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研究生: 陳怡如
Yi-Ju Chen
論文名稱: 金/砷化鎵介面晶格常數之測量
X-ray investigation on lattice-constant variation at the interface of Au/GaAs
指導教授: 張石麟
Shih-Lin Chang
口試委員:
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 理學院 - 物理學系
Department of Physics
論文出版年: 2005
畢業學年度: 93
語文別: 中文
中文關鍵詞: 複繞射掠角繞射
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  • 本論文主要目的在於研究Au/GaAs介面晶格常數變化,利用三光繞射產生沿表面的繞射光來觀察介面結構的變化以及利用掠角繞射產生沿表面的繞射光輔以分析介面結構。實驗上利用CCD偵測器與IP影像板來擷取繞射圖形,因繞射點會隨著角度小幅改變而分裂,這表示基底的晶格受到薄膜的應力影響產生扭曲的現象,再利用穿透深度與量子點(QD)相關理論計算來分析垂直表面與平行表面兩個方向個別的晶格常數變化與深度之間的關係。


    摘要......................................................Ⅰ 目錄......................................................Ⅱ 圖目錄....................................................Ⅲ 表目錄....................................................Ⅵ 1 導論.....................................................1 2 X光繞射理論..............................................2 2.1 複繞射與定碼....................................2 2.2掠角繞射(GIXD)與穿透深度.........................7 3 實驗裝置與方法...........................................9 3.1 實驗設備與裝置..................................9 (1) 同步輻射光源................................9 (2) 八環繞射儀..................................9 (3) CCD偵測器與IP影像板........................11 3.2 實驗樣品與方法.................................14 (1) 樣品.......................................14 (2) 實驗方法...................................15 4 實驗結果與分析..........................................18 4.1 三光繞射實驗結果分析...........................18 4.2 兩光繞射實驗結果分析...........................36 5 結論....................................................46 參考文獻..................................................47 附錄A 附錄B

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