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研究生: 陳奕瑭
Chen, Yi-Tang
論文名稱: 利用掠角X光散射及X光反射法研究加入雙極性分子對硫醇保護之金奈米粒子蘭慕爾-布羅吉單層膜的結構影響
Grazing-Incident X-ray Scattering and X-ray Reflectivity Studies on Mixed Langmuir-Blodgett Monolayers of Thiolated-Gold Nanoparticles and Amphiphilic Molecules
指導教授: 林滄浪
Lin, Tsang-Lang
口試委員: 蕭百沂
鄭有舜
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 原子科學院 - 工程與系統科學系
Department of Engineering and System Science
論文出版年: 2011
畢業學年度: 99
語文別: 中文
論文頁數: 101
中文關鍵詞: X光略角小角度散射X光反射率奈米金顆粒雙極性分子蘭慕爾單層膜
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  • 中文摘要
    近年來奈米材料單層結構在各方面都有長足應用,本研究即以X-光散射法與穿透式電子顯微鏡分析奈米金顆粒混合介面活性劑或脂質體的蘭慕爾單層膜結構。化學還原法合成的奈米金顆粒分別以十六碳硫醇或八碳硫醇為保護劑。結果顯示十六碳硫醇包覆與八碳硫醇包覆的奈米顆粒的顆粒間距都會因為帶負電介面活性劑SDS的添加而變大但並不會因為表面壓力變化而改變。八碳硫醇包覆的顆粒之顆粒間距也會隨著脂質體的添加而變大。十六碳硫醇包覆的顆粒在液面上會形成規則平行四邊形的結構,而八碳硫醇包覆的奈米顆粒則隨機沒特定結構地在液面上排列。實驗結果發現雙電性的脂質體DPPC會與SDS競爭水面的空間,而負電性的脂質體DPPG因與SDS形成電性相斥而不易產生競爭或取代。本研究也發現當額外的八碳硫醇添加後,奈米顆粒單層膜會形成三維面心立方(0 0 1)方向垂直液面的奈米顆粒晶體結構。此外,由X-ray反射率得知,八碳硫醇保護的奈米顆粒能被脂質體單層膜支撐,並在脂質體單層膜上形成一層奈米金顆粒膜。


    Abstract
    Recently, forming a monolayer of nanomaterials is desired for a variety of application. We characterize the nanostructure of Langmuir monolayer of gold nanoparticles (AuNPs) mixed with amphiphilic molecules such as surfactants and lipids by X-ray scattering methods and transmission electron microscopy (TEM). The AuNPs are protected from fusing by hexadecanethiol (Au-16cthiol) or octanethiol (Au-8chtiol). The present results indicate that the interparticle spacing of Au-16chtiol and Au-8cthiol increase while additional anionic surfactant sodium dodecyl sulfate (SDS) was added, but does not alter as increasing surface pressure. The interparticle spacing also increases in Au-8cthiol system by adding lipids. The experimental results indicate that nanoparticles were ordered-packing like “parallelogram” in Au-16cthiol system, but packing randomly in Au-8cthiol system. Besides, the results show that zwitterionic 1,2-dihexadecanoyl-sn-glycero-3-phosphocholine (DPPC) molecules compete for surface site with SDS while anionic 1,2-dihexadecanoyl-sn-glycero-3-phospho-(1'-rac-glycerol) (DPPG) molecules compete with SDS not easily due to the electrical repulsion. Furthermore, we also reveal that the AuNPs can form a nanocrystal of (0 0 1) oriented FCC lattice at the air-water interface by mixing with the additional octanethiol. Besides, the thiolated gold nanoparticle monolayer is supported by the lipid monolayer. X-ray reflectivity could reveal the detail structure of such complex monolayers.

    目錄 第一章 緒論 1 1.1 前言 1 1.2 自組裝組成二維顆粒排列單層膜的方法 2 1.2.1 液滴揮發法 (Droplet evaporation) [12, 13] 2 1.2.2 旋轉塗佈法 (Spin-coating)[14] 3 1.2.3 浸塗法 (Dip-coating)[14, 15] 3 1.2.4 蘭慕爾-布羅吉技術 (Langmuir-Blodgett technique)[4, 16-19] 4 1.3 影響奈米顆粒二維排列結構的因素 5 1.3.1 溶劑與顆粒溶液的濃度[21-23] 5 1.3.2 奈米顆粒的配基(Ligand)的特性與長短[21, 24] 6 1.3.3 奈米顆粒的形狀、大小與粒徑分布[22, 25] 6 1.3.4 溫度與退火[26] 7 1.3.5 顆粒排列的介面[27] 7 1.3.6 添加物[28-34] 8 第二章 文獻回顧與動機 9 2.1 不與奈米顆粒作用之分子會消失於液面的添加物[28] 9 2.2 不會消失於液氣介面的添加物[29-31, 34] 10 2.3 研究動機 13 第三章 實驗 15 3.1 藥品 15 3.1.1 奈米顆粒 15 3.1.2 添加物 15 3.1.3 溶劑 16 3.2 合成奈米金顆粒 16 3.3 實驗原理 17 3.3.1 蘭慕爾-布羅吉膜 (Langmuir-Blodgett film) [4, 21, 35] 17 3.3.2 X-ray反射率(XRR)[35, 37] 20 3.3.3 X-ray掠角小角度散射 (GISAXS)[38] 22 3.4 實驗步驟 23 3.4.1 樣品配製 23 3.4.2 儀器型號與操作步驟 25 第四章 結果與討論 32 4.1 十六碳硫醇保護的奈米金顆粒系統(Au-16cthiol) 32 4.1.1 表面壓力-面積等溫線圖(π-A isotherm) 32 4.1.2 X-ray反射率 33 4.1.3 X-ray掠角小角度散射與TEM影像 33 4.2八碳硫醇保護的奈米金顆粒系統(Au-8cthiol) 36 4.2.1 表面壓力-面積等溫線圖 36 4.2.2 X-ray反射率 38 4.2.3 X-ray掠角小角度散射與TEM影像 42 第五章 結論 50 參考文獻………………...…………………………………………….100 圖目錄 圖1.1 奈米顆粒單層膜應用在半導體電晶體的示意圖。 52 圖1.2 奈米顆粒單層膜應用在染料敏化太陽能電池的示意圖。 52 圖1.3 奈米顆粒在不同溶劑中以液滴揮發法自組裝排列的機制與結果。[12] 53 圖1.4 浸塗法方法示意圖與結果。在已蝕刻過的基板上沉積奈米材料,並沿著蝕刻直線條紋整齊排列。[15] 53 圖1.5 以蘭慕爾-布羅吉技術製備奈米材料單層膜的示意圖。[4] 54 圖1.6 高濃度的溶液灑在液面上形成顆粒小島,不規則的顆粒小島在膜壓升高時因靠近而產生空隙與缺陷(defect)。[22] 55 圖1.7 不同濃度的溶液灑膜後的二維結構之掃描式電子顯微鏡的影像圖。顆粒溶液濃度分別為(a)0.06 mg/ml與(b)0.6 mg/ml。[22] 55 圖1.8 平面二維排列的單層膜(a)與產生皺摺的二維排列單層膜(b)。 56 圖1.9 顆粒粒徑不均時,在二維排列時產生缺陷的示意圖。[22] 56 圖1.10 二維排列的顆粒在低溫(10 ℃)時與高溫(44 ℃)時的掠角小角度散射圖紋(GISAXS pattern)[26] 56 圖1.11 在油水介面二維排列的奈米顆粒掠角小角度散射圖譜,A表示單顆顆粒所占面積。[27] 57 圖1.12 奈米顆粒混合介面活性劑灑到水面後的壓膜拉膜示意圖。[32] 58 圖2.1 奈米顆粒灑在蘭慕爾槽上會形成很多島嶼(Island) (a),經過擠 壓後會變得較為均勻(b)。[28] 58 圖2.2 十二碳硫醇包覆的金奈米顆粒(Au, 細線)與額外添加十二碳硫醇的金奈米顆粒(T-Au, 粗線)的表面壓力-面積等溫線圖。[28] 59 圖2.3 電子顯微鏡TEM影像觀測崩潰區域的皺褶情形(a),(b)為(a)圓圈處放大圖,(c-f)光學顯微鏡觀測液面上T-Au皺褶情形隨表面壓力減少的面化,深灰色是皺褶,淺灰是單層膜,白色示水面。[28] 59 圖2.4 奈米顆粒T-Au單層膜時的XRR圖,圓圈為實驗數據,實線為配合曲線(Fitting curve) (a),單層膜時電子密度與縱向長度的關係圖(b);T-Au崩潰形成皺褶時的XRR圖(c),皺褶時墊子密度與縱向長度關係圖(d)。[28] 60 圖2.5 顆粒T-Au在表面壓力等於零(圓圈)與表面壓力為PMONO(見圖2.2, 三角形)時的GISAXS的XY方向(In-plane)散射訊號。[28] 60 圖2.6 在相同表面壓力下,Au(圓圈)與T-Au(三角形) 的GISAXS的XY方向(In-plane)散射訊號。[28] 61 圖2.7 少量金奈米顆粒(0.44 mol%)混合DPPC一起灑膜後的表面壓力-面積等溫線圖。[30] 61 圖2.8 疏水奈米金顆粒與DPPC在不同表面壓力下(A-C)沉積在銅網上形成LB膜的TEM影像,(D)為高解析度TEM影像圖。[30] 62 圖2.9 脂質體(Lipid)將疏水奈米金顆粒撐離水面並促使顆粒奈米顆粒排列成奈米線(Nanowire)的示意圖。[30] 62 圖2.10 較親水的奈米金顆粒與DPPC混和灑膜與壓膜,在表面壓力為30 mN/m形成LB膜後以AFM(A)與高解析度TEM(B)觀測。[30] 63 圖2.11 高分子CnPPPOH,當n為12時為C12PPPOH。[34] 63 圖2.12 高分子C12PPPOH(虛線)與混合67 wt%奈米金顆粒的C12PPPOH(實線)之表面壓力-面積等溫線。[34] 63 圖2.13 混合67 wt%奈米金顆粒的C12PPPOH膜分別在(A) 2 mN/m; (B)10 mN/m;(C)40 mN/m;(D)45 mN/m表面壓力時的影像圖,左圖為AFM影像,右圖為TEM影像。[34] 64 圖2.14 在不同表面壓力下由AFM分析所得的高度分布圖。[34] 65 圖2.15 純C12PPPOH高分子膜在表面壓力為20 mN/m(綠色)與混合顆粒C12PPPOH高分子膜在表面壓力為20 mN/m(紅色)與40 mN/m(黑色)下的XRR圖譜。[34] 65 圖2.16 奈米金顆粒與各種不同脂質體混合成0.5 mol%的奈米金顆粒濃度的單層膜之表面壓力-面積等溫線圖與布魯斯特角顯微鏡(Brewster angle microscope, BAM)影像圖。脂質體分別為(A)DMPC; (B) DPPC; (C) DSPC; (D) DAPC; (E) DBPC。比例尺為100微米。[29] 66 圖2.17 在表面壓力為20 mN/m所沉積在銅網上的奈米顆粒-脂質體混合膜之TEM影像圖。脂質體分別為(A)DMPC; (B) DPPC; (C) DSPC; (D) DAPC; (E) DBPC。比例尺為50 奈米。[29] 67 圖3.1 化學結構示意圖:(a)十六碳硫醇與(b)八碳硫醇。 67 圖3.2 化學結構示意圖:(a)SDS;(b)DPPC;(c)DPPG。 68 圖3.3 化學還原法合成奈米金顆粒流程示意圖。 68 圖3.4 表面壓力-面積等溫線圖(π – A isotherm)。[36] 69 圖3.5 波向量差q(同Qz)與入射波向量和反射波向量的關係示意圖。 69 圖3.6 反射率原理示意圖,右上圖為反射率圖形與厚度的關係,右下圖為反射率圖形與粗糙度的關係。[37] 70 圖3.7 掠角小角度散射的示意圖,左圖為實驗概念圖,右圖為各種薄膜結構排列對應產生的散射圖樣。[38] 70 圖3.8 實驗室蘭慕爾槽全貌圖,量測表面壓力為右方懸掛濾紙至水面的感應器。 71 圖3.9 以銅網為基材拉膜時的示意圖。 71 圖3.10 本實驗的順序流程圖與儀器參數。 72 圖4.1 十六碳硫醇保護的顆粒及混摻保護劑與脂質體的表面壓力-面積等溫線圖。 72 圖4.2 奈米金顆粒與SDS在液面上之行為示意圖。 73 圖4.3 樣品Au-16cthiol沉積在矽基板上的X-ray反射率圖,圖中紅線為反射率實驗數據,細黑線為適配曲線,適配分析軟體為Igor。 73 圖4.4 樣品Au-16cthiol的SLD (Scattering length density)與縱向垂直距離(厚度)關係圖。 74 圖4.5 樣品Au-16cthiol在矽基板上排列模型。 74 圖4.6 樣品Au-16cthiol平面排列俯瞰圖(Top view),以此顆粒排列形式運算出的SLD約為43.9 ×10-6 A-2。 74 圖4.7 掠角小角度散射圖紋:(a)Au-16cthiol;(b)Au-16cthiol + SDS;(c)Au-16cthiol + SDS + DPPC;(d)Au-16cthiol + SDS + DPPG。 75 圖4.8 沿qxy方向Au-16cthiol的散射強度曲線圖,由圖4.6(a)中沿著黃色虛線積分而得。插圖為高斯適配(Gaussian fitting)曲線圖。 75 圖4.9 沿qxy方向Au-16cthiol + SDS的散射強度曲線圖,由圖4.6(b)中沿著黃色虛線積分而得。插圖為高斯適配曲線圖。 76 圖4.10 沿qxy方向Au-16cthiol + SDS + DPPC的散射強度曲線圖,由圖4.6(c)中沿著黃色虛線積分而得。插圖為高斯適配曲線圖。 76 圖4.11 沿qxy方向Au-16cthiol + SDS + DPPG的散射強度曲線圖,由圖4.6(d)中沿著黃色虛線積分而得。插圖為高斯適配曲線圖。 77 圖4.12 奈米顆粒平面排列成斜方型態(Monoclinic)示意圖,右小圖為一規則排列單元,θ為顆粒排列單元之夾角。 77 圖4.13 奈米顆粒的TEM影像:(a)Au-16cthiol;(b)圖(a)紅框處放大圖,紅圈為顆粒斜方排列結構;(c) Au-16cthiol + SDS;(d)Au-16cthiol + SDS + DPPC;(e)Au-16cthiol + SDS + DPPG。 78 圖4.14 奈米顆粒與脂質體(Lipids)作用俯視示意圖。 78 圖4.15 奈米金顆粒(Au-8cthiol)混摻脂質體系列的所有表面壓力-面積等溫線圖。 79 圖4.16奈米金顆粒(Au-8cthiol)混摻介面活性劑系列的所有表面壓力-面積等溫線圖。 79 圖4.17 奈米金顆粒(Au-8cthiol)混摻DPPC系列的所有反射率曲線圖。 80 圖4.18 奈米金顆粒(Au-8cthiol)混摻DPPG系列的所有反射率曲線圖。 80 圖4.19 奈米金顆粒(Au-8cthiol)混摻介面活性劑系列的所有反射率曲線圖。 81 圖4.20 樣品Au-8cthiol沉積在矽基板上的X-ray反射率圖,圖中灰色框框為反射率實驗數據,細黑線為適配曲線,適配分析軟體為Igor。 81 圖4.21 樣品Au-8cthiol的SLD (Scattering length density)與縱向垂直距離(厚度)關係圖。 82 圖4.22 樣品Au-8cthiol在矽基板上排列模型。 82 圖4.23 樣品Au-8cthiol平面排列俯瞰圖(Top view),以此顆粒排列形式運算出的SLD約為61.7 ×10-6 A-2。 82 圖4.24 樣品Au-8cthiol + SDS沉積在矽基板上的X-ray反射率圖,圖中綠色框框為反射率實驗數據,細黑線為適配曲線,適配分析軟體為Igor。 83 圖4.25 樣品Au-8cthiol + SDS(淺綠色)的SLD (Scattering length density)與縱向垂直距離(厚度)關係圖。灰色曲線為Au-8cthiol的SLD與垂直距離關係圖。 83 圖4.26 樣品Au-8cthiol + SDS在矽基板上排列模型。 84 圖4.27 樣品Au-8cthiol + DPPC系列沉積在矽基板上的X-ray反射率圖,圖中顏色空洞框框為反射率實驗數據,細黑線為適配曲線,適配分析軟體為Igor。 84 圖4.28 樣品Au-8cthiol + DPPC系列的SLD (Scattering length density)與縱向垂直距離(厚度)關係圖。 85 圖4.29 樣品Au-8cthiol + DPPC (1:2)在矽基板上排列模型。 85 圖4.30 樣品Au-8cthiol + DPPC (1:1)在矽基板上排列模型。 85 圖4.31 樣品Au-8cthiol + DPPC (2:1)在矽基板上排列模型。 86 圖4.32 樣品Au-8cthiol + SDS + DPPC (1:1)在矽基板上排列模型。 86 圖4.33 樣品Au-8cthiol在不同表面壓力拉膜的掠角散射圖紋,表面壓力分別為(a) 0 mN/m;(b)10 mN/m;(c)19 mN/m。 86 圖4.34 沿qxy方向Au-8cthiol的散射強度曲線圖,由圖4.33中沿著黃色虛線積分而得。 87 圖4.35 樣品Au-8cthiol + SDS在不同表面壓力拉膜的掠角散射圖紋,表面壓力分別為(a) 1 mN/m;(b)10 mN/m;(c)14 mN/m。 87 圖4.36 沿qxy方向Au-8cthiol + SDS的散射強度曲線圖,由圖4.35中沿著黃色虛線積分而得。 88 圖4.37 樣品Au-8cthiol + DPPC系列在20 mN/m表面壓力下拉膜的掠角散射圖紋,分別為(a) Au-8cthiol + DPPC (1:2);(b) Au-8cthiol + DPPC (1:1);(c) Au-8cthiol + SDS + DPPC (1:1);(d)Au-8cthiol + DPPC (2:1)。 88 圖4.38 沿qxy方向Au-8cthiol + DPPC系列的散射強度曲線圖,由圖4.37中沿著黃色虛線積分而得。 89 圖4.39 樣品Au-8cthiol + DPPG系列在20 mN/m表面壓力下拉膜的掠角散射圖紋,分別為(a) Au-8cthiol + DPPG (1:2);(b) Au-8cthiol + DPPG (1:1);(c) Au-8cthiol + SDS + DPPG (1:1);(d)Au-8cthiol + DPPG (2:1)。 89 圖4.40 沿qxy方向Au-8cthiol + DPPG系列的散射強度曲線圖,由圖4.39中沿著黃色虛線積分而得。 90 圖4.41 樣品Au-8cthiol + 8cthiol在18 mN/m表面壓力下拉膜的掠角散射圖紋。 90 圖4.42 沿qxy方向Au-8cthiol + 8cthiol的散射強度曲線圖,由圖4.41中沿著黃色虛線積分而得。 91 圖4.43 奈米顆粒的TEM影像:(a)Au-8cthiol / DW (10 mN/m);(b) Au-8cthiol / DW (19 mN/m);(c) Au-8cthiol + SDS/ DW (0.1 mN/m);(d) Au-8cthiol + SDS/ DW (14 mN/m)。 91 圖4.44 奈米顆粒的TEM影像:(a)Au-8cthiol + DPPC (1:2) / DW (20 mN/m);(b) Au-8cthiol + DPPC (1:1) / DW (20 mN/m);(c) Au-8cthiol + DPPC (2:1) / DW (20 mN/m);(d) Au-8cthiol + SDS + DPPC (1:1) / DW (20 mN/m)。 92 圖4.45 奈米顆粒的TEM影像:(a)Au-8cthiol + DPPG (1:2) / DW (20 mN/m);(b) Au-8cthiol + DPPG (1:1) / DW (20 mN/m);(c) Au-8cthiol + DPPG (2:1) / DW (20 mN/m);(d) Au-8cthiol + SDS + DPPG (1:1) / DW (20 mN/m)。 93 圖4.46 奈米顆粒的TEM影像:(a)Au-8cthiol + 8cthiol / DW (0.5 mN/m);(b) Au-8cthiol + 8cthiol / DW (18 mN/m)。 93 圖4.47 樣品Au-8cthiol在液面上的崩潰示意圖。 94 圖4.48 樣品Au-8cthiol + SDS在液面上的崩潰示意圖。 94 圖4.49 樣品Au-8cthiol + 8cthiol的掠角小角度散射繞射圖紋的相關晶面與q值,紅色圈為入射散射訊號,藍色框為反射散射訊號,右下角插圖為面心立方(0 0 1)晶面平行Z軸的示意圖[41]。 95 表目錄 表一 十六碳硫醇保護的金奈米顆粒的X-ray反射率適配參數 96 表二 十六碳硫醇保護的金奈米顆粒從GISAXS散射曲線圖經高斯適配分析而得的數據 96 表三 八碳硫醇保護的金奈米顆粒系列的X-ray反射率適配參數 97 表四 八碳硫醇保護的金奈米顆粒從GISAXS散射曲線圖經高斯適配分析而得的數據 98

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