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| 研究生： |
黃麒峰 Huang, Chi-Feng |
|---|---|
| 論文名稱： |
疊層阻障層氮化鈦與阻障層氮化鉭應用於銅製程之研究 TiN with Multilayered Structure and TaN as Diffusion Barrier for Cu Metallization |
| 指導教授： |
吳信田
Wu, Shinn-Tyan 吳文發 Wu, Wen-Fa |
| 口試委員: | |
| 學位類別： |
碩士 Master |
| 系所名稱： |
工學院 - 材料科學工程學系 Materials Science and Engineering |
| 畢業學年度： | 88 |
| 語文別： | 中文 |
| 論文頁數： | 96 |
| 相關次數： | 點閱：1 下載：0 |
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