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| 研究生： |
莊舒庭 Chuang, Shu-Ting |
|---|---|
| 論文名稱： |
不同磊晶結構對氮化鈦閘極與氧化銦錫閘極之p型氮化鎵高電子遷移率電晶體研究 Study on ITO Gate Electrode and TiN Gate Electrode for p-GaN Gate AlGaN/GaN HEMTs with Different Epitaxial Structures |
| 指導教授： |
黃智方
Huang, Chih-Fang |
| 口試委員: |
盧向成
Lu, Shiang-cheng 吳添立 Wu, Tian-Li |
| 學位類別： |
碩士 Master |
| 系所名稱： |
電機資訊學院 - 電子工程研究所 Institute of Electronics Engineering |
| 論文出版年： | 2023 |
| 畢業學年度： | 111 |
| 語文別： | 中文 |
| 論文頁數： | 91 |
| 相關次數： | 點閱：2 下載：0 |
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全文公開日期 2026/01/08 (校內網路)全文公開日期 2026/01/08 (校外網路)