滾筒式奈米壓印是目前最具前瞻性的軟性電子製程技術之一。其原理是以表面具有奈米結構之滾筒模具，在可撓性基板上，同時進行連續性滾壓與固化以製造奈米結構。比起傳統批次式製程具有低生產成本、低耗能、高產能、大面積連續製造等優勢。
然而因為滾筒表面為曲面，滾筒式奈米壓印模具的製作較平面式更為困難。為了研發奈米尺度的無縫模具，本研究結合精密機械設計與雷射干涉微影 (Laser Interference Lithography, LIL) 技術，設計製造一具精密滾筒曝光機台。製程方面，於滾筒表面塗佈光阻，經過LIL於滾筒表面定義微奈米特徵圖形，再經過顯影與無電鍍鎳製程，可得到滾筒鎳模具。
機械設計方面，首先分析LIL曝光製程可能之運動方式、所需之整體精度與容許誤差，設計包含旋轉與直線運動之曝光機台，然後使用誤差轉移矩陣理論，對機台進行運動誤差分析，最後使用電容式位移計量測其動態徑向與軸向旋轉誤差，以驗證機台設計。

[1] Chia-Jen Ting, Chi-Feng Chen and C.P. Chou, “Subwavelength structures for broadband antireflection application,” Optics Communications 282. 2009, p 434-438.
[2] 陳品璋，“準分子雷射直寫技術應用於具微米特徵之無接縫滾筒膜仁”，成功大學，台南，2008。
[3] Tzu-Chien Huang, ” Direct fabrication of microstructures on metal roller using stepped rotating lithography and electroless nickel plating,” Microelectronic Engineering 2009, p 615-618.
[4] Liang-Ting Jiang, Tzu-Chien Huang, Chih-Yuan Chang, Jian-Ren Ciou, Sen-Yeu Yang and Po-Hsun Huang, “Direct fabrication of rigid microstructures on a metallic roller using a dry film resist,” J. Micromech. Microeng. 2008, 015004.
[5] Jun Taniguchia and Masao Aratani, ” Fabrication of a seamless roll mold by direct writing with an electron beam on a rotating cylindrical substrate,” J. Vac. Sci. Technol. B,Vol.27, No.6, 2009.
[6] Donis G. Flagello, “Optical Microlithography,” Proceedings of SPIE Volume: 6520, March 2007
[7] S. Ahn and L. J. Guo, “High-speed Roll-to-Roll Nanoimprint Lithography on Flexible Substrate and Mold-separation Analysis,” Proc. of SPIE Vol. 7205 72050U-1, 2009.
[8] http://www.thorlabs.us/thorProduct.cfm?partNumber=LJ1075L1
[9] Alexander H. Slocum, “Precision Machine Design,” New Jersey, 1992.
[10] L. J. Guo, “Nanoimprint Lithography: Methods and Material Requirements,” Adv. Mater. 2007, 19, p 495-513.
[11] 李昌周、張耀仁、劉如豐， “ R2R技術於軟電之應用機會與挑戰 ”， 機械工業雜誌，2009年6月號，p 4-10。
[12] 劉錦龍、柯志諭， “Roll-to-roll設備設計技術探討”， 機械工業雜誌，2009年6月號，p 11-21。
[13] 許哲豪， “次世代奈米滾印技術之尺寸效益評估與機械公差、製程參數對傳輸品質及成型性分析”， 成功大學，台南，2009。
[14] H. Ten, A. Gibertson and S. Y. Chou, “Roller nanoimprint lithography,” J. Vac. Sci. Technol, B 16(6), 3926, (1998).
[15] S. Ahn, Joowon Cha, Ho Myung, Seok-min Kim, and Shinill Kang, “Continuous ultraviolet roll nanoimprinting process for replicating large-scale nano- and micropatterns,” Appl. Phys. Lett. 89, 213101, 2006.
[16] S. Ahn and L. J. Guo, “High-Speed Roll-to-Roll Nanoimprint Lithography on Flexible Plastic Substrates,” Adv. Mater. 2008, 20, 2044–2049
[17] S. Ahn and L. J. Guo, “Large-Area Roll-to-Roll and Roll-to-Plate Nanoimprint Lithography: A Step toward High-Throughput Application of Continuous Nanoimprinting,” ACS Nano. 2009 Aug 25; 3(8):2062-4.
[18] 邱昭智， “以單轉子模式分析高速主軸系統特性與氣浮軸承參數之鑑別研究”， 元智大學， 中壢，2003。
[19] 龔倍宏， “氣體軸承剛性及阻尼特性之實驗探討”， 長庚大學，桃園，2001。
[20] 黃朝鈺、邱繼正、高有志， “工研院紫外線固化式奈米滾印機”， 工研院，2007。
[21] Chia-Jen Ting, Fuh-Yu Chang, Chi-Feng Chen and C.P. Chou, “Fabrication of an antireflective polymer optical film with subwavelength structures using a roll-to-roll micro-replication process,” J. Micromech. Microeng 18 (2008) 075001 (9pp).
[22] R. C. Hibbeler, “Engineering Mechanics Statics, third edition,” pp.414-415, 2004.
[23] Singiresu S. Rao, “Mechanical Vibrations, fourth edition,” pp.245-247, 2004.
[24] Inman, Daniel J., “Engineering Vibration,” Prentice Hall International, Inc., New Jersey, 1994.
[25] 王文瑞， “靜壓軸承設計及製造”， 工研院，2007/05/07。