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| 研究生： |
林品翔 Lin, Pin-Siang |
|---|---|
| 論文名稱： |
堆疊氧化物與電漿處理之電荷儲存層對多晶矽快閃記憶體元件之操作特性及輻射傷害之影響 Effects of Stacked Oxide and Plasma Treatment in Charge Trapping Layers on Operation Characteristics and Radiation Damage of Poly-Si Flash Memory Devices |
| 指導教授： |
張廖貴術
Chang-Liao, Kuei-Shu |
| 口試委員: |
趙天生
Zhao, Tian-Sheng 吳永俊 Wu, Yong-Jun |
| 學位類別： |
碩士 Master |
| 系所名稱： |
原子科學院 - 工程與系統科學系 Department of Engineering and System Science |
| 論文出版年： | 2024 |
| 畢業學年度： | 112 |
| 語文別： | 中文 |
| 論文頁數： | 109 |
| 相關次數： | 點閱：2 下載：0 |
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全文公開日期 2028/12/31 (校內網路)全文公開日期 2028/12/31 (校外網路)