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研究生: 張家彰
Chang, Chia Chang
論文名稱: 藉低溫電漿輔助化學氣相沉積法以SiH4/H2及SiH4/Ar/H2 氣體進行矽沉積在矽和二氧化矽的研究
The Study of Si Deposition on Si and SiO2 by Low-Temperature 00oC) by PECVD from SiH4/H2 and SiH4/Ar/H2 Gases
指導教授: 張一熙 ; 游萃蓉
Chang, Yee Shyi ; Yew, Tri Rung
口試委員:
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 工學院 - 材料科學工程學系
Materials Science and Engineering
畢業學年度: 81
語文別: 英文
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