研究生: |
賴世國 |
---|---|
論文名稱: |
氮化鋁鎵孕核層中鋁原子偏析之研究 |
指導教授: |
開執中
陳福榮 |
口試委員: | |
學位類別: |
碩士 Master |
系所名稱: |
原子科學院 - 工程與系統科學系 Department of Engineering and System Science |
論文出版年: | 2001 |
畢業學年度: | 89 |
語文別: | 中文 |
論文頁數: | 95 |
中文關鍵詞: | 氮化鋁鎵 、孕核層 、偏析 |
外文關鍵詞: | AlGaN, buffer layer, segregation |
相關次數: | 點閱:2 下載:0 |
分享至: |
查詢本校圖書館目錄 查詢臺灣博碩士論文知識加值系統 勘誤回報 |
摘要
本次實驗藉由穿透式電子顯微鏡(TEM)以及X光能量分散譜儀(EDS)觀察氮化鋁鎵(AlxGa1-xN)孕核層(buffer layer)中鋁原子濃度與差排之間相互的關係,並分析氮化鋁鎵孕核層與6H-SiC基板之間的界面顯微結構。
氮化鋁鎵孕核層經由有機化學氣相沈積法(MOCVD)成長完後,由於孕核層與基板之間晶格常數的不匹配導致差排大量產生,實驗中發現,當鋁原子濃度越高時,會造成孕核層中差排密度的直線攀升,主要的原因在於界面處會產生鋁富集區,更造成孕核層與鋁富集區之晶格常數隨著濃度越高差距越大,因此晶格不匹配的程度益加明顯,遂使的孕核層中的鋁濃度越高時差排密度越高。
孕核層中存在有三種不同型式的差排,分別為刃差排、螺旋差排以及混合式差排,不同的差排具有不同的應變場。實驗中觀察到氮化鋁鎵孕核層中的鋁原子會為了降低整體的能量,便藉由偏析至缺陷處以達到能量平衡的狀態,再加上差排本身的應變場與鋁原子之間產生相互吸引,更幫助了鋁原子偏析行為的發生,但鋁原子並不是與各種差排都能夠產生大量的偏析。以螺旋差排來說,其本身所產生的應變場是屬於晶格扭曲且為球形對稱,再加上螺旋差排的應變場又是純剪應力,因此造成鋁原子偏析的情形不易發生;相反的,刃差排則因為正向應力場使然,因而造成正向晶格應變,鋁原子便極易在差排中心附近找到適當的容納位置,偏析量自然增加;而混合式差排的偏析量則不一定,端看刃差排與螺旋差排的分量而定。
根據HR-TEM影像及EDS量測後可發現,孕核層與基板的界面處蘊藏著鋁富集界面層,其產生的原因最主要是為了降低界面能以及調整晶格的不匹配,因為就晶格常數匹配的理論來說,若是氮化鋁鎵三元合金中的鋁原子成分比例越高時,其晶格常數與基板6H-SiC會越趨近,亦即當界面鋁含量越高時,晶格匹配程度越佳,差排的密度應該越少。但是,從實驗所得到的數據卻不是如此,鋁原子濃度越高時反而造成差排密度的增加,真正的原因即在於鋁富集層,雖然其與基板的匹配程度增加了,但是卻造成與實際的氮化鋁鎵孕核層匹配程度下滑,實驗中所發現差排密度的增加之原因則是由此而來。
參考文獻
1. 國立中央大學光電科學研究中心氮化鎵技術研討會1999年4月16日
2. 江禛裕,李季達,"氮化鎵市場現況與展望",氮化鎵技術研討會(1999年4月)
3. M. D. Bremser, W. G. Perry, T. Zheleva, N. V. Edwards, O. H. Nam, N. Parikh, D. E. Aspnes, Robert F. Davis, Mater. Res. Soc. 1, 8(1996)
4. T. Warren Weeks, Jr. Michael, D. Bremser, K. Shawn Ailey, Eric Carlson, William G. Perry, and Robert F. Davis, Appl. Phys. Lett. 67(1995)401
5. J. A. Smart, A. T. Schremer, N. G. Weimann, O. Ambacher, L. F. Eastman, and J. R. Shealy, Appl. Phys. Lett. 75(1999)388.
6. W. C. Johnson, J. B. Parsons, and M. C. Crew, J. Phys. Chem. 36, 251(1932).
7. H. P. Maruska and J. J. Tietjen, Appl. Phys. Lett. 15(1969)367.
8. J. I. Pankove, E. A. Miller, D. Richman, and J. E. Berkeyheiser, RCA Review 32(1971)
9. J. I. Pankove, and J. A. Hutchby, J. Appl. Phys. 47(1976)5387
10. H. P. Maruska, W. C. Rhines, and D. A. Stevenson, Mat. Res. Bull. 7(1972)772
11. H. P. Maruska, D. A. Stevenson, and J. I. Pankove, Appl. Phys. Lett. 22(1972)306
12. J. I. Pankove and J. A. Hutchby, J. Appl. Phys. 47(1976)5387
13. S. Yoshida, S. Misawa, S. Gonda, J. Vac. Sci. Technol. B1, 250(1983)
14. H. Amano, N. Sawaki, I. Akaski, and Y. Toyoda, Appl, Phys. Lett 48, 353(1986)
15. I. Akasaki, H. Amano, Y. Koide, K. Hiramatsu, and N. Sawaki, J. Cryst. Growth 98, 209(1989)
16. H. Amano, M. Kitoh, K. Hiramatsu, N. Sawaki, and I. Akasaki, Jpn. J. Appl. Phys. 28, L2112, (1989)
17. S. Nakamura, Jpn. Appl. Phys. 30(1991)L1705
18. S. Nakamura, Y. Harada, and M. Seno, Appl. Phys. Lett. 58(1991)2021
19. S. Nakamura, M. Senoh, and T. Mukai, Jpn. J. Appl. Phys. 32, 8(1993)
20. S. Nakamura, M. Senoh, N. Iwasa, and S. Nagahama, Appl. Phys. Lett. 67, 1868(1995)
21. S. Nakamura, J. Appl. Phys. 76, 8189(1994)
22. S. Nakamura et al, J. Appl. Phys. 35, 74(1996)
23. S. Nakamura, MRS. Bull, 22(2), 29(1997)
24. S. Nakamura, MRS. Bull, 37(1998)
25. 電子資訊,第六卷第一期2000年六月
26. S. M. Sze, in Semiconductor Devices Physics and Technology, (Willey, New York, 1985),p.303
27. S. Nakamura, Semicond. Sci. Technol. 14(1999)27
28. V. Potin, P. Vermaut, O. Ruterana, and G. Nouet, J. of Electron. Mater, 27, 266(1998)
29. S. Nakamura, Jpn. J. Appl. Phys. 30, 1750(1991)
30. S. D. Wolter, B. R. Stoner, J. T. Glass, P. J. Ellis, D. S. Buhaenko, C. E. Jenkins, and P. Southworth, Appl. Phys. Lett. 62,1215(1993)
31. Y. S. Park, SiC Materials and Devices, Academic Press, New York, 1998
32. R. K. Willardson, Eicke. R. Weber, SiC Materials and Devices, Semiconductors and semimetals, San Diego, 52(1998)
33. M. A. Kahn, J. N. Kuznia, D. T. Olson, and R. Kaplan, J. Appl. Phys. 73, 3108 (1993)
34. J. N. Kuznia, M. A. Khan, D. T. Olson, R. Kaplan, and J. Freitas, J. Appl. Phys. 73,4700(1993)
35. W. Qian, M. Skowronski, M. De Graef, K. Doverspike, L. B. Rowland, and D. K. Gaskill, Appl. Phys. Lett. 66. 1252(1995)
36. H. Amano, I. Akasaki, K. Hiramatsu, N. Koide, and N. Sawaki, Thin Solid Film 163, 415(1988)
37. I. Akasaki, H. Amano, Y. Koide, K. Hiramatsu, and N. Sawaki, J. Cryst. Growth 98, 209(1989)
38. K. Hiramatsu, S. Itoh, H. Amano, I. Akaski, N. Kuwano, T. Shiraishi, and K. Oki, J. Cryst. Growth 115, 628(1991)
39. T. Warren Weeks, Jr. Michael D. Bremserm K. Shawn Ailey, Eric Carlson, William G. Perry andRobert F. Davis, Appl. Phys. Lett. 67(3),17(1995)
40. F. A. Ponce and B. S. Krusor, J. S. Major, Jr. W. E. Plano, and D. F. Welch, Appl. Phys. Lett. 67(3),17(1995)
41. F. R. Chien, X. J. Ning, S. Stemmer, and P. Pirouz, M. D. Bremser and R. F. Davis, Appl. Phys. Lett. 76, 7(2000)
42. J. N. Stirman, F. A. Ponce, A. Pavlovska, I. S. T. Tsong, and David J. Smith ,Appl. Phys. Lett. 68(19),6(1996)
43. Jian Chen, Zachang H. Levine, and John W. Wilkins, J. Appl. Phys. 66, 1129 (1995)
44. I. Akasaki, K. Hiramatsu, and H. Amano, Memoirs of Faculty of Engineering, Nagoya University, 43, 147(1991)
45. H. P. Maruska and J. J. Tietjen, Appl. Phys. Lett 15, 367(1969)
46. 晶體之結構與性質 余樹楨著
47. S. C. Jain, M. Willander, J. Narayan and R. Van Overstraeten, J. Appl. Phys. 87, 965(2000)
48. S. Nakamura, Jpn. J. Appl. Phys. 30, 1750(1991)
49. S. Nakamura, Jpn. J. Appl. Phys. 30, 11620(1991)
50. S. C. Jain, M. Willander, J. Narayan, R. Van Overstraeten, J. Appl. Phys. 87, 965(2000)
51. Y. Koide, H. Itoh, M. R. H. Khan, K. Hiramatsu, N. Sawaki, and I. Akasaki, J. Appl. Phys. 61, 4540(1987)
52. H. Anger et al, Appl. Phys. Lett. 71, 1504(1997)
53. C. Stampfl and C. G. Van de Walle, Appl. Phys. Lett. 72, 459(1995)
54. D. Korakakis, H. M. Ng, K. F. Ludwig, Jr. and T. D. Moustakas, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 449, 233(1997)
55. Lisen Cheng, Ze Zhang, Guoyi Zhang, and Dapeng Yu, J. Appl. Phys. 71, 3694(1997)
56. H. Sakai et al, Jpn. J. Appl. Phy. 32, 1105(1996)
57. Wook Kim, O. Aktas, A. E. Botchkarev, A. Salvador, S. N. Mohammad. And H. Morkoc, J. Appl. Phys. 79, 7657(1996)
58. J. L. Rouviere, M. Arleru, B. Daudin, G. Feuillet, and O. Briot, Mater. Sci. Eng. B50, 61(1997)
59. S. Nakamura, Semicond. Sci. Technol, 14, 27(1999)
60. Transmission Electron Microscopy, David B. Williams and C. Barry Carter
61. S. C. Jain, Germanium-Silicon Strained Layers and Heterostructures, Advances in Electronics and Electron Physics series, Supplement 24(Academic, Boston, 1994)
62. S. C. Jain, A. H. Harker, and R. A. Cowley, Philos. Mag. A 75, 1461(1997)
63. J. R. Waldrop and R. W. Grant, Appl. Phys. Lett. 68, 2879(1996)
64. G. Martin, A. Botchkarev, A. Rockett, and H. Morkoc, Appl. Phys. Lett. 68, 2541 (1996)
65. K. Pinardi, U. Jain, S. C. Jain, H. E. Maes, R. Van Overstraeten, and M. Willander, J. Appl. Phys. 83, 4724(1998)
66. J. P. Hirth and J. Lothe, Theory of Dislocations(McGraw-Hill, New York, 1968)
67. K. Hiramatsu and I. Akasaki, Jpn. J. Appl. Phys, Part 1 32, 1528(1993)
68. T. Kozawa, T. Kachi, H. Kano, H. Nagasw, N. Koide, and K. Manabe, J. Appl. Phys. 77, 4389(1995)
69. W. J. Meng, J. A. Sell, T. A. Parry, L. E. Rehn, and P. M. Baldo, J. Appl. Phys. 75. 3446(1994)
70. International Table for X-ray Crystallography, 4, 99(1974)
71. P. Vennegues and H. Lahreche, Appl. Phys. Lett. 77. 4310(2000)