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研究生: 簡志宇
Chien, Chih-Yu
論文名稱: 利用化學浴沉積法鍍製緩衝層硫化鋅薄膜並應用於銅銦鎵硒太陽能電池
Study of Zinc-Sulfide Buffer Layer Fabricated by Chemical Bath Deposition for Cu(In,Ga)Se2 Solar Cell Application
指導教授: 賴志煌
Lai, Chih-Huang
口試委員: 賴志煌
羅文勳
闕郁倫
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 工學院 - 材料科學工程學系
Materials Science and Engineering
論文出版年: 2011
畢業學年度: 99
語文別: 中文
論文頁數: 85
中文關鍵詞: 硫化鋅緩衝層銅銦鎵硒太陽能電池
外文關鍵詞: ZnS buffer layer, CIGS solar cell
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  • Copper indium gallium diselenide (CIGS), which is cheap and has high efficiency, is one of the potential alternative energy. Moreover, Cd-free materials which are used to replace the CdS buffer layer is expected to solve the problem of environmental safety. In this thesis, we devote the research to replace the toxic material with ZnS buffer layer and to reach the near efficiency devices which use the CdS buffer layer. It is divided into three parts. In the first part, effects of CBD process on ZnS film properties are discussed. In the second part, effects of the precursor NH3 concentration on ZnS film properties and the defects on PN junction are discussed. In the final part, completing the devices with ZnS buffer layer and discussing the effects of light soaking and RTA. In this circumstance, the devices with ZnS buffer layer which almost achieve the efficiency with CdS-based device.


    銅銦鎵硒太陽能電池以低成本及高效率的優點成為極具發展潛力的替代再生能源,並且目前希望發展無鎘製程材料取代原本的硫化鎘緩衝層,以解決環境安全問題。本實驗中致力於使用硫化鋅緩衝層取代原本的有毒材料,期望達到相同效率的元件。本論文主要分為三部份:第一部份為探討化學浴沉積法中製程及參數的差異對於薄膜性質的影響;第二部份藉由前趨物氨水濃度的調變,探討薄膜性質於材料特性上的差異以及形成PN二極體時缺陷對於元件的影響;第三部份為硫化鋅緩衝層製作成完整元件,量測其效率,並探討Light soaking及退火對於元件效率的影響,而將硫化鋅緩衝層應用於銅銦鎵硒太陽能電池上,效率已可接近硫化鎘緩衝層所製作的元件。

    目錄 致謝 I 摘要 II Abstract III 目錄 IV 圖目錄 VIII 表目錄 XI 第一章 序論 1 1.1 能源短缺及解決方法:光電元件 1 1.2 各種太陽能電池簡介 2 1.2.1 矽基太陽能電池 (第一世代) 4 1.2.2 薄膜型太陽能電池 (第二世代) 5 1.2.3 有機及奈米材料太陽能電池 (第三世代) 7 第二章 文獻回顧與理論背景 8 2.1 太陽能電池的基本觀念 9 2.1.1 太陽光譜 9 2.1.2 太陽能電池基本原理 10 2.1.2.1 未照光下的PN二極體 10 2.1.2.2 照光下的PN二極體 11 2.2 CIGS太陽能電池 13 2.2.1 CIGS太陽能電池的結構 13 2.2.1.1 鈉玻璃基板 15 2.2.1.2 鉬金屬上電極 15 2.2.1.3 P型半導體之CIGS吸收層 15 2.2.1.4 N型半導體之緩衝層 17 2.2.1.5 窗口層 17 2.2.1.6 抗反射層 17 2.2.2 美國國家再生能源實驗室於CIGS太陽能電池上的發展 18 2.3 CIGS太陽能電池中緩衝層的介紹 20 2.3.1 緩衝層的介紹 20 2.3.2 CBD 23 2.4 CBD鍍製ZnS薄膜 24 2.4.1 薄膜的性質 24 2.4.1.1 結構 24 2.4.1.2 光學特性 25 2.4.1.3 電性質 25 2.4.2 薄膜的製備 27 2.4.3 CBD中的成長機制 28 2.4.3.1 鍍膜機制 28 2.4.3.2 鍍膜參數對薄膜性質的影響 30 2.4.4 薄膜的功用 31 2.5 CIGS太陽能電池中的PN界面 33 2.5.1 ODC 33 2.5.1.1 ODC相的性質 33 2.5.1.2 異質二極體所形成之CIGS太陽能電池 34 2.5.2 表面缺陷層所形成之同質二極體 36 2.6 論文研究方向 37 第三章 實驗方法與分析技術 38 3.1 實驗流程 38 3.2 試片製備 39 3.2.1 基板清洗 39 3.2.2 玻璃上鍍製ZnS薄膜 39 3.2.3 CIGS上鍍製ZnS薄膜 40 3.3 分析技術 40 3.3.1 場發射掃描電子顯微鏡 (FE-SEM) 40 3.3.2 穿透光譜 (UV-Visible Spectroscope) 40 3.3.3 低略角結晶繞射 (Grazing-Incident X-Ray Diffraction, GIXRD) 41 3.3.4 兩點探針電性量測系統 41 3.3.5 太陽能模擬器與量子效率分析儀 (Quantum Efficiency, QE) 41 3.3.6 感應耦合電漿原子發射光譜分析儀 (Inductively coupled plasma atomic emisssion spectrometer, ICP-AES) 42 3.3.7 電子能譜儀 (Electron spectroscope for chemical analysis, XPS) 42 3.3.8 時間解析光致螢光分析儀 (Time-resolvedphotoluminescence, TRPL) 42 第四章 結果與討論 43 4.1 不同製程對ZnS薄膜的影響 43 4.1.1 前趨物濃度高低之比較 43 4.1.2 升溫與持溫製程之比較 45 4.1.3 水平與垂直放置基板之比較 48 4.2 調變氨水濃度之影響 49 4.2.1 ZnS薄膜鍍製於玻璃基板 49 4.2.2 ZnS薄膜鍍製於CIGS薄膜 60 4.3 Light soaking與RTA之影響 66 4.3.1 利用ZnS緩衝層製作元件 66 4.3.2 Light soaking對於元件之影響 71 4.3.3 RTA對元件之影響 73 4.3.3.1. 元件製作完成後進行RTA之影響 73 4.3.3.2. 緩衝層製作完成後進行RTA之影響 76 第五章 結論 79 參考文獻 80 圖目錄 圖1-1 各種太陽能電池分類簡介 2 圖1-2 各種太陽能電池之效率成長趨勢 3 圖1-3 不同種類材料於不同光能量下的吸收係數比較 5 圖2-1 不同情況下的太陽光譜 9 圖2-2 PN二極體於未照光下的能帶圖及電流-電壓圖 10 圖2-3 PN二極體於照光下的能帶圖 11 圖2-4 太陽能電池之電壓-電流曲線圖 12 圖2-5 CIGS太陽能電池之結構 14 圖2-6 (a)CIGS黃銅礦結構 (b)Cu2Se以及In2Se3所構成之相圖 16 圖2-7 NREL於CIGS上提升效率之關鍵技術 19 圖2-8 CIGS使用不同緩衝層之EQE量測圖 20 圖2-9 不同緩衝層及不同製程應用於CIGS太陽能電池 21 圖2-10 不同緩衝層應用於CIGS太陽能電池之效率 22 圖2-11 化學浴沉積法鍍製過程 23 圖2-12 ZnS之結構特性與能隙值 24 圖2-13 Light soaking effect的原理模型 26 圖2-14 升溫和持溫兩種鍍膜流程 27 圖2-15 CBD鍍製ZnS之成長機制 29 圖2-16 CIGS太陽能電池各個結構能隙圖 32 圖2-17 CIS結構圖 (左邊) 以及ODC (CuInSe3) 結構 (右邊),黑、灰和白分別為Cu, In和Se 33 圖2-18 CIGS太陽能電池形成ODC相之能帶圖 35 圖2-19 比較CIGS以及ODC相於不同成份下的晶格常數差異 (左邊);兩種不同相由於鎵含量不同造成界面的晶格偏差 (右邊) 35 圖4-1 ZnS成長於玻璃基板上,低濃度製程SEM圖10000x (左上);高濃度製成SEM圖10000x (右上);高濃度製程SEM圖60000x (下) 44 圖4-2 低濃度與高濃度前趨物之穿透光譜量測 44 圖4-3 低濃度前趨物中升溫與持溫製程之穿透光譜 (上);高濃度前趨物中升溫與持溫之穿透光譜 (下) 46 圖4-4 升溫製程中ZnS成長於玻璃基板上,低濃度SEM圖10000x (左);高濃度SEM圖10000x(右) 47 圖4-5持溫製程中ZnS成長於玻璃基板上,低濃度SEM圖10000x (左);高濃度SEM圖10000x(右) 47 圖4-7 變氨水濃度製程SEM圖,ZnS成長於玻璃基板上:氨水0.36 M (左上);0.72 M (右上);1.08 M (左下);1.44 M (右下) 51 圖4-8 鋅離子錯合數目以及空間阻礙效應示意圖 51 圖4-9 變氨水濃度製程中之穿透光譜量測 52 圖4-10 ZnS能隙隨著氨水濃度之變化 52 圖4-11 高能隙緩衝層造成界面能障阻礙載子傳遞 53 圖4-12變氨水濃度製程中之GIXRD量測 53 圖4-14 S/Zn比例以及材料能隙隨著氨水濃度的變化 56 圖4-15 200℃, 10min真空退火後變氨水濃度製程SEM圖,ZnS成長於玻璃基板上:氨水0.36 M (左上);0.72 M (右上);1.08 M (左下);1.44 M (右下) 57 圖4-16 200℃,10min真空退火前後之GIXRD量測 (NH3 = 0.36 M) 58 圖4-17 200℃,10min真空退火前後之穿透光譜量測 (NH3 = 0.36 M) 58 圖4-18 200℃,10min真空退火前後之能隙圖 (NH3 = 0.36 M) 59 圖4-19 變氨水濃度製程SEM圖,ZnS成長於CIGS上:氨水0.36 M (左上);0.72 M (右上);1.08 M (左下);1.44 M (右下) 61 圖4-20 ZnS成長於CIGS上之剖面圖 61 圖4-21 ZnS成長於CIGS上,退火前後XPS量測Zn2P3/2之鍵結能量變化 62 圖4-22 退火前XPS進行ZnS, ZnO, Zn(OH)2之解析 63 圖4-23 退火後XPS進行ZnS, ZnO, Zn(OH)2之解析 63 圖4-24 變氨水濃度下ZnS鍍在CIGS上,TRPL量測少數載子生命周期:量測結果 (左);生命週期趨勢圖 (右) 64 圖4-25 退火前後ZnS鍍在CIGS上,TRPL量測少數載子生命周期 65 圖4-26 使用CdS緩衝層所製作之元件其照光I-V量測 67 圖4-27 使用ZnS緩衝層所製作之元件其照光I-V量測 67 圖4-28 使用CdS緩衝層所製作之元件其C-V量測,改變頻率為50, 100 kHz 69 圖4-29 使用ZnS緩衝層所製作之元件其C-V量測,改變頻率為50, 100 kHz 69 圖4-30 使用CdS緩衝層所製作之元件其QE量測,改變偏壓為0, -0.5 V 70 圖4-31 使用ZnS緩衝層所製作之元件其QE量測,改變偏壓為0, -0.5 V 70 圖4-32 使用ZnS緩衝層所製作之元件經由270 min持續照光其照光I-V量測 72 圖4-33 ZnS緩衝層所製作之元件於Light soaking 270 min前後之C-V量測 72 圖4-34 ZnS緩衝層所製作之元件於不同溫度 (100, 150, 175 ℃) 下退火其照光I-V量測 74 圖4-35 ZnS緩衝層所製作之元件於退火前後進行持續照光其電性參數變化 75 圖4-36 ZnS緩衝層鍍製完畢,退火有無於照光I-V量測上之差異 77 圖4-37 ZnS緩衝層鍍製完畢並退火所製作之元件其C-V量測 78 圖4-38 ZnS緩衝層鍍製完畢,退火有無於後續Light soaking效率成長之差異 78 表目錄 表2-1 NREL於CIGS上之效率成長 19 表2-2 JCPDS資料庫中ZnS結晶方向與繞射角 24 表4-1 使用ZnS緩衝層所製作之元件經由30 min持續照光其電性參數變化 71 表4-2 ZnS緩衝層所製作之元件於不同溫度 (100, 150, 175 ℃) 下退火其電性參數變化 74 表4-3 ZnS緩衝層鍍製完畢,退火有無於電性參數上之差異 77

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