本論文在研究不同材料下較佳的對稱性Ｘ光共振腔結構。所謂的對稱性X光共振腔指的是由兩片厚度相同的晶體平板所組成的共振腔。我們所選用的材料有兩種：矽與鑽石，此兩種材料皆為鑽石結構。矽乃是常見的半導體材料，用來製作X光共振腔，具有經濟與簡便的好處。而鑽石材料雖然昂貴，但反射率較矽材料為佳，故我們選用此兩種材料進行模擬。

為了提高F值，我們先選出此鑽石結構下，較少繞射光的背向反射方向。接著，以動力繞射理論為基礎，使用Yu. P. Stetsko所寫的程式，計算在不同能量下，Ｘ光共振腔的穿透與反射強度分佈。藉由改變共振腔兩平板的厚度與間距，進而決定較佳F值的共振腔結構。最後並將入射光假設為高斯波包，模擬在實驗中穿透光的能量掃描強度分佈圖。

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