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研究生: 吳忠益
Wu, Zhong-Yi
論文名稱: 氧化鋅奈米線基本物理性質之研究
Fundamental Physics Properties of ZnO Nanowires; Optical, Electrical and Magnetic Properties
指導教授: 開執中
Kai, J. J.
陳福榮
Chen, F. R.
口試委員:
學位類別: 博士
Doctor
系所名稱: 原子科學院 - 工程與系統科學系
Department of Engineering and System Science
論文出版年: 2009
畢業學年度: 97
語文別: 中文
論文頁數: 194
中文關鍵詞: 氧化鋅奈米線基本物理性質稀磁半導體詞性質電性光學
外文關鍵詞: ZnO nanowires, surface effect, Photoluminescence, Diluted magnetic semiconductor, Zn1−xCoxO nanowires, Electric measurement, O vacancies, Mechanism of ferromagnetism
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  • 隨著科技不斷的進步,現今當紅的磁、光、電三大產業的發展也邁入了奈米尺度之維度。當材料的尺寸縮小至奈米(Nano-meter)的大小,其物理特性也隨之變化,因此近年來半導體奈米線的合成技術與物理性質分析是個相當熱門的研究主題,並且可提供未來在各式新穎的奈米電子元件上應用之依據。
    由於製備容易、價格低廉、穩定安全、透明且具有優秀的光電特性等,使得ZnO成為熱門的光電半導體材料。在本論文中,首先利用高溫退火爐在不同條件下製備圓柱形與六角形兩種不同形貌的ZnO奈米線,並觀察兩種奈米線的形貌包括表面狀態與粗糙度,去討論奈米線成長與疊差形成之機制,最後把研究焦點放在觀察其光學及電學性質之測量上的差異。
    結果發現六角型ZnO奈米線其線徑尺寸分佈較不均勻,具有筆直的外觀,頂端為 的平面與六個最低指數軸 非常平整側面,在結構中未觀察到疊差;而圓柱型ZnO奈米線其尺寸可由金催化劑大小所控制,尺寸分佈均勻,形貌上有些微彎曲的現象;並且觀察到奈米線之側面表面粗糙度與疊差的存在,與探討結構中疊差形成機制。從PL分析結果發現圓柱形ZnO奈米線整體具有較高的缺陷濃度導致綠光相對強度較六角形ZnO奈米線高,另外觀察到奈米線“表面狀態”應是造成UV光峰值異常藍移的主要原因。之後從四點電極與TEM-STM量測結果,發現結構中載子濃度的差異造成圓柱型奈米線的電阻率較六角型奈米線為低,與光學測量結果一致。另外針對在量測過程中可能造成兩種奈米線接觸電阻差異的原因進行詳細的討論,結果發現除了本身ZnO奈米線結構中載子濃度的差異,另外與探針所接觸局部表面狀態差異與電子束輻照過程等,均可能改變其接觸界面之蕭基能障高度進而造成接觸電阻的差異。這些研究結果對於將來利用ZnO奈米線作為材料選擇與製程元件上,提供相當重要的參考依據。
    另外將成長之不同形貌與尺寸的ZnO奈米線利用離子佈植的方法摻雜Co離子以合成稀磁半導體合成Zn1-xCoxO奈米線,並進行結構分析與磁性質量測。
    針對剛佈植後之ZnO奈米線進行結構與成分分析,指出Co含量與結構中疊差數目隨著佈植劑量而增加,經由磁性量測均顯示為順磁訊號並無鐵磁行為。進一步利用三種不同退火條件,包括Ar氣退火、真空退火與氧氣退火進行磁性質的比較。結果發現Ar氣退火後消除部分佈植所造成的缺陷,並且開始產生磁滯行為,而真空退火後明顯的增強其鐵磁訊號且均高達室溫(300K),接著氧氣退火卻導致鐵磁訊號的明顯的減弱。這部份重要結論主要是利用不同條件的退火效應,分別造成Zn1-xCoxO奈米線本身結構修復與提高氧缺陷濃度,前者結構修復為奈米線起初鐵磁形成機制的關鍵,而後者提高氧缺陷濃度是造成室溫鐵磁的主因。
    最後量測不同尺寸與形貌之Zn1-xCoxO奈米線的磁性質,其主要目的為探討尺寸效應對鐵磁機制的影響,而重要的結論為尺寸越小的Zn1-xCoxO奈米線,因為表面積比越大,經過真空退火後,奈米線中氧原子越容易擴散出表面形成氧缺陷,進而達到室溫鐵磁行為,上述結果較符合束縛磁極化子模型(Bound magnetic polaron model)理論,強調氧缺陷濃度提高導致束縛磁極化子數量增加,彼此極化子間磁區距離變近,是形成Zn1-xCoxO奈米線室溫鐵磁機制的重要過程。


    We have fabricated the cylindrical and hexagonal-shaped ZnO nanowires by using thermal evaporation with different growth mechanism. Firstly, we will focus on the difference of crystal characterization, structure defects, and physic properties between the two types of ZnO nanowires, which were inspected by using scanning electron microscopy, x-ray diffraction, high-resolution transmission electron microscopy, photoluminescence, four-probe electric measurement and two-probe TEM-STM instrument. From the results of this study, the hexagonal ZnO nanowires yield better stoichiometry and optical property. The electrical measurement of TEM-STM technique indicates that the resistivity of hexagonal nanowires will be ten times higher than those in cylindrical nanowires. In contrast, the cylindrical ZnO nanowires display lower resistivity and higher density of green defect emission. The above findings are closely related to the structure defects, including surface roughness and point defects such as O-vacancies or Zn-interstitials, which results from the non-stoichiometric compounds. Additionally, I will discuss three kinds of mechanism of forming stacking faults in cylindrical ZnO nanowires which are closely related to its growth mechanism.
    Furthermore, we prepared Zn1−xCoxO nanowires by using Co ion implantation, and study its magnetic properties. The bombardments by Co ions produced a good number of structural defects (stacking faults and orientational variations) in the nanowires. The as-implanted Zn1−xCoxO nanowires were paramagnetic. We performed two types of thermal annealing, one in 1 atm argon flow and the other in a high vacuum, at 600 ◦C, and studied the effects of annealing on the magnetic properties of these nanowires. Argon annealing removed structural defects in the nanowires and the nanowires then revealed ferromagnetic ordering. This result suggests that structure defects are harmful to the occurrence of ferromagnetism in the Co-implanted ZnO. Noticeably, the nanowires even displayed largely enhanced ferromagnetism after annealing in a high vacuum. A subsequent annealing in oxygen has also been performed on those vacuum-annealed nanowires to study the roles played by the O vacancies in determining the ferromagnetic properties of the nanowires. Our results indicate that both the improved structural quality and the increased number of O vacancies are key factors for the occurrence of ferromagnetic ordering in the Zn1−xCoxO nanowires. The furthermore investigation will discuss the magnetic properties of size effect on cylindrical Zn1−xCoxO nanowires. The important conclusion is high surface-to-volume ratio in thin Zn1−xCoxO nanowires also facilitated enhancement in ferromagnetism through the high-vacuum annealing process, which is closely corrected the O vacancies. The results provide a unified basis for better understanding mechanism of ferromagnetism in Zn1-xCoxO system.

    目錄 摘要…………………………………………………………………… Ⅰ 英文摘要……………………………………………………………… Ⅲ 致謝…………………………………………………………………… V 目錄…………………………………………………………………… Ⅵ 圖目錄. ⅠⅩ 表目錄. ⅩⅤ 第一章 前言 1 第二章 文獻回顧 8 2-1 ZnO奈米線 8 2-1-1 ZnO基本性質與應用 8 2-1-2 ZnO 一維奈米材料之合成與發展 9 2-2奈米材料之特殊物理現象簡介 15 2-2-1量子侷限效應(Quantum confinement effect) 16 2-2-2表面效應(Surface effect) 18 2-2-3 ZnO 奈米線基本物理性質的研究 19 2-3 ZnO奈米線之光學性質研究 19 2-3-1 ZnO發光機制 20 2-3-2 ZnO 奈米線相關PL分析之討論 22 2-4 ZnO 奈米線的電學性質研究 25 2-4-1 ZnO奈米線之元件設計 25 2-4-2單根ZnO奈米線電性量測 25 2-5稀磁半導體Zn1-xCoxO 31 2-5-1 稀磁半導體之構想與重要性 31 2-5-2稀磁半導體材料 32 2-5-3稀磁半導體之應用 33 2-5-4 選擇研究Zn1-xCoxO稀磁半導體材料之動機 34 2-6稀磁半導體Zn1-xCoxO 磁性物理機制 36 2-6-1平均場理論(Mean Field Theory) 36 2-6-2 稀磁半導體之磁性來源的物理機制 37 2-6-3交互巡迴式鐵磁性(Itinerant Ferromagnetism) 38 2-6-4侷限載子式鐵磁性(Localized carrier) 41 2-6-5束縛磁極化子模型(Bound magnetic polaron model) 41 2-6-6 Zn1-xCoxO稀磁半導體不同磁性質量測結果 43 2-7稀磁半導體Zn1-xCoxO 奈米材料 46 2-7-1稀磁半導體Zn1-xCoxO 奈米材料的研究動機 46 2-7-2 稀磁半導體奈米線之製程 47 第三章 實驗步驟與分析方法 73 3-1 實驗流程 73 3-1-1圓柱型與六角型ZnO奈米線其基本物理性質比較 73 3-1-2稀磁半導體Zn1-xCoxO奈米線其結構與磁性質分析 74 3-2奈米線之製備方法 75 3-2-1圓柱形(Cylindrical-shaped)ZnO奈米線之製備 75 3-2-2六角形(Hexagonal-shaped)ZnO奈米線之製備 76 3-2-3 稀磁半導體Zn1-xCoxO奈米線之製備方法 76 3-3 分析設備與方法 80 3-3-1掃描式電子顯微鏡 80 3-3-2 X光繞射分析 81 3-3-3 TEM試片製備 81 3-3-4穿透式電子顯微鏡 82 3-3-5光激發螢光光譜儀(Photoluminescence, PL) 85 3-3-6四點電性量測系統 86 3-3-7兩點電性量測(TEM-STM)系統 87 3-3-8超導量子干涉磁量儀(SQUID)…………………………88 第四章 圓柱形與六角形ZnO奈米線其形貌、結構與基本物理性質之實驗結果比較 99 4-1 SEM分析 99 4-2 TEM分析 99 4-3 ZnO 奈米線成長機制探討 101 4-3-1圓柱型ZnO奈米線成長機制探討 102 4-3-2六角形ZnO奈米線成長機制探討 103 4-4圓柱型與六角形ZnO奈米線之XRD分析比較 105 4-5疊差在圓柱形ZnO奈米線成長機制探討 106 4-6圓柱型與六角形ZnO奈米線之PL分析結果比較 109 4-7圓柱型與六角形ZnO奈米線之電性量測分析 111 4-7-1四點量測的結果 112 4-7-2 TEM-STM量測的結果 113 4-7-3電性量測結果之比較與討論 115 4-7-4 TEM-STM量測影響ZnO奈米線接觸電阻的因素 116 4-8電子束輻照對圓柱型與六角形ZnO奈米線之形貌改變 119 4-8-1電子束輻照對六角形ZnO奈米線形貌之改變 120 4-8-2電子束輻照對圓柱型ZnO奈米線形貌之改變 121 4-8-3電子束輻照對兩種ZnO奈米線造成形貌差異 122 第五章 稀磁半導體Zn1-xCoxO奈米線其結構分析與磁性質量測之實驗結果討論 148 5-1 佈值後Zn1-xCoxO奈米線之成分與結構分析 148 5-2 佈值後Zn1-xCoxO奈米線之磁性質量測 150 5-3 退火效應對Zn1-xCoxO奈米線之微結構分析 151 5-4-1三種不同退火效應對於Zn1-xCoxO奈米線 152 5-4-2三種不同退火效應與磁性質之討論 153 5-5不同形貌與尺寸Zn1-xCoxO奈米線之磁性質研究 155 第六章 結論 174 6-1圓柱型與六角型ZnO奈米線之結構與基本物理性質比較 174 6-2 稀磁半導體Zn1-xCoxO奈米線之磁性質形成機制與因素 175 第七章 未來研究方向 179 參考文獻 181 圖目錄 圖2-1 ZnO結構示意圖 50 圖2-2 (a)鍺奈米線成長過程(b) VLS成長機制之示意圖(c) 不同催化劑Sn顆粒大小導致ZnO奈米線成長方向不同 50 圖2-3 藉由螺旋差排結構說明氣相沉積凝核機制 51 圖2-4六角型奈米柱不同階段之成長SEM與示意圖 51 圖2-5 (a)兩種不同成長方向的ZnO奈米帶(b)由奈米帶不同極化面所成出不同形貌之分支結構(c)奈米螺旋晶體 52 圖2-6 ZnO green emission強度與Vo*數量及載子濃度隨溫度變化關係圖 53 圖2-7 (a)(b)分別為自由載子濃度較低與較高時的氧化鋅晶粒之能帶橫截面圖 53 圖2 -8 (a) G. Bylandern及(b)B. Lin所提出的ZnO各種缺陷能帶圖 54 圖2-9 (a)不同尺寸ZnO奈米線之PL圖譜(b) UV/green 比值與奈米線尺寸 54 圖2-10 (a) 週期性結構奈米帶PL光學量測影像(b)週期性奈米帶之結構示意圖(c)不同區域之PL分析量測結果 55 圖2-11 (a) CL量測不同尺寸的ZnO奈米線,觀察到隨奈米線尺寸變小,UV光峰值呈現藍移的現象,(b)能帶差異量(△Eg)與奈米線線徑的倒數(1/d)顯示UV光峰值異常的藍位移(Anomalous blue shift)的現象 56 圖2-12 (a)針對同一根ZnO奈米線不同粗細部份,進行光譜量測 57 圖2-13 (a)當接點接觸電阻較小約15KΩ時,視為理想的歐姆接觸(b)當接點接觸電阻約50KΩ-100 KΩ時,屬於典型的蕭特基接觸(c)當接觸電阻最大約為1.5MΩ時,其電性行為符合電子之變程式跳躍傳輸形式 58 圖2 -14 TEM-STM系統及原理示意圖 59 圖2 -15 TEM-STM量測金屬性RuO2與ITO奈米線的研究中,藉著三步驟(a)清理探針及奈米線表面(b)增加接觸面積(c)電子束輻照 (d)接觸電阻減小為理想的歐姆接觸 60 圖2 -16 (a)金屬-半導體-金屬結構的能帶關係示意圖(b)金屬-半導體-金屬結構中量測訊號關係圖V1、V3為接觸面能障所貢獻的訊號,V2為奈米線本身貢獻的訊號 61 圖2-17 (A)磁性半導體--磁性半導體內磁性元素為週期性排列(B)稀磁半導體—參雜少量磁性元素 (C)非磁性材料 62 圖2-18 Ohno利用(In,Mn)As製作稀磁半導體之場效電晶體元件 62 圖2-19 磁訊號隨閘極電壓的增大而有逐漸減弱的趨勢 62 圖2-20 電洞濃度的多寡會影響電子自旋的排列方式 63 圖2-21 Spin- LED結構與運作示意圖 63 圖2-22(a)T. Dietl等人以平均場理論預測高居禮溫度材料,指出ZnO與GaN均有潛力成為高於室溫之稀磁半導體 64 圖2-23居禮溫度Tc與增加載子濃度以及磁性原子的關係圖 64 圖2-24 為各種3d過渡金屬於ZnO中溶解度的比較圖 64 圖2-25 Itinerant Ferromagnetism示意圖 65 圖2-26 利用N-capped 與O-capped調控ZnMnO 與ZnCoO 之可逆鐵磁行為 65 圖2-27圖示說明 與 65 圖2-28說明其鐵磁形成機制為雙交互耦合機制,O2-左右側為Co2+與Co+,藉由電子發生兩次跳躍而傳遞磁性 66 圖2-29Zn蒸汽退火前後ZnCoO樣品之X光吸收光譜 66 圖2-30 Disorder示意圖 67 圖2-31 J.M. D. Coey 團隊合成(Zn1-xMx)O材料 67 圖2-32電子自旋分化與施體雜質能帶理論 67 圖2-33固定摻雜5%Co離子並改變樣品成長時的氧分壓,發現隨著氧分壓越低,ZnCoO磁性越被增強 68 圖2-34 束縛磁性極化子模型示意圖 68 圖2-35(左)Zn1-xCoxO薄膜中發現Co cluster 之TEM 影像,(右)Co K-edge 之EXAFS經傅力葉轉換得到的RDF結果 69 圖2-36 (a) 為兩種不同分壓成長Zn1-xCoxO奈米粒磁性質比較(b) Sample A 之TEM 分析(c) Sample B之TEM 分析 69 圖 2-37(左)真空退火前後Zn(CoFe)O載子濃度之比較(右)經過真空退火後樣品導電率與磁性明顯增強了 70 圖2-38 Zn1-xCoxO奈米粒磁並利用Zn蒸汽與O蒸汽進行退火後的磁性質 70 圖3-1.實驗流程圖 89 圖3-2實驗流程圖 90 圖3-3(a)圓柱型ZnO奈米線製成配置圖與高溫爐升溫及持溫曲線 91 圖3-3(b)六角型ZnO奈米線製成配置圖與高溫爐升溫及持溫曲線 91 圖3-4 SRIM 模擬 92 圖3-6佈植系統真空腔與 ZnO奈米線樣品佈植前後圖 93 圖3-7場發射式掃描式電子顯微鏡(JEOL JEM-6330F) 94 圖3-8場發射式穿透式電子顯微鏡(JEOL JEM-2010F) 94 圖3-9電子束與試片作用後產生不同之訊號 95 圖3-10(a) EELS GIF儀器示意圖(b)EELS能譜中不同能損範圍訊息 95 圖3-11 PL量測系統架構圖 96 圖3-12 四點量測電極之示意圖 96 圖3-13(a) TEM-STM兩點電性量測系統(b) TEM-STM試片製備 97 圖3-14(a)探針接觸到奈米線之影像(b)量測到電流對電壓之曲線圖 97 圖3-15 超導量子干涉磁量儀 98 圖4-1(a)-(e) 不同尺寸之圓柱型ZnO奈米線的FEGSEM 影像(e)內為圓柱型截面的TEM影像(f)六角型ZnO奈米線SEM 影像 124 圖4-2 (a)-(d) 不同尺寸的金顆粒催化劑成長之奈米線徑統計分佈圖(e)金顆粒與奈米線徑統計分佈的關係圖(f)六角型ZnO奈米線的線徑分佈圖 125 圖4-3(a)-(c) 分別為5nm、10nm、40nm 圓柱型ZnO奈米線的HRTEM影像(d) 六角型ZnO奈米線 126 圖4-4(a)與(b)為六角型ZnO奈米線截面與邊界之HRTEM影像 (c)與(d)為六角型ZnO奈米線截面與邊界之HRTEM影像 127 圖4-5(a) 40nm Au 催化劑於基板上 (b)顯示ZnO奈米線成長於2小時後於機版的SEM影像 (c) ZnO奈米線成長於8小時後於基板上 (d) 圓柱型ZnO奈米線之VLS機制成長示意圖 127 圖4-6圓柱型ZnO奈米線成長狀況與溫度分布關係圖。 (a) 成長溫度為600℃。 (b).成長溫度為550℃。(c).成長溫度為500℃的ZnO奈米線成長情形 128 圖4-7(a) Zn原子沈積基板為成核基地(b)成長兩小時之SEM影像。(c)-(e) 六角型ZnO奈米線於不同階段的影像(f)-(h)表面ledge成長的情形 129 圖4-8(a)-(c) 末端具有不同形貌的六角型奈米柱。(d) 六角型形貌的奈米管 130 圖4-9 (a)-(b) 圓柱型與六角型ZnO奈米線之XRD分析比較結果 131 圖4-10(a) 圓柱型ZnO奈米線的HRTEM影像,其電子束入射方向為 ,可觀察到結構中有二維缺陷疊差。(b)明場與暗場之TEM影像,可明顯的觀察到疊差的存在 132 圖4-11(a) 金顆粒與圓柱型ZnO奈米線界面之TEM像 (b)-(c) 為奈米線彎曲部分的TEM與HRTEM影像 132 圖4-12(a) 圓柱型ZnO奈米線中第一類型疊差之HRTEM影像(b)疊差所在位置之burger向量 133 圖4-13(a) 圓柱型與六角型ZnO奈米線在室溫下的PL分析結果比較(b) 不同尺寸圓柱型ZnO奈米線在室溫下其綠光與紫光相對強度的比較(c)在7K下紫光波段,隨著尺寸變小有藍移的現象。 134 圖4-14五種不同平均尺寸(113、 38、 20、 10、 5nm)圓柱型奈米線(a)奈米線徑倒數(1/d)對綠光與紫光強度比值作圖。(b奈米線徑倒數(1/d)對紫光光峰值分別於室溫與7K作圖 135 圖4-15(a) 圓柱型與六角型ZnO奈米線之四點量測電極的SEM影像 (b) 利用四點量測方法量測圓柱型與六角型ZnO奈米線之電阻率隨溫度變化的關係圖(c)導電率隨溫度變化的關係圖 136 圖4-16(a)-(b) 利用TEM-STM量測圓柱型與六角型ZnO奈米線之兩點量測TEM影像(c)同樣經過三種改善電性的方法處理後,得到兩種奈米線線性的I-V曲線 137 圖4-17(a)-(b)為圓柱型與六角型ZnO奈米線TEM-STM電性測量結果,並對電阻(R) VS (L/A) 做圖 138 圖4-18(a)藉由兩點電極量測可得 R2p = R2 + Rc2 + Rc3。(b) 四點電極量測量測可得R4p = R2 。經由R2p-R4p=Rc2 + Rc3 ,即可得兩接觸電阻大小。 139 圖4-19(a)-(b) 利用TEM-STM量測針對同一根圓柱型ZnO奈米線之端點與側面進行接觸,所量測到之I-V 曲線圖 140 圖4-20(a)-(c)利用TEM-STM量測針對同一根圓柱型ZnO奈米線之側面四個不同的點進行接觸,所量測到之I-V 曲線圖 140 圖4-21(a)-(c) 利用CL量測六角型ZnO奈米線不同平面之光譜 141 圖4-22. (a)-(b) 利用TEM-STM量測針對六角型ZnO奈米線之端點與側面進行接觸,量測其I-V曲線 141 圖4-23.(a)-(b)六角型ZnO奈米線經過電子束輻照前後所得到之TEM影像 142 圖4-24.(a)-(d)六角型ZnO奈米線經過不同時間(0、10、20、30分鐘) 之電子束輻照所得到之TEM影像 142 圖4-25. (a)-(b) 圓柱型ZnO奈米線經過電子束輻照前後所得到之TEM影像 143 圖4-26.(a)-(d) 圓柱型ZnO奈米線經過不同時間(0、5、10、15分鐘) 之電子束輻照所得到之TEM影像,可觀察到奈米線表面島狀物越明線 143 圖4-27.(a)-(d) 圓柱型ZnO奈米線經過不同時間(3、5、10、15分鐘) 之電子束輻照所得到之TEM影像 144 圖4-28.(a) 六角型ZnO奈米線之截面TEM影像(b)經過5分鐘之電子束輻照所得到之TEM影像(c)截面周圍出現析出物之放大影像(d)經過8分鐘之電子束輻照後,截面中心出現六角型之(Etch pit) 145 圖4-29.(a) 直徑約30nm ZnO奈米帶之TEM影像。(b)-(c) 分別經過10分鐘與20分鐘之電子束輻照後的TEM影像 146 圖5-1(a) 利用離子佈植的方式製備稀磁半導體ZnCoO 奈米線的示意圖(b)此即為側面剖面圖之SEM影像 159 圖5-2(a)剛佈植後之圓柱型ZnO奈米線的EDX 分析譜圖(b) Zn、O、Co 的EELS 成分分佈圖 160 圖5-3(a) 奈米線佈植不同劑量Co 離子的XRD分析結果(b)不同劑量Co 離子對於奈米線a-軸與c-軸平面間距的改變 161 圖5-4(a) 剛佈植後之圓柱型ZnO奈米線的SEM影像 (b) 剛佈植後之圓柱型ZnO奈米線的HRTEM影像 162 圖5-5(a)為剛佈植後之佈植不同劑量之1/χ-T曲線圖(b)為佈植劑量為6×1016cm-2 時在佈植完的磁滯曲線(M-H curve) 163 圖5-6(a)奈米線佈植不同劑量Co 離子之奈米線,經過600℃退火12小時後XRD結果(b) a軸與c軸平面間距的改變 164 圖5-7 (a)退火後之圓柱型ZnO奈米線的SEM影像(b)退火後之圓柱型ZnO奈米線的HRTEM影像 165 圖5-8 (a)統計每單位長度100nm 疊差的個數,比較不同佈植劑量退火前後的差異(b) 比較退火前後不同佈植劑量之繞射圖形的orientation variation 166 圖5-9(a)佈植劑量為6×1016cm-2 並經過Ar退火後與剛佈植後的磁滯曲線做比較 (b)為不同佈植劑量在Ar退火後的磁滯曲線 167 圖5-10(a)剛佈植、Ar退火與真空退火三種不同條件下之磁滯曲線 (b)摻雜三種不同劑量之M-T 曲線 168 圖5-11(a) ZnCoO奈米線經過真空退火後,再進行氧氣退火,並比較其磁滯曲線(M-H curve),確認氧缺陷對鐵磁性質所扮演的重要性(b) 真空退火與氧氣退火之M-T 曲線的比較 169 圖5-12(a)圓柱形ZnO奈米線以及六角形ZnO奈米線經過72KeV的Co離子佈植後,佈植劑量為6×1016cm-2,分別進行Ar退火與真空退火之M-T 曲線磁性質比較(b)佈植後與Ar退火之M-H曲線比較(c)真空退火之M-H曲線比較 170 圖5-13圓柱形ZnO奈米線以及六角形ZnO奈米線PL分析比較(a)未佈植前(b) Co離子佈植後(c) Ar退火後 171 圖5-14(a)不同尺寸圓柱型ZnO奈米線,經過Co離子摻雜後之M-H曲線的比較(b) M-T曲線的比較 172 圖5-15(a) 19nm ZnCoO 奈米線經剛佈植與真空退火3小時之M-H曲線(b) 38nm ZnCoO 奈米線經剛佈植、真空退火6小時與12小時之M-H曲線 173 表目錄 表2-1為目前Zn1-xCoxO稀磁半導體報導為鐵磁性質 71 表2-2為目前Zn1-xCoxO稀磁半導體報導為順磁或反鐵磁 71 表2-3為Zn1-xCoxO稀磁半導體其鐵磁性質來自於析出物 71 表2-4為Zn1-xCoxO稀磁半導體其磁性質與結構有關連性 72 表2-5 藉由產生缺陷或摻雜其他離子來增強Zn1-xCoxO的鐵磁性 72 表2-6 為不同製程方法成長Zn1-xCoxO奈米材料 72 表4-1四點電極電性量測結果。 147 表4-2針對不同輻照時間所形成表面島狀物進行長寬之量化統計 147

    參考文獻
    第一章 前言
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