本實驗成功在大氣環境下架設DBD大氣電漿源，並以N2 plasma為主要研究對象。實驗中測量出He及N2兩種大氣電漿的操作範圍（頻率與外加電壓之關係）。並證明DBD大氣電漿之電漿模型為RPCP並聯模式，電漿密度只有109 cm-3，為一低溫的大氣電漿源；而在線路共振的情形下操作大氣電漿只需10~20W的power。
以N2 plasma處理TAC可在短時間內使TAC之Contact angle由70度降至20度，可見TAC的表面能確實增加。此外發現Power對處理效果的影響不大，主要影響處理效果的原因為試片處理時間。由ESCA量測結果可看出，經過電漿處理後碳和氧的鍵結確實有改變，此即為改變表面能的原因。
最後我們嘗試將TAC與PVA做貼合，但結果卻比不上以化學方式處理的TAC；可見TAC與PAV的貼合不能只由Contact angle來判斷，所以要達到以plasma處理TAC並成功使之與PVA良好貼合的目標，還需要更多對此材料的認識。

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