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研究生: 林俊蓮
論文名稱: 利用六標準差手法提升封裝廠之晶片切割良率
Improve Wafer Sort Yield in Assembly House Through Six Sigma
指導教授: 蘇朝墩
口試委員:
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 工學院 - 工業工程與工程管理學系碩士在職專班
Industrial Engineering and Engineering Management
論文出版年: 2009
畢業學年度: 97
語文別: 中文
論文頁數: 45
中文關鍵詞: 六標準差封裝廠切割機迴歸分析實驗設計
外文關鍵詞: Six Sigma, assembly house, wafer saw machine, regression analysis, DOE
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  • 本論文應用六標準差DMAIC手法來提升封裝廠之晶片切割良率。在定義階段由高階主管參與而組成的六標準差專案團隊,首先了解客戶的聲音及針對客戶退貨品進行分析,之後再進行異常流程分析。在衡量階段,則針對量測機台的重複性及再現性探討並了解現行之製程能力,以作為改善的依據。在分析階段,利用特性要因圖列出可能造成異常的原因,之後並利用迴歸顯著性檢定來驗證造成不良的因子;並針對這些真因提出矯正措施。在改善階段,則是利用實驗設計法來求得因子的最佳設計,並驗證改善效果。最後在控制階段,則是由專案團隊制訂管制計畫表交由產線執行及監控製程,以完成整個專案。在經專案團隊將近半年的努力後,生產線的異常終於解除,也達到客戶期望的目標;並因此為公司獲取近兩佰萬美元的效果。


    In this thesis, a workflow to improve the wafer saw yield of assembly house with the six sigma “DMAIC” is proposed. In “Define”, top managers attend and build up a “Six Sigma” project team to understand the customer’s complaint and analyze the rejected products in the abnormal process flow at the first stage. In “Measure”, the project team aims at the reproducibility and repeatability of measuring machine to come out a good Gage R&R; in addition, they also analyze the current ability of process and set up the target of improvement. In “Analyze”, they use fishbone diagram to list down all the possible factors that could cause the abnormality and use regression analysis to verify the real factors, meanwhile, they also provide the preventive actions to prevent the problem happening again. In “Improve”, project team uses DOE to get the optimal solutions and verify the effectiveness. Finally, in “Control”, project team generates a control plan and provide it to production line for implementing and monitoring the process flow. 6 months past, the production line issue was solved and achieved what customer wished then got about 2 million US dollars effectiveness.

    目錄 中文摘要 I Abstract II 誌謝 III 目錄 IV 表目錄 V 圖目錄 VI 第一章 緒論 1 1.1 研究動機及背景 1 1.2 研究目的 1 1.3 研究架構 2 第二章 文獻探討 3 2.1 六標準差的源起 3 2.2 六標準差的意義 3 2.3 六標準差管理手法的步驟 4 2.4 利用六標準差手法改善專案相關文獻探討 10 第三章 研究方法 12 3.1 定義階段 12 3.2 衡量階段 12 3.3 分析階段 15 3.4 改善階段 17 3.5 控制階段 18 第四章 個案研究 20 4.1 個案公司簡介 20 4.2 應用六標準差解決個案問題 21 4.3 專案效益分析 42 第五章 結論 43 5.1 結論 43 5.2 未來研究方向 44 參考文獻 45 表目錄 表3.1 KAPPA分析列連表 14 表3.2管制計畫表 19 表4.1 產品特性表 21 表4.2專案章程 22 表4.3關鍵品質特性表 25 表4.4計數型量測系統KAPPA之分析數據 27 表4.5施測人員A與B之列連表及KAPPA係數 28 表4.6施測人員A與C之列連表及KAPPA係數 28 表4.7施測人員B與C之列連表及KAPPA係數 28 表4.8施測人員A與受測物真值之列連表及KAPPA係數 29 表4.9施測人員B與受測物真值之列連表及KAPPA係數 29 表4.10施測人員B與受測物真值之列連表及KAPPA係數 29 表4.11 KAPPA 係數 30 表4.12切割機台之製造水準 31 表4.13增加清洗製程後的不良率 36 表4.14因子對反應變數的迴歸顯著性檢定 36 表4.15因子與反應變數間的要因矩陣 37 表4.16因子水準設定 38 表4.17實驗數據 39 表4.18因子最佳設定 40 表4.19確認實驗結果 40 表4.20改善前後不良率比較 41 表4.21管制計畫表 41 表4.22 CIS改善效益表 42 圖目錄 圖2.1分析階段的主要工作內容 8 圖2.2應變計畫圖例 10 圖3.1要因分析法示意圖 15 圖3.2產品/製程之參數圖 18 圖4.1封裝成品 20 圖4.2切割過但未封裝的半成品 20 圖4.3 M公司的供應鏈角色 20 圖4.4客戶進料檢驗不良率 22 圖4.5 PARTICLE在200倍顯微鏡下的外觀及EDS成份分析結果 24 圖4.6 RW流程圖 25 圖4.7加裝側光燈的顯微鏡 26 圖4.8側光燈放大原理 26 圖4.9晶片P管制圖 31 圖4.10晶片不合格品的基準製程能力 32 圖4.11特性要因圖 33 圖4.12變更後流程圖 35 圖4.13因子效果圖(SN比) 40 圖4.14 CIS產品矽塵率變化 42

    1. 蘇朝墩,2009,六標準差,前程文化事業有限公司。
    2. 蘇朝墩、陳麗妃譯,2002,實現六標準差的第一本書,商周出版。
    3. 蘇朝墩,2002,品質工程,中華民國品質學會。
    4. Su, C.-T., Chou, C.-J. and Chen, L.-F., 2009, "Application of Six Sigma Methodology to Optimize the Performance of the Inter-Metal Dielectric Process," IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Vol. 22, No. 2, pp. 297-304.
    5. Mukhopadhyay, A. R. and Ray S., 2006, “Reduction of Yarn Packing Defects Using Six Sigma Methods: A case Study,” Quality Engineering, Vol. 18, pp. 189-206.
    6. 李志偉,2006,利用六標準差管理提昇中小企業之產品品質:以塑膠產業霧度改善為例,國立中央大學碩士論文。

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