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研究生: 陳冠翰
Chen, Guan-Han
論文名稱: 三族氮化物二極體之製程及其電性研究
The Study on Electrical Properties and Fabrication Process of III-Nitride diodes
指導教授: 果尚志
Gwo, Shangjr
口試委員:
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 理學院 - 物理學系
Department of Physics
論文出版年: 2009
畢業學年度: 97
語文別: 中文
論文頁數: 62
中文關鍵詞: 氮化鎵氮化銦鎵發光二極體
外文關鍵詞: GaN, InGaN, light-emitting diode
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  • 本論文以氮化銦/氮化銦鎵柱狀結構來製作發光二極體,包含了製作流程、電性量測以及其發光特性,並與本實驗室薄膜樣品的二極體做比較,可發現儘管因接觸電阻較大使得起始電壓值略高,但並聯電阻約大35倍左右,代表著柱狀結構一維材料的優越性,沒有差排(dislocation-free),接面品質較好,較少的缺陷(defect),並且更能掌握電子傳導路徑,使得我們的柱狀發光二極體有較小的漏電流,並且於室溫下量測其廣區(macro)及微區(micro)的發光的情形。另外由文獻也可得知柱狀發光較薄膜強,變溫下也較穩定,且其製作流程與傳統二極體相比,差異不大,再加上可調控氮化銦鎵發光波段特性,對於應用於全彩顯示元件、白光照明等有很大的發展潛力。同時我們也製作p-GaN蕭特基二極體,利用電容-電壓量測技術來決定其受體離子濃度值。


    第一章 背景介紹.................................1 第二章 原理介紹 2.1 二極體體電壓-電流特性.......................8 2.2 電激發光原裡................................13 2.3 蕭特基二極體電容-電壓分析...................14 第三章 元件製程 3.1 元件的製備..................................16 3.2 化學氣相沈積................................17 3.3 光學微影....................................21 3.4 蝕刻........................................23 3.5 元件流程圖..................................28 第四章 量測與結果分析 4.1 氮化鎵/氮化銦鎵奈米柱狀二極體電壓-電流特性..35 4.2 電激發光光譜................................42 4.3 p-GaN 蕭特基二極體電容-電壓特性.............54 第五章 結論.....................................58 參考資料........................................61

    1.T. Matsuoka, H. Okamoto, M. Nakao, H. Harima, and E. Kurimoto, Appl. Phys. Lett. 81, 1246 (2002).
    2.V. Y. Davydov et al., Phys. Status Solidi B 229, R1 (2002).
    3.J. Wu, W. Walukiewicz, K. M. Yu, J. W. Ager III, E. E. Haller, H. Lu, W. J. Schaff, Y. Saito, and Y. Nanishi, Appl. Phys. Lett. 80, 3967 (2002).
    4.V. Y. Davydov et al., Phys. Status Solidi B 234, 787 (2002).
    5.Hai Lu, W. J. Schaff, Lester F. Eastman, J. Wu, Wladek Walukiewicz, Volker Cimalla and Oliver Ambacher, Appl. Phys. Lett. 83, 1136 (2003).
    6.T. L. Tansley and C. P. Foley, J. Appl. Phys. 59, 3241 (1986).
    7.X. A. Cao, J. M. Teetsov, M. P. D’Evelyn, D. W. Merfeld, and C. H. Yan,Appl. Phys. Lett. 85,7 (2004).
    8.E. Kuokstis, C. Q. Chen, J. W. Yang, M. Shatalov, M. E. Gaevski, V.Adivarahan, and M. A. Khan, Appl. Phys. Lett. 84, 2998 (2004).
    9.S. X. Jin, J. Li, J. Z. Li, J. Y. Lin, and H. X. Jiang, Appl. Phys. Lett. 76,631 (2000).
    10.H. W. Choi, C. W. Jeon, M. D. Dawson, P. R. Edwards, and R. W. Martin,
    IEEE Photonics Technol. Lett. 15, 510 (2003).
    11.H.-M. Kim, Y.-H. Cho, H. S. Lee, S. I. Kim, S. R. Ryu, D. Y. Kim, T. W.Kang, and K. S. Chung, Nano Lett. 4, 1059 (2004).
    12.Y. Sun, Y.-H. Cho, H. M. Kim, and T. W. Kang, Appl. Phys. Lett.
    87,093115 (2005).
    13.Y.-H. Cho, G. H. Gainer, A. J. Fischer, J. J. Song, S. Keller, U. K. Mishra,and S. P. DenBaars, Appl. Phys. Lett. 73, 1370 (1998).
    14.K. L. Teo, J. S. Colton, P. Y. Yu, E. R. Weber, M. F. Li, W. Liu, K. Uchida,H. Tokunaga, N. Akutsu, and K. Matsumoto, Appl. Phys. Lett. 73, 1697 (1998).
    15.A.Kikuchi, M. Kawai, M. Tada, and K. Kishino, Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 43 pp. L1524-L1526 (2004).
    16.K. Kishino et al., Proc. Of SPIE Vol. 6473 64730T-1, (2007).
    17.E.Fred Schubert, “Light Emitting Diode 2nd edition”,CAMBRIDGE (2006)
    18.Diter K. Schorder,“ Semiconductor Material and Device
    Characterization 3nd edition”,WILEY (2005)
    19.吳孟奇、洪勝富、連振炘、龔正、吳忠義, “半導體元件”,東華書局 (2007)
    20.莊達人, “VLSI 製造技術,第二版”, 高立 (2003)
    21.Min-Yann Hsieh et al., IEEE JOURNAL OF QUANTUM ELECTRONICS, VOL. 44,
    NO. 5, MAY 2008
    22.S.X. Jin et al., Appl. Phys. Lett. 77, 3236 (2000)
    23.H.W. Choi et al., Appl. Phys. Lett. 83, 4483 (2003)
    24.史光國, “半導體發光二極體及固體照明”, 全華 (2005)
    25.M.O. Manasreh et al.,“Ⅲ-ⅤNitride Semiconductors Applications and Devices”(2003), p423

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