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研究生: 楊智安
Chih-An Yang
論文名稱: 氧化鋅稀磁半導體及其與銥錳的交互耦合研究
ZnO DMS and Exchange bias between ZnCoO & IrMn
指導教授: 賴志煌
Chih-Huang Lai
口試委員:
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 工學院 - 材料科學工程學系
Materials Science and Engineering
論文出版年: 2005
畢業學年度: 93
語文別: 中文
論文頁數: 74
中文關鍵詞: 稀磁半導體氧化鋅反鐵磁鐵磁性
外文關鍵詞: dilute magnetic semiconductor, ZnO, anti-ferromagneic, ferromagnetism
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  • 本論文研究氧化鋅稀磁半導體材料的光學、電性質以及磁性質的表現,利用XPS、MFM、R-T、TEM的分析方法排除鈷原子團的存在,使用IBD成功地在室溫製程下創造出居禮溫度達到300K的稀磁半導體材料,此外,並探討氧化鋅稀磁半導體與銥錳反鐵磁材料間的交互耦合作用,在低溫下成功觀察到交互耦合作用的現象。


    第ㄧ章 序論……………………………………………………………..1 第二章 文獻回顧………………………………………………………..2 2-1稀磁半導體簡介………………………………….………………….2 2-1-1 何謂稀磁半體?........................................................................2 2-1-2 發展DMS的必要性…………………………………………3 2-1-3 DMS的分類………………………………………………….5 2-1-4 平均場理論與從無到有理論……………………………….6 2-1-5 II-VI族氧化鋅DMS的優勢…………………………………8 2-1-6 DMS目前遭遇的挑戰……………………………………...10 2-1-7 DMS的磁性來源…………………………………………...12 2-1-8 氧化鋅的性質……………………………………………...14 2-2 DMS的應用………………………………………………………...16 2-3氧化鋅DMS文獻回顧……………………………………………...22 第三章 實驗及分析設備………………………………………………26 3-1雙離子槍濺鍍系統…………………………………………………26 3-2樣品振盪磁測計……………………………………………………28 3-3 X光繞射儀…………………………………………………………29 3-4 原子力探針顯微鏡………………………………………………...31 3-5 超導量子干涉儀…………………………………………………...33 第四章 結果與討論…………………………………………………....35 4-1氧化鋅DMS樣品製備……………………………………………...35 4-1-1 優選方向氧化鋅薄膜性質………………………………...35 4-1-2 優選方向氧化鋅DMS……………………………………..40 4-1-3 鈷原子團的排除…………………………………………...46 4-2 磊晶氧化鋅薄膜…………………………………………………...48 4-2-1 室溫製程磊晶氧化鋅薄膜………………………………...48 4-2-2 磊晶結構氧化鋅DMS……………………………………..52 4-2-3 鈷原子團的排除…………………………………………...54 4-2-4 鐵磁性來源………………………………………………...58 4-3 DMS鐵磁層與反鐵磁層的交互耦合……………………………...60 4-3-1 sputter鍍製銥錳………………………………………….....60 4-3-2 IBD鍍製銥錳……………………………………………….67 第五章 結論............................................................................................72 第六章 參考文獻………………………………………………………73

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