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研究生： 萬迪豪
Wan, Ti-Hao
論文名稱： 探討2025中國製造對面板產業之NF3供應商的影響：以S公司為例
How do NF3 Suppliers Respond to the Impact of “Made in China 2025” on the Display Industry: the case of Company S.
指導教授： 李傳楷
Lee, Chuan-Kai
陳寶蓮
Chen, Pao-Lien
口試委員: 洪世章
Hung, Shih-Chang
林博文
Lin, Po-Wen
學位類別： 碩士
Master
系所名稱： 科技管理學院 - 經營管理碩士在職專班
Business Administration
論文出版年： 2018
畢業學年度： 106
語文別： 中文
論文頁數： 88
中文關鍵詞： 三氟化氮 、化學氣相沉積 、半導體 、面板
外文關鍵詞： Nitrogen Trifluoride, Chemical Vapor Deposition, Semiconductor, Panel
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    • 摘要
    三氟化氮NF3（Nitrogen Trifluoride）是半導體製程與面板製程，在化學氣相沉積CVD（Chemical Vapor Deposition）中用於清潔CVD機台腔體（Chamber）必要使用的特殊氣體，而隨製程演進、產能提升、清潔頻率提高或清潔時間增加，清潔製程用之三氟化氮氣體的用量必隨之增加，而當原趨於飽和的台、韓三氟化氮市場也因《中國製造2025》與《中國國家集成電路產業發展推進綱要》的推波助瀾下，中國面板廠與半導體製造公司如雨後春筍般的擴產或新建，亦使原趨於供需平衡的三氟化氮市場，可能再次面臨新進入者中國生產三氟化氮供應商的威脅與挑戰，本論文將從中國面板廠產能對三氟化氮需求的角度探討，三氟化氮供應商是否需要持續擴廠及可能面臨的風險。

    關鍵詞：三氟化氮、化學氣相沉積、半導體、面板

    Abstract
    The NF3（Nitrogen Trifluoride）is a gas specially used for cleaning chambers in a chemical vapor deposition（CVD）process. Due to the increasing production capacity of the CVD process, the consumption amount and frequency of NF3 may also increase in the cleaning processes. Both Taiwan and Korea market, which have originally saturated, may also be affected by the plan “Made in China 2025” issued by China. The Chinese panel makers and semiconductor manufacturers have sprung up in planning, building, capping, trial production, and commissioning, which may break the supply-demand balance of the NF3 global market again. The NF3 supply may hardly meet the demand. This paper will explore:（1）whether the NF3 supplying should expand,（2）the possible risks brought by the expansion of NF3 supplying.

    Keywords: Nitrogen Trifluoride, Chemical Vapor Deposition, Semiconductor, Panel

    目錄 摘要 I Abstract II 誌謝辭 III 目錄 IV 圖目錄 VI 表目錄 VIII 第壹章 緒論 1 第一節 研究背景與動機 1 第二節 研究目的 5 第三節 研究方法與限制 8 第貳章 文獻回顧 10 第一節 SWOT分析 10 第二節 五力分析 11 第三節 鑽石理論 14 第參章 產業簡介 17 第一節 三氟化氮產品概述 17 第二節 為何三氟化氮雀屏中選 19 第三節 電子特殊氣體，於半導體廠的應用 20 第四節 三氟化氮的主要特性 22 第五節 三氟化氮的主要生產方法 24 第六節 化學氣相沉積簡介 25 第七節 顯示器市場調查與分析 27 第八節 玻璃基板產業世代定義 29 第九節 顯示器產業之技術軌跡 32 第十節 韓國與兩岸顯示器發展狀況 42 第十一節 全球三氟化氮的生產現況與用量預估 55 第肆章 個案分析 60 第一節 S公司介紹 60 第二節 以波特五力分析模型分析S公司 62 第三節 以SWOT分析S公司 66 第四節 以鑽石理論分析S公司 68 第伍章 結論與討論 73 第一節 結論 73 第二節 討論 74   圖目錄 圖 1. IC製程圖 4 圖 2. 2009年~2020年 全球NF3的供應和需求（公噸） 5 圖 3. 電漿輔助化學氣相沉積系統 6 圖 4. 3D NAND的發展對NF3需求量的影響 6 圖 5. 面板廠從Full HD到Ultra HD發展 7 圖 6. 研究流程圖 8 圖 7. 五力分析模型 13 圖 8. 鑽石理論模型 15 圖 9. 三氟化氮分子的結構式 22 圖 10. 元素周期表，美國國家標準技術局發布 23 圖 11. HDP‑CVD（高密度電漿化學氣相沉積）反應室 25 圖 12. 2015年~2020年面板產能供給率（依產地） 27 圖 13. 玻璃基板尺寸與應用對應圖 31 圖 14. 液晶顯示器結構 34 圖 15. 液晶的基本光電特性 34 圖 16. LCD、OLED及Micro LED結構對比 36 圖 17. Normal LED與Ｍini LED比較 38 圖 18. Micro LED的側壁缺陷導致可用面積大幅縮小 40 圖 19. Micro LED生產過程 40 圖 20. 2009年~2020年全球NF3產能發展 59 圖 21. 2001年~2017年全球NF3的供給與需求情况 62 圖 22 . 現場氟氣發生器系統On-site Fluorine Generation System 64 圖 23. 氟氣產生方式 64 圖 24. S公司的五力分析 65 圖 25. 2015年三星SK Hynix記憶體全球市占率 70 圖 26. 2009年~2020年全球NF3的產業別用量（公噸） 75   表目錄 表 1. 2017年全球前十大純晶圓代工排名單位（百萬美元） 1 表 2. 2017Q4及2018Q1全球前三大DRAM市占率 2 表 3. 2014年及2015年全球前六大面板廠出貨量 3 表 4. 2016年及2017年全球電視面板出貨排名（單位千片） 3 表 5 台積電晶圓廠先進製程進度 7 表 6. SWOT分析表 10 表 7. 溫室氣體的全球暖化潛勢及其GWP數值及生命期 18 表 8. 半導體製程使用特殊氣體依氣體特性分類 20 表 9. 半導體製程使用特殊氣體依製程分類 21 表 10. 99.999% NF3 不純物規範 24 表 11. 2017Q1面板出貨面積與出貨數量比較 28 表 12. 一代線至六代線尺寸面積可切割計算 29 表 13. 六點五代線至十一代線尺寸面積可切割計算 30 表 14. Mini LED與Micro LED量產差距 39 表 15. LCD 、OLED 、Micro LED之比較 41 表 16. 三星顯示器廠別、代次、產線及產能 43 表 17. 樂金顯示器廠別、代次、產線及產能 44 表 18. AUO光電廠別、代次、產線及產能 46 表 19. 群創光電廠別、代次、產線及產能 49 表 20. 華映、翰彩與凌巨公司廠別、代次、產線及產能 50 表 21. 京東方科技公司廠別、代次、產線及產能 51 表 22. 天馬微電子公司廠別、代次、產線及產能 52 表 23. 華星光電公司廠別、代次、產線及產能 53 表 24. 中電熊貓公司廠別、代次、產線及產能 53 表 25. 惠科公司廠別、代次、產線及產能 54 表 27. 日本關東電化工業株式會社主要產品 56 表 26. 2009年~2020年全球NF3生產噸數與需求噸數 58 表 28. P公司三氟化氮氣體產品質量標準 63 表 29. 三氟化氮氣體產品質量標準比較 63 表 30. S公司的SWOT分析 66 表 31. 2016年Ｗorld Top 12 R&D investors 68 表 32. 2010年OECD法英德美日韓GDP投入教育比例 69 表 33. 2010年OECD法英德美日韓高等教育支出公私比例 69

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