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| 研究生： |
黎致成 Chi-Cheng Lee |
|---|---|
| 論文名稱： |
發展陽極氧化配合感應耦合電漿質譜分析法探討矽晶圓中金屬不純物之濃度縱深分佈 Development of anodic oxidation combined with inductively coupled plasma mass spectrometry for the determination of concentration gradient of trace metals in silicon wafer |
| 指導教授： |
楊末雄
Mo-Hsiung Yang |
| 口試委員: | |
| 學位類別： |
碩士 Master |
| 系所名稱： |
原子科學院 - 生醫工程與環境科學系 Department of Biomedical Engineering and Environmental Sciences |
| 論文出版年： | 2001 |
| 畢業學年度： | 89 |
| 語文別： | 中文 |
| 論文頁數： | 78 |
| 相關次數： | 點閱：4 下載：0 |
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