研究生: |
郭昱廷 Kuo, Yu-Ting |
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論文名稱: |
閘極堆疊介面處理對鰭式電晶體之電特性與可靠度影響研究 Effects of Gate-stack Interfacial Treatment on Electrical and Reliability Characteristics in FinFET |
指導教授: |
張廖貴術
ChangLiao, Kuei-Shu |
口試委員: |
趙天生
Chao, Tien-Sheng 劉柏村 Liu, Po-Tsun |
學位類別: |
碩士 Master |
系所名稱: |
原子科學院 - 工程與系統科學系 Department of Engineering and System Science |
論文出版年: | 2020 |
畢業學年度: | 108 |
語文別: | 中文 |
論文頁數: | 83 |
相關次數: | 點閱:2 下載:0 |
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