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研究生： 謝永釗
Yung-Chao Hsieh
論文名稱： 電感偶合電漿特性分析
Diagnosis of an inductively coupled plasmas
指導教授： 寇崇善
Chwung-Shan Kou
口試委員:
學位類別： 碩士
Master
系所名稱： 理學院 - 物理學系
Department of Physics
論文出版年： 2007
畢業學年度： 95
語文別： 中文
論文頁數： 49
中文關鍵詞： 電漿 、電感偶合電漿 、探針 、光譜儀 、質譜儀
外文關鍵詞： plasma, inductively coupled plasma, Langmuir probe, oes, ms
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    • 電感式偶合電漿源（Inductively coupled plasma source）是目前半導體製造業中被廣泛應用的電漿源系統，而電漿密度與電子溫度更是製程作業中重要的參數，此篇論文的研究主題就是電感偶合電漿的特性分析，以氬氣與氧氣為研究對象，在外加RF功率25W至200W、氣壓1 mTorr至10 mTorr的操作條件下，使用Langmuir probe量測電漿密度與電子溫度；光譜儀量測電漿粒子的放射譜線，並且以理論模型為依據，配合探針量測結果，計算電子溫度；質譜儀量測電漿內離子數目變化情形。透過這三種量測方法將有助於了解電感偶合電漿特性。

    第一章 簡介 1.1 前言 1 1.2 電感式偶合電漿源簡介 1 1.3 研究目的 3 第二章 實驗設備系統 2.1 電感偶合電漿源系統簡介 4 2.2 量測系統簡介 7 第三章 理論分析 3.1 Langmuir probe探針理論 20 3.1-1 I-V特性曲線分析 20 3.1-2 圓柱型探針 23 3.1-3 數據計算 25 3.2 Corona電漿模型理論 26 3.3 電漿擴散理論 28 第四章 實驗結果與討論 4.1 電漿密度及電漿離子數目量測 30 4.1-1 改變RF功率 30 4.1-2 改變壓力 34 4.2 電子溫度量測 41 4.2-1 數據處理 41 4.2-2 結果分析 44 第五章 結論 5.1 實驗結論 49 5.2 推廣應用 49

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