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| 研究生： |
劉智瑋 Liu, Chih-Wei |
|---|---|
| 論文名稱： |
閘極介面工程對鍺互補式金氧半鰭式電晶體電特性研究 Interfacial Layer Engineering in Gate Stack on Electrical Characteristics in Ge CMOS FinFET |
| 指導教授： |
張廖貴術
ChangLiao, Kuei-Shu |
| 口試委員: |
趙天生
Chao, Tien-Sheng 李耀仁 Lee, Yao-Jen |
| 學位類別： |
碩士 Master |
| 系所名稱： |
原子科學院 - 工程與系統科學系 Department of Engineering and System Science |
| 論文出版年： | 2020 |
| 畢業學年度： | 109 |
| 語文別： | 中文 |
| 論文頁數： | 104 |
| 相關次數： | 點閱：4 下載：0 |
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全文公開日期 2025/09/09 (校內網路)全文公開日期 2025/09/09 (校外網路)