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| 研究生： |
黃怡君 Yi-Jung Huang |
|---|---|
| 論文名稱： |
硫化鈉對直接電鍍速率之促進作用 Promotion of Direct Copper Electroplating Rate via Sodium Sulfide |
| 指導教授： |
萬其超
Chi-Chao Wan 王詠雲 Yung-Yun Wang |
| 口試委員: | |
| 學位類別： |
碩士 Master |
| 系所名稱： |
工學院 - 化學工程學系 Department of Chemical Engineering |
| 論文出版年： | 2001 |
| 畢業學年度： | 89 |
| 語文別： | 中文 |
| 論文頁數： | 98 |
| 相關次數： | 點閱：1 下載：0 |
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