研究生: |
吳澤欽 |
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論文名稱: |
半導體微影製程阻劑之修飾與其廢水處理 |
指導教授: |
朱鐵吉
Tieh-Che Chu |
口試委員: | |
學位類別: |
碩士 Master |
系所名稱: |
原子科學院 - 生醫工程與環境科學系 Department of Biomedical Engineering and Environmental Sciences |
論文出版年: | 2000 |
畢業學年度: | 88 |
語文別: | 中文 |
論文頁數: | 107 |
中文關鍵詞: | 微影製程 、電子束阻劑 、修飾阻劑 、抗蝕刻 、折射率與吸收度 、流動床式生物反應器 |
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使用紅外線光譜儀與紫外光-可見光光譜儀來描述添加不同重量之poly (styrene-co-maleic anhydride)修飾JSR電子束阻劑。發現經修飾阻劑在主鏈上之聚合物結構稍有變化。使用光學薄膜測厚儀、n&k測厚儀、紅外線光譜儀評估旋塗在晶圓上阻劑薄膜厚度特性,依次量測厚度、孔隙度和震動光譜。我們分析結果顯示在相同轉速下厚度隨著添加量的增加而升高,而添加之修飾劑對阻劑熱穩定性並無不良影響。研究修飾之電子束阻劑在抗電漿蝕刻上,所使用的fluorine-containing電漿在ULSI應用上是對光罩與矽元件的蝕刻。研究結果得知修飾的電子束阻劑對抵抗fluorine-containing電漿蝕刻的能力大於未修飾阻劑,其靈敏度些微降低,對映比與原來的電子束阻劑相較並沒有太大的改變。
微生物處理微影製程廢水方面,以填充活性碳之流動床式生物反應器處理含PGMEA、IPA、EL、Phenol等有機物之水樣可得到良好之結果,處理之效能均可達到95﹪以上。
1. “The National Technology Roadmap for Semiconductors, Semi-conductor Industry Association” , p.89, 1997.
2. W. M. Moreau, “Semiconductor Lithography”, Plenum, New York, 1991
3. C. Y. Chang, and S. M. Sze, “ULSI Technology”, McGRAW-HILL, New York ,1996
4. E. Fadda, C. Clariss, and P. J. Paniez, Microelec. Eng., 30, p.593, 1996
5. E. Tegou, E. Gogolides, and M. Hatzakis, Microelec. Eng., 35, PP.14, 1997
6. A. Schiltz, and P. J. Paniez, Microelec. Eng., 27, p.416., 1995.
7. 黃慧玲,“修飾化正光阻的定性及其在微影製程上的影響”,清華大學碩士論文,1998
8. F. H. Ko, J. K. Lu, and T. C. Chu, “Characterization and lithography parameters extraction for the modified resist” , proc. SPIE, 1463, 44, 1999
9. Takahiro Matsuo, Masayuki Endo, and Shigeyasu Mori, “Polymer design in surface modification resist process for ArF lithography” , proc. SPIE, 3333, pp.2, 1998
10. J. Lamb, M. G. Moss, Solid state Technology, sep., p.79, 1993
11. A. Sekiguchi, C. A. Mack, Y. Minami, and T. Matsuzawa, proc. SPIE, 2725, p.49, 1996
12. B. Martin, G. Arthur, Microelec. Eng., 30, p.153, 1996
1. “八七年放流水標準合理性及適宜性之檢討評估”,EPA-84- E3G1-0903。
14. “放流水標準”,86年12月24日發布,行政院環境保護署。
15. 莊達人,“VLSI製造技術”,三版,高立,p.236, 1996
16. 龍文安,“積體電路微影製程”,初版,高立,p.12, 1998
17. D. J. Elliott,“Intergrated Circuit Fabrication Technology”, 2ndED., McGraw-Hill, New York, 1989
18. B. J. Lin , SPIE proceedings, Vol 1463, p.42, 1991
19. J. F. Chen, “MaskToolTM Workshop by Microunity”, Dec. 12, 1997
20. K. Sugimoto, “Progress in I-line Photoresist Development, JSR Technical Presentation”, may 13, 1998
21. K. Sugimoto, “Progress in KrF Resist Development, JSR Technical Presentation”, may 13, 1998
22. K. Eberhardt, “Semiconductor Fabtech”, Issue NO. 6, p.153, 1997
23. T. Kajita, “Material Consideration in the Development of Chemically Amplified ArF Resist”, JSR Technical Presentation, May 13, 1998
24. Larry F. Thompson, C. Grant Willson, and Murrae J. Bowden, “Introduction to Microlithography”, Second Edition, ACS, 1994
25. F. H. Dill, W. P. Hornberer, P. S. Hauge and J. M. Shaw, “Characterization of Positive Photoresist”, IEEE. Trans. Electron Devices, ED-22, p.445, 1975
26. 王應瓊,“儀器分析”,中央圖書出版社,第三版,民國79年
27. 謝德榮,“有機化學”,五南圖書出版公司,初版,民國87年
28. Saburo Nonogaki, Takumi Ueno, Toshio Ito, “Microlithography Fundamentals in semiconductor devices and fabrication technology”, Marcel Dekker, NY, 1998
29. K. Biemann, “Tables of spectral data for structure determination of organic compounds”, 1983
30. 張俊彥,鄭晃忠,“積體電路製程及設備技術手冊”,經濟部技術處發行,民國86年
31. 朱正煒,“光學薄膜之光學常數測量方法之研究”, 中央大學光電科學研究所博士論文,民國83年
32. J. S. Wall, D. D. Christianson, R. J. Dimler , and F. R. Senti, “Spectrophotometric determination of betaines and other quaternary nitrogen compounds as their periodides.” Anal. Chem., 32, 870-874(1960).
33. R. M. Wordon, and T. L. Donaldson, “Dynamics of a Biological Fixed Film for Phenol Degradation in a Fluidize-Bed Bioreactor.”Biotechnol. Bioeng., 30, p398-412, 1987.
34. T. C. Voice, D. Pak, X. Zhao, J. Shi, and R. F. Hickey, “Biological Activated Carbon in Fluidized Bed Reactors for Treatment of Groundwater Contaminated with Volatile Aromatic Hydrocarbons.”Water Res., 26, p1389-1401, 1992.