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| 研究生： |
張壹淵 Chang, Yi-Yuan |
|---|---|
| 論文名稱： |
高密度電漿製程對高介電常數閘介電層及金屬閘極之金氧半元件所引發損傷之可靠度分析 Reliability Characterizations of MOS Devices with Various High-k Gate Dielectrics and Metal Electrodes for High Density Plasma Process Induced Damage |
| 指導教授： |
趙天生
Chao, Tien-Sheng 張廖貴術 Chang-Liao, Kuei-Shu |
| 口試委員: | |
| 學位類別： |
碩士 Master |
| 系所名稱： |
原子科學院 - 工程與系統科學系 Department of Engineering and System Science |
| 論文出版年： | 2000 |
| 畢業學年度： | 88 |
| 語文別： | 英文 |
| 論文頁數： | 136 |
| 相關次數： | 點閱：3 下載：0 |
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