Phys. Chem. C 113, (2009) 16792-16795.
[98]N. Lin, J. Qiao, L. Duan, J. Xue and L. D. Wang, Chem Mater, 2014, 26, 3693-3700.
[99]Y. Hamada, T. Sano, M. Fujita, T. Fujii, Y. Nishio, K. Shibata, Chem. Lett. 22, (1993) 905-906.
[100]T. Sano, Y. Nishio, Y. Hamada, H. Takahashi, T. Usuki, K. Shibata, J. Mater. Chem. 10, (2000) 157-161.
[101]Y. Hamada, T. Sano, M. Fujita, T. Fujii, Y. Nishio, K. Shibata, Japanese Journal of Applied Physics Part 2-Letters 32, (1993) L514.
[102]L. S. Sapochak, F. E. Benincasa, R. S. Schofield, J. L. Baker, K. K. C. Riccio, D. Fogarty, H. Kohlmann, K. F. Ferris, P. E. Burrows, J. Am. Chem. Soc. 124, (2002) 6119-6125.
[103]G. Yu, S. W. Yin, Y. Q. Liu, Z. G. Shuai, D. B. Zhu, J. Am. Chem. Soc. 125, (2003) 14816-14824.
[104]L. Chen, J. Qiao, J. F. Xie, L. Duan, D. Q. Zhang, L. D. Wang and Y. Qiu, Inorg Chim Acta, 2009, 362, 2327-2333.
[105]C. Adachi, T. Tsutsui, S. Saito, Appl. Phys. Lett. 55, (1989) 1489-1491
[106]M. Suzuki, S. Tokito, F. Sato, T. Igarashi, K. Kondo, T. Koyama, T. Yamaguchi, Appl. Phys. Lett. 86, (2005) 103507.
[107]H. Tokuhisa, M. Era, T. Tsutsui, S. Saito, Appl. Phys. Lett. 66, (1995) 3433-3435.
[108]T. Yasuda, Y. Yamaguchi, D. C. Zou, T. Tsutsui, Jpn. J. Appl. Phys. 1 41, (2002) 5626-5629.
[109]B. Schulz, B. Stiller, T. Zetzsche, G. Knochenhauer, R. Dietel, L. Brehmer, Chem. Mater. 7, (1995) 1041-1044.
[110]Y. Hamada, C. Adachi, T. Tsutsui, S. Saito, Jpn. J. Appl. Phys.31, (1992) 1812-1816
[111]D. O’Brien, A. Bleyer, D. G. Lidzey, D. D. C. Bradley, T. Tsutsui, J. Appl. Phys., 82, (1997) 4957
[112]Y. Shirota, H. Kageyama, Chem. Rev. 107, (2007) 953-1010.
[113]S. Tokito, M. Suzuki, F. Sato, M. Kamachi, K. Shirane, Org. Electron. 4, (2003) 105-111.
[114]S. Tokito, M. Suzuki, F. Sato, M. Kamachi, K. Shirane, Org. Electron. 4, (2003) 105-111.
[115]K. H. Yeoh, C. Y. Bin Ng, C. L. Chua, N. AzrinaTalik, K. L. Woon, Phys. Status Solidi-R 7, (2013) 421-424.
[116]L. Hou, L. Duan, J. Qiao, W. Li, D. Q. Zhang, Y. Qiu, Appl. Phys. Lett. 92, (2008) 263301.
[117]P. Cea, Y. Hua, C. Pearson, C. Wang, M. R. Bryce, F. M. Royo, M. C. Petty, Thin Solid Films 408, (2002) 275-281.
[118]M. Ichikawa, T. Kawaguchi, K. Kobayashi, T. Miki, K. Furukawa, T. Koyama, Y. Taniguchi, J. Mater. Chem. 16, (2006) 221-225.
[119]M. Ichikawa, N. Hiramatsu, N. Yokoyama, T. Miki, S. Narita, T. Koyama, Y. Taniguchi, Phys. Status Solidi-R 1, (2007) R37-R39.
[120]D. Yokoyama, A. Sakaguchi, M. Suzuki, C. Adachi, Appl. Phys. Lett. 95, (2009) 243303.
[121]C. A. Wu, H. H. Chou, C. H. Shih, F. I. Wu, C. H. Cheng, H. L. Huang, T. C. Chao, M. R. Tseng, J. Mater. Chem. 22, (2012) 17792-17799.
[122]J. Kido, M. Kimura, K.Nagai, Science. 267, (1995) 1332-1334
[123]M. H. Tsai, H. W. Lin, H. C. Su, T. H. Ke, C. C. Wu, F. C. Fang, Y. L. Liao, K. T. Wong, C. I. Wu, Adv. Mater. 18, (2006) 1216-1220.
[124]Q. Wang, J. Q. Ding, D. G. Ma, Y. X. Cheng, L. X. Wang, X. B. Jing, F. S. Wang, Adv. Funct. Mater. 19, (2009) 84-95.
[125]H. Sasabe, E. Gonmori, T. Chiba, Y. J. Li, D. Tanaka, S. J. Su, T. Takeda, Y. J. Pu, K. I. Nakayama, J. Kido, Chem. Mater. 20, (2008) 5951-5953.
[126]M. Ichikawa, S. Fujimoto, Y. Miyazawa, T. Koyama, N. Yokoyama, T. Miki, Y. Taniguchi, Org. Electron. 9, (2008) 77-84.
[127]J. Shi, C. W. Tang, C. H. Chen, US. Pat. (1997) No. 5, 646, 948.
[128]W. Y. Hung, T. H. Ke, Y. T. Lin, C. C. Wu, T. H. Hung, T. C. Chao, K. T. Wong, C. I. Wu, Appl. Phys. Lett. 88, (2006) 064102.
[129]Z. Q. Gao, C. S. Lee, I. Bello, S. T. Lee, R. M. Chen, T. Y. Luh, J. Shi, C. W. Tang, Appl. Phys. Lett. 74, (1999) 865-867.
[130]H. T. Shih, C. H. Lin, H. H. Shih, C. H. Cheng, Adv. Mater. 14, (2002) 1409–1412
[131]T. D. Anthopoulos, J. P. J. Markham, E. B. Namdas, I. D. W. Samuel, S. C. Lo, P. L. Burn, Appl. Phys. Lett. 82, (2003) 4824-4826.
[132]K. R. J. Thomas, J. T. Lin, Y. T. Tao, C. H. Chuen, Chem. Mater. 14, (2002) 3852-3859.
[133]S. C. Lo, N. A. H. Male, J. P. J. Markham, S. W. Magennis, P. L. Burn, O. V. Salata, I. D. W. Samuel, Adv. Mater. 14, (2002) 975-979.
[134]S. C. Lo, N. A. H. Male, J. P. J. Markham, S. W. Magennis, P. L. Burn, O. V. Salata, I. D. W. Samuel, Adv. Mater. 14, (2002) 975-979.
[135]J. P. Duan, P. P. Sun, C. H. Cheng, Adv. Mater. 15, (2003) 224-228.
[136]S. A. Jenekhe, M. M. Alam, Chem Mater. 14, (2002) 4775-4780
[137]H. Inomata, K. Goushi, T. Masuko, T. Konno, T. Imai, H. Sasabe, J. J. Brown, C. Adachi, Chem. Mater. 16, (2004) 1285-1291.
[138]C. Sun, Z. M. Hudson, M. G. Helander, Z. H. Lu, S. N. Wang, Organometallics 30, (2011) 5552-5555.
[139]J. Kido, N. Ide, Y.J. Li, Y. Agata, H. Shimizu, 2005 Pacific Rim Conference on Lasers and Electro-Optics, (2005) 329-330.
[140]N. Ide, T. Komoda, J. Kido, Organic Light Emitting Materials and Devices X 6333, (2006) M3330-M3330.
[141]D. Tanaka, T. Takeda, T. Chiba, S. Watanabe, J. Kido, Chem. Lett. 36, (2007) 262-263.
[142]D. Tanaka, Y. Agata, T. Takeda, S. Watanabe, J. Kido, Jpn. J. Appl. Phys. 2, 46, (2007) L117-L119.
[143]S. J. Su, E. Gonmori, H. Sasabe, J. Kido, Adv. Mater. 20, (2008) 4189-4194.
[144]S. J. Su, T. Chiba, T. Takeda, J. Kido, Adv. Mater. 20, (2008) 2125-2130.
[145]S. J. Su, Y. Takahashi, T. Chiba, T. Takeda, J. Kido, Adv. Funct. Mater. 19, (2009) 1260-1267.
[146]H. Sasabe, K. Minamoto, Y. J. Pu, M. Hirasawa and J. Kido, Org Electron, 2012, 13, 2615-2619.
[147]H. Ye, D. Chen, M. Liu, S. J. Su, Y. F. Wang, C. C. Lo, A. Lien, J. Kido, Adv. Funct Mater. 24, (2014) 3268-3275.
[148]N. Li, P. Wang, S. L. Lai, W. M. Liu, C. S. Lee, S. T. Lee, Z. T. Liu, Adv. Mater. 22, (2010) 527-530.
[149]L. X. Xiao, B. Y. Qi, X. Xing, L. L. Zheng, S. Kong, Z. J. Chen, B. Qu, L. P. Zhang, Z. W. Ji, Q. H. Gong, J. Mater. Chem. 21, (2011) 19058-19062.
[150]Y. D. Sun, L. Duan, D. Q. Zhang, J. Qiao, G. F. Dong, L. D. Wang, Y. Qiu, Adv. Funct. Mater. 21, (2011) 1881-1886.
[151]M. Ichikawa, T. Yamamoto, H. G. Jeon, K. Kase, S. Hayashi, M. Nagaoka, N. Yokoyama, J. Mater. Chem. 22, (2012) 6765-6773.
[152]D. Tanaka, H. Sasabe, Y. J. Li, S. J. Su, T. Takeda, J. Kido, Jpn. J. Appl. Phys. 2 46, (2007) L10-L12.
[153]T. Oyamada, H. Yoshizaki, H. Sasabe, C. Adachi, Chem. Lett. 33, (2004) 1034-1035.
[154]H. Sasabe, T. Chiba, S. J. Su, Y. J. Pu, K. I. Nakayama, J. Kido, Chem. Commun. (2008) 5821-5823.
[155]H. Sasabe, D. Tanaka, D. Yokoyama, T. Chiba, Y. J. Pu, K. Nakayama, M. Yokoyama, J. Kido, Adv. Funct. Mater. 21, (2011) 336-342.
[156]V. I. Adamovich, S. R. Cordero, P. I. Djurovich, A. Tamayo, M. E. Thompson, B. W. D'Andrade, S. R. Forrest, Org. Electron. 4, (2003) 77-87.
[157]M. A. Baldo, S. Lamansky, P. E. Burrows, M. E. Thompson, S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett. 75, (1999) 4-6.
[158]S. Naka, H. Okada, H. Onnagawa, T. Tsutsui, Appl. Phys. Lett. 76, (2000) 197-199.
[159]D. F. O'Brien, M. A. Baldo, M. E. Thompson, S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett. 74, (1999) 442-444.
[160]Q. Xin, W. L. Li, W. M. Su, T. L. Li, Z. S. Su, B. Chu, B. Li, J. Appl. Phys. 101, (2007) 044512.
[161]B. W. D'Andrade, S. R. Forrest, A. B. Chwang, Appl. Phys. Lett. 83, (2003) 3858-3860.
[162]P. Kathirgamanathan, S. Surendrakumar, R. R. Vanga, S. Ravichandran, J. Antipan-Lara, S. Ganeshamurugan, M. Kumaraverl, G. Paramaswara and V. Arkley, Org Electron, 2011, 12, 666-676
[163]C. J. Tonzola, M. M. Alam, W. Kaminsky, S. A. Jenekhe, J. Am. Chem. Soc, 125, (2003) 13458-13558
[164]A. S. Shetty, E. B. Liu, R. J. Lachicotte and S. A. Jenekhe, Chem Mater, 11, (1999) 2292-2295
[165]A. P. Kulkarni, A. P. Gifford, C. J. Tonzola and S. A. Jenekhe, Appl Phys Lett, 2005, 86.
[166]E. Ahmed, T. Earmme and S. A. Jenekhe, Adv Funct Mater, 2011, 21, 3889-3899.
[167]T. Kanbara, T. Yamamoto, Macromolecules 26, (1993) 3464-3466.
[168]T. Yamamoto, K. Sugiyama, T. Kushida, T. Inoue, T. Kanbara, J. Am. Chem. Soc. 118, (1996) 3930-3937.
[169]M. Jandke, P. Strohriegl, S. Berleb, E. Werner, W. Brutting, Macromolecules 31, (1998) 6434-6443.
[170]J. Bettenhausen, M. Greczmiel, M. Jandke, P. Strohriegl, Synthetic Met. 91, (1997) 223-228.
[171]M. Redecker, D. D. C. Bradley, M. Jandke, P. Strohriegl, Appl. Phys. Lett. 75, (1999) 109-111.
[172]S. Chen, X. Xu, Y. Liu, G. Yu, X. Sun, W. Qiu, Y. Ma and D. Zhu, Adv. Funct. Mater. 15, (2005) 1541-1546
[173]C. Schmitz, P. Posch, M. Thelakkat, H. W. Schmidt, A. Montali, K. Feldman, P. Smith, C. Weder, Adv. Funct. Mater. 11, (2001) 41-46.
[174]K. Tamao, M. Uchida, T. Izumizawa, K. Furukawa, S. Yamaguchi, J. Am. Chem. Soc. 118, (1996) 11974-11975.
[175]M. Uchida, T. Izumizawa, T. Nakano, S. Yamaguchi, K. Tamao, K. Furukawa, Chem. Mater. 13, (2001) 2680-2683.
[176]S. Tabatake, S. Naka, H. Okada, H. Onnagawa, M. Uchida, T. Nakano, K. Furukawa, Jpn. J. Appl. Phys. 1 41, (2002) 6582-6585.
[177]H. Murata, G. G. Malliaras, M. Uchida, Y. Shen, Z. H. Kafafi, Chem. Phys. Lett. 339, (2001) 161-166.
[178]L. X. Xiao, S. J. Su, Y. Agata, H. L. Lan, J. Kido, Adv. Mater. 21, (2009) 1271-1274.
[179]S. O. Jeon, S. E. Jang, H. S. Son, J. Y. Lee, Adv. Mater. 23, (2011) 1436-1441.
[180]T. Noda, Y. Shirota, J. Am. Chem. Soc. 120, (1998) 9714-9715.
[181]S. O. Jeon, K. S. Yook, C. W. Joo and J. Y. Lee, J. Am. Chem.. 19, 5940-5944
[182]W. Jiang, H. G. Xu, X. X. Ban, G. L. Yuan, Y. M. Sun, B. Huang, L. Duan, Y. Qiu, Org. Lett. 16, (2014) 1140-1143.
[183]S. L. Gong, Y. L. Chang, K. L. Wu, R. White, Z. H. Lu, D. T. Song, C. L. Yang, Chem. Mater. 26, (2014) 1463-1470.
[184]P. Lu, H. P. Hong, G. P. Cai, P. Djurovich, W. P. Weber, M. E. Thompson, J. Am. Chem. Soc. 122, (2000) 7480-7486.
[185]S. B. Heidenhain, Y. Sakamoto, T. Suzuki, A. Miura, H. Fujikawa, T. Mori, S. Tokito, Y. Taga, J. Am. Chem. Soc. 122, (2000) 10240-10241.
[186]S. Komatsu, Y. Sakamoto, T. Suzuki, S. Tokito, J. Solid. State. Chem. 168, (2002) 470-473.
[187]Y. Sakamoto, T. Suzuki, A. Miura, H. Fujikawa, S. Tokito, Y. Taga, J. Am. Chem. Soc. 122, (2000) 1832-1833.