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研究生： 楊珮甄
PEI-CHEN YANG
論文名稱： 使用磁控濺鍍法成長Zn3N2之材料特性分析
Characterization of Zn3N2 Prepared with reactive Sputtering
指導教授： 甘炯耀
JON-YIEW GAN
口試委員:
學位類別： 碩士
Master
系所名稱： 工學院 - 材料科學工程學系
Materials Science and Engineering
論文出版年： 2008
畢業學年度： 96
語文別： 中文
論文頁數： 66
中文關鍵詞： 磁控濺度 、能隙 、氮化鋅 、載子濃度
外文關鍵詞： sputtering, bandgap, Zn3N2, mobility, carrier concentration
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    • 在本研究中，我們使用四點探針量測與霍爾量測去了解Zn3N2 的電性，由量測中我們知道Zn3N2是n-type，並在某個條件下可得到最大的電阻率2.49Ωcm 與較低的載子濃度 3.903*1017 cm-3。並在工作瓦數為15 Watts，工作壓力為15 mtorr，Ar/N2=2/18，鍍膜時間為2 小時，能夠再現它的性質與可以在室溫下製程。結晶性質中我們知道它是多晶性質價態。光學性質方面，由它的吸收係數，知道它可能是直接能隙的型態，能隙位置大至由穿透光譜知道它的能隙是在900 nm-1100nm 附近，換算後判定其能隙在1.1 eV。

    摘要 I 一、緒論 1 二、文獻回顧 3 2-1 Zn3N2的結構 3 2-2 Zn3N2的製作方法 3 2-3 Zn3N2的光學性質 4 三、實驗步驟與分析方法 13 3-1 試片準備 13 3-2 鍍膜設備 13 3-3 實驗流程 14 3-4 分析設備與方法 14 四、實驗結果與討論 25 4-1 Zn3N2薄膜結構特性 25 4-1-1 晶體結構 25 4-1-2 表面形態 26 4-2 電性量測 28 4-3 光學性質量測 32 4-3-1 n k analysis 32 五、結論及未來發展 65 六、參考文獻 66

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