研究生: |
鮮思康 Hsien, Szu-Kang |
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論文名稱: |
超薄氧化層在深次微米元件應用之研究 A Study of Ultra-thin Gate Oxides on Deep Sub-micron Devices |
指導教授: |
黃倉秀
Huang, Tsung-Shiew |
口試委員: | |
學位類別: |
碩士 Master |
系所名稱: |
工學院 - 材料科學工程學系 Materials Science and Engineering |
畢業學年度: | 85 |
語文別: | 英文 |
論文頁數: | 39 |
相關次數: | 點閱:4 下載:0 |
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