簡易檢索 / 詳目顯示

研究生: 劉家豪
論文名稱: 半導體製造選擇派工機台之預測方法
指導教授: 鄭西顯
口試委員:
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 工學院 - 化學工程學系
Department of Chemical Engineering
論文出版年: 2008
畢業學年度: 96
語文別: 中文
論文頁數: 32
中文關鍵詞: 派工半導體機台
相關次數: 點閱:1下載:0
分享至:
查詢本校圖書館目錄 查詢臺灣博碩士論文知識加值系統 勘誤回報
  • 半導體製程是一個多種步驟以及擁有大量機台跟多樣化的產品的製程,在這樣的生產環境之下,產品、製程與機台的搭配影響生產效率至大,如何提升生產品質並且不會造成產品延遲交貨,以及如何提升生產產能(throughput)且能維持其生產品質,是我們目前面臨到的問題,因此安排製造排程以及現場派工是一個重要的議題。其中,在半導體製程中某兩道製程是半導體中相當重要的步驟,目前工廠欲得到決定這兩個站點的路徑優先順序之方法,以改善目前工廠現有利用經驗與直覺方法來安排機台,造成無法發揮其最大產能。我們將會由工廠所提供的數據來分析,並由這些數據來訂定出一套排程與派工的優先順序,藉此來改善目前工廠所面臨到的問題,我們將會在本文中探討這個方法。


    目錄 圖目錄 I 表目錄 II 1. 緒論 1 1.1. 簡介 1 1.2. 文獻回顧 6 1.3. 研究動機 7 2. 研究方法 9 2.1. 選擇備用機台之預測方法 9 2.1.1. 系統分析 9 2.1.2. 預測方法建立 12 2.2. 比較機台處理量來選擇備用機台之方法 19 3. 研究結果之分析比較 22 3.1. 兩種預測方法之結果 22 3.2. 比較工廠實例與預測方法之結果 26 4. 結論 30 5. 參考文獻 31

    [1] Leachman, R.C. et al, “Benchmarking semiconductor manufacturing”, IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, vol. 9 , no. 2, pp.158-169, 1996.

    [2] Blackstone, J. H. & Phillips, D. T. & G. L. Hogg, “A state of the art survey of dispatching rules for manufacturing job shop operations,” International Journal of Production research, vol. 20, pp27-45, 1982.

    [3] Giegandt, A. & Nicholson, G. “Better Dispatch Application- a Success Story” , Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop, 1998.

    [4] Chern, C. C. & Liu, Y. L. “Family-based scheduling rules of a sequence-dependent wafer fabrication system”, IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, vol. 16, no. 1 ,pp. 15-25, 2003.

    [5] Hurwitz, A.M. , “Uniformity measures in semiconductor manufacturing” , IEEE/SEMI International Semiconductor Manufacturing Science Symposium, p 7-11, 1993

    [6] Ho,W.K. et al., “Critical dimension uniformity via real-time photoresist thickness control ” ,IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing ,vol. 20, no. 4, p 76-80,2007

    [7] Lee,L.L. et al., “Real-time predictive control of photoresist film thickness uniformity” , IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, vol. 15, no. 1, p 51-9, 2002

    [8] Armaou, A. , “Feedback control of plasma etching reactors for improved etching uniformity” , Chemical Engineering Science vol. 56, p 1467-1475, 2001

    [9] Kim, J. et al., “Gradient and Radial Uniformity Control of a CMP Process Utilizing a Pre-and Post- Measurement Strategy”, Proceedings of the Fifth Int'l Chemical Planarization of ULSI Multilevel Interconnection Conference, 215-221, 8 pages.

    [10] W. Press, S. et al,“Numerical Recipes in C: The Art of Scientific Computing”, Chapter 15:Moedling of Data, Cambridge University Press,1993

    [11] 許棟樑、黃嘉若,在半導體製造廠黃光區機台規劃,計量管理期刊,2006
    [12] 莊達人,VLSI 製造技術,高立圖書有限公司,台北,2004
    [13] 蕭宏,半導體製程技術導論,歐亞書局,台北,2006
    [14] 簡禎富,施義成,林振銘,陳瑞坤,半導體製造技術與管理,清華大 學出版社,台北,1994

    無法下載圖示 全文公開日期 本全文未授權公開 (校內網路)
    全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)
    QR CODE