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| 研究生： |
莊景誠 Graham Chuang |
|---|---|
| 論文名稱： |
IMP鉭及氮化鉭擴散障礙層在銅金屬化製程之研究 Study of IMP Ta and TaNx as diffusion barrier layer in copper metallization |
| 指導教授： |
陳福榮
F. R. Chen 開執中 J. J. Kai |
| 口試委員: | |
| 學位類別： |
碩士 Master |
| 系所名稱： |
原子科學院 - 工程與系統科學系 Department of Engineering and System Science |
| 畢業學年度： | 87 |
| 語文別： | 中文 |
| 論文頁數： | 122 |
| 相關次數： | 點閱：1 下載：0 |
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