研究生: |
黃信嘉 |
---|---|
論文名稱: |
晶圓式離子能量分析儀於ICP電漿源之量測與分析 |
指導教授: |
李四海
柳克強 |
口試委員: | |
學位類別: |
碩士 Master |
系所名稱: |
原子科學院 - 工程與系統科學系 Department of Engineering and System Science |
論文出版年: | 2002 |
畢業學年度: | 90 |
語文別: | 中文 |
中文關鍵詞: | 離子能量分析儀 |
外文關鍵詞: | |
相關次數: | 點閱:2 下載:0 |
分享至: |
查詢本校圖書館目錄 查詢臺灣博碩士論文知識加值系統 勘誤回報 |
本論文主要是針對舊有量測系統做改進,以期獲得較佳的量測結果,其中主要的不同是在於GEA格網上電壓的提供方式有所改變,而改以MOTECH PPS1206 POWER SUPPLY取代傳統自製的電壓輸出電路,原因是傳統電路的反應時間過長,在藉由示波器擷取數據時若因提供所需電壓變化時間過長,那麼所獲得的數據將與由power supply所送出的電壓值不符。同時傳統DC電壓的輸出是藉由橋式濾波整流電路提供,因此在電容的選取上當然是愈大其濾波效果愈佳,然而一旦加大其電容值,則又造成RC延遲時間增加,固採用現有雙輸出直流電源供應器作為替代,其中一端輸出供給電壓於Control grid上,而另一則給予二次電子排斥層電壓,也因為改採新的輸出方式因此重新撰寫Labview程式,並僅藉由GPIB介面做為電腦,示波器,及電源供應器之間的連結。在濾波方面則沿習學長舊有的設計,主要是用以濾掉因外加射頻偏壓而使得RF訊號耦合於GEA上各電極。
對於在量測的結果上,在CW模式外加偏壓下可以看到高低能量峰值分開的情形。並隨著偏壓的上升,可以看到高能峰值更往右移動的現象,而加入脈衝式偏壓後,其離子能量分佈函數也因工作比例與操作頻率的調變而隨之變化。
[1] J.Arol Simpson,Rev.Sci.Instrum.,vol.32,p1283,1961.
[2]R.Jones,Rev.Sci.Instrum.,vol.49,p21,1978.
[3]Edbertho Leal-Quiros and Mark A. Prelas,IEEE Transaction On
Plasma Science,vol.16,no.6,p661,1988.
[4]Bohm and Perrin,Rev.Sci.Instrum.,vol.64,p31,1993.
[5]R. L. Stenzel,R. Williams,R. Aguero ,K. Kitazaki ,A. Ling,
T. McDonald,Rev. Sci. Instrum.,vol. 53,no.7,p1027,1982.
[6]J.R.Woodworth,Merle E. Riley,Dorothy C. Meister,Ben P.Aragon,J. Appl. Phys. vol.80,no.3,p.1304,1996.
[7]J.Liu,G.L.Huppert,and H.H.Swain,J.Appl.Phys,vol.68,p.3916,1990.
[8]Kevin L. Junck and Ward D.Getty,J. Vac. Sci. Technol. A,vol.12,no.3,p760,1994.
[9]U Kortshagen and M Zethoff,Plasma Source Sci. Technol.,vol.4,p.541,1995.
[10]P.Reinke,S.Schelz,W.Jacob,J.Vac.Sci.Technol.A,vol.10,p434,1992.
[11] Michael Zeuner,Horst Neumann,J.Appl.Phys.,vol.81.,p2985,1997.
[12] W.M. Holber,J.Vac.Sci.Technol.A,vol.8,p3720,1990.
[13] T.Fukasawa,T.Nouda,A.Nakamua,H.Shindo,Y.Horika,Jap.J.Appl.Phys,vol.32,p.6076,1993.
[14] M.J.Kushner,J.Appl.Phys,vol.58,p.4024,1985.
[15] M.S.Barnes,J.C.Forster,J.H.Keller,IEEE Trans. Plasma Sci.,vol 19,p.240,1991.
[16]Robert J. Hoekstra and Mark J. Kushner,J. Appl. Phys,vol.79,p.2275,1996.
[17]Erik.A.Edelberg,Eray S.Aydil,Andrew Perry,Neil Benjamin,J.Vac.Sci.Technol.A
,vol.86,p.4799,1999.
[18]Yicheng Wang,J. K. Olthoff,J. Appl. Phys. vol.85,no.9,p.6358,1999.
[19]M.G.Blain et al,J. Appl. Phys. vol.80,no.6,p.932,2001.
[20]S.B.Wang and A.E.Wendt,J. Appl. Phys. vol.88,no.2,p.643,2000.
[21]Shahid Rauf,J. Appl. Phys. vol.87,no.11,p.7647,2000.
[22] Oleg Zabeida,Ludvik Martinu,J.Appl.Phys. vol.85,no.9,p6366,1999.
[23] Yicheng Wang et al,J.Appl.Phys. vol.87,no.5,p2114,1999.
[24]A.C Westerheim,A.H Labun,J.H.Dubash,J.Vac.Sci.Technol.A,vol.13,p853,1995.
[25]潘宏彬, 國立清華大學工程與系統科學系碩士班論文,2001
[26] Erik.A.Edelberg,Eray S.Aydil,Andrew Perry,Neil Benjamin,J.Vac.Sci.Technol.A
,vol.17,p.506,1999.