在半導體產業中，機台設備佔總資產額之最大部份，自動化程度高，而設備產能之充分利用成為實務界最關注的議題之一。在此，充分利用產能具備兩種層面的意義，一為填滿線上所有設備的使用率，使之處於產能滿載狀態，另一則為有效利用設備，使之效率╱效果極大化，再將節省下來的設備產能做其他有效率的用途，以促使企業的產出面可以盡量不受產能浪費的影響而減少，或未達到理想狀態。
由半導體技製造技術協會(SEMITECH,Inc.)推廣的 OEE (Overall Equipment Efficiency) 設備效率衡量方法，正可以針對設備的產能利用是否有效率加以衡量，並進而判定損失種類(六大主要損失) ，OEE起源於應用於半導體製程已行之有年,新興產業TFT –LCD崛起後，由於其前段製程Array與半導體製程有相似之處，加上初期TFT-LCD 從業人員許多是由半導體產業轉移而來，借鏡半導體採用之機台績效評估方法是可想而知。
然則這套為半導體製造量身打造之機台績效評估方法是否可直接移植於TFT– LCD產業，Array段可說是半導體的縮影，而CF與Cell卻有相當大的差異，其中存在那些差異? 該如何應用OEE? 確實是值得探討之研究課題。
本研究先針對OEE進行文獻探討,除了半導體技製造技術協會的使用手冊，也參考包含IEEE的相關論文，並以個案公司Cell製程OEE導入專案狀況與導入後實際運作所遭遇的問題,進行整理與分析，其中ODF製程複雜度高，於OEE導入過程所遇到的課題，不僅可完全涵蓋其他機台，而且也有許多特殊的機台特性，例如:多反應室(Multi Chamber)設計，In-Line unit (連線串聯設計)，品質時間限制與材料添加等問題，這些課題著實考驗OEE的設計，故本研究以ODF製程作為進一步研究之對象。進而提出改善作法與系統設計上需注意之細節，除了強化OEE運作之效能外，更有利於新廠導入之參考。

中文參考文獻

﹙1﹚顧鴻壽,光電液晶平面顯示器技術基礎及應用,新文京開發有限公司,2001年9月。
﹙2﹚光電產業自動化檢測技術專欄, [理論篇: LCD製程] , http://cslin.auto.fcu.edu.tw/eduteach/index.html1.
﹙3﹚李俊昇,液晶面板組裝廠批量製程派工法則之設計,國立交通大學工業工程與管理學系碩士論文,民國92年.
﹙4﹚陳蓮春, LCD 彩色液晶顯示器原理與技術, 建興出版社，1999 年 5 月。
﹙5﹚黃信勳, TFT-LCD 最適化生產決策-以中小尺寸面板為例, 國立清華大學工業工程研究所， 碩士論文，民國 89 年。

英文參考文獻

【1】Overall Equipment Effectiveness (OEE) Guidebook Revision 1.0, SEMATECH 1995.
【2】IEEE : Using Overall Equipment Effectiveness (OEE) and the Equipment Improvement Process (EI) to Improve Fab Throughput, W. Freck, Resource Dynamics, 2000.
【3】SEMI E79, Standard for Definition and Measurement of Equipment Productivity, SEMI 2000.
【4】CSM 21: Closed-Loop Measurement of Equipment Efficiency and Equipment Capacity, R. Leachman, U.C., Berkeley, 1997.
【5】CSM 42: Productivity Metrics for Flexible-Sequence Cluster Tools, R. Leachman, U.C., Berkeley, 1998.
【6】 Nakajima, S. , Introduction to TPM Total Productive Maintenance(1988)
【7】Semiconductor Manufacturing Productivity Overall Equipment

Effectiveness Guidebook, Revision 1.0, SEMATECH, April 13, 1995.
【8】Leachman,R. , Close-Loop Measurement of Equipment Efficiency and Equipment Capacity.IEEE transactions on Semiconductor Manufacturing[10]:84-97.
【9】Konopka, J. , Improving Output in Semiconductor Manufacturing Environments. PH. D. Dissertation. Arisona Graduate College.
【10】Sheu , Daniel D. Overall Input Efficiency and Total Equipment Efficiency, IEEE Transaction on SEMI, VOL.19,NO.4,November 2006.

【11】Chakravarty , Gokul R. , Paul N Keller, Benjamin R Wheeler, Susan Van Oss, A Methodolgy for Measuring, Reporting, Navigating, and Analyzing Overall Equipment Productivity, IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference,2007.
【12】Daft ,Richard L., Organization Theory and Design,7th ed. Ch3,P141~P335.
【13】Thompson , James , Organization in Action(New York:McGram-Hill,1967).
【14】Daft ,Richard L., Organization Theory and Design,7th ed. Ch6,P237~P280.