研究生: |
吳政緯 Wu Cheng-Wei |
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論文名稱: |
鐠鈣錳氧薄膜於電阻式記憶體之研究 Study on (Pr,Ca)MnO3 Thin Films for Nonvolatile Resistance Random Access Memory Application |
指導教授: |
吳泰伯
Wu Tai-Bor |
口試委員: | |
學位類別: |
碩士 Master |
系所名稱: |
工學院 - 材料科學工程學系 Materials Science and Engineering |
論文出版年: | 2007 |
畢業學年度: | 95 |
語文別: | 中文 |
論文頁數: | 91 |
中文關鍵詞: | 記憶體 、電阻 、鐠鈣錳氧 、鎳酸鑭 |
外文關鍵詞: | memory, resistance, PrCaMnO3, LaNiO3 |
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電阻式記憶體是屬於電壓驅動,且操作電壓小、具有超高密度潛力、讀/寫速度快、結構簡單化、可多位元記憶、耐久性佳、記憶元件面積縮小及非破壞性讀取等優點,並且擁有低成本的競爭力,缺點是目前電阻轉換機制仍舊不明確,因此對於材料的掌握度不足,但其發展潛力深受市場矚目,現已成為業界不少公司的研究重點。
本論文的方向主要集中在探討鐠鈣錳氧(PCMO)薄膜厚度與鐠鈣錳氧薄膜性質對電阻轉換效應(Resistance Switching Effect, Rhigh/RLow )的影響性。並藉由熱處理,希望能進一步改善電阻轉換效應,從中並試圖了解電阻轉換效應的工作機制來源。
改變鐠鈣錳氧薄膜厚度對於電阻轉換效率並無顯著幫助;然而,施以適當的熱處理時,電阻轉換效應能夠明顯提升。研究最後發現電阻轉換效應的產生,推測與鐠鈣錳氧薄膜之Mn+4/Mn+3比值有關。
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