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| 研究生： |
楊鈞量 Yang, Chun-Liang |
|---|---|
| 論文名稱： |
開發先進材料與膜層結構設計具CMOS相容性之垂直式磁穿隧接合 Advanced Materials and Layer Design for CMOS Compatible Perpendicular Magnetic Tunnel Junctions |
| 指導教授： |
賴志煌
Lai, Chih-Huang |
| 口試委員: |
林秀豪
Lin, Hsiu-Hau 鄭弘泰 Jeng, Horng-Tay 李尚凡 Lee, Shang-Fan 謝嘉民 Shieh, Jia-Min |
| 學位類別： |
博士 Doctor |
| 系所名稱： |
工學院 - 材料科學工程學系 Materials Science and Engineering |
| 論文出版年： | 2023 |
| 畢業學年度： | 111 |
| 語文別： | 英文 |
| 論文頁數： | 130 |
| 相關次數： | 點閱：2 下載：0 |
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全文公開日期 2028/08/06 (校內網路)全文公開日期 2028/08/06 (校外網路)