研究生: |
張家彰 Chang, Chia Chang |
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論文名稱: |
藉低溫電漿輔助化學氣相沉積法以SiH4/H2及SiH4/Ar/H2 氣體進行矽沉積在矽和二氧化矽的研究 The Study of Si Deposition on Si and SiO2 by Low-Temperature 00oC) by PECVD from SiH4/H2 and SiH4/Ar/H2 Gases |
指導教授: |
張一熙 ; 游萃蓉
Chang, Yee Shyi ; Yew, Tri Rung |
口試委員: | |
學位類別: |
碩士 Master |
系所名稱: |
工學院 - 材料科學工程學系 Materials Science and Engineering |
畢業學年度: | 81 |
語文別: | 英文 |
相關次數: | 點閱:2 下載:0 |
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